CN112582567A - 一种有机电致发光器件及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种有机电致发光器件及其制备方法，有机电致发光器件包括透明电极层和设置于所述透明电极层上的有机功能层和金属阴极层，透明电极层与有机功能层之间设有呈起伏状的透明电阻层，有机功能层表面呈起伏状设置于起伏状的透明电阻层上。本发明通过在透明电极层及有机功能层之间设置具有起伏结构的透明电阻层，同时伴随有机功能层及反射阴极层的起伏，一定程度上消除了阴极金属平整表面的等离子模式损失；通过设置合适的厚度、电阻值和透光率，使透明电阻层兼有防止屏体短路失效及提高光输出效率的优点。

Description

一种有机电致发光器件及其制备方法

技术领域

本发明涉及OLED器件技术领域，具体涉及一种有机电致发光器件及其制备方法。

背景技术

OLED屏体以超薄、大面积均匀性高、散热性优等特点被广泛使用，因为OLED器件的有机层总厚度在数十到数百纳米级别，所以OLED阳极和阴极之间的距离特别小，而在OLED屏体制备过程中，周围环境中灰尘颗粒、毛刺、针孔、裂纹等缺陷点都不可避免地会附着在OLED各层中，缺陷点会导致阳极和阴极直接接触，发生短路，所有的电流都流经短路点，产生大量的热量以燃烧、烧蚀、破裂的方式导致OLED屏体失效。

现有的防短路技术，主要有两种方式，一种是通过增加有机层的厚度来覆盖缺陷点，但该种方式要求OLED器件采用更高的驱动电压从而导致器件的效率降低，并且该种方式并不能完全消除短路点，在加厚蒸镀过程中还会产生灰尘颗粒等，因为缺陷的尺寸在纳米到微米不等，该种方式没有办法完全解决，只能起到部分缺陷点覆盖的作用。另一种方式是利用结构或者材料制作防短路部，例如中国专利文献CN105103330B中采用导电连接单元和第一电极的载流单元或者辅助电极，虽然该种方式有效提高可靠性，但是防短路部的存在会导致器件的开口率降低，也是间接地降低了器件的效率。

发明内容

因此，本发明目的是解决现有发光器件功能单一，通过结构、电阻、透光率等调整，使发光器件的功能层兼有光取出及防短路功能，提高器件的开口率及器件的效率。为此，本发明提供了一种有机电致发光器件及其制备方法。

为实现上述发明目的，本发明采用如下技术方案：

一方面，本发明提供了一种有机电致发光器件，包括透明电极层和设置于所述透明电极层上的有机功能层和金属阴极层，所述透明电极层与所述有机功能层之间设有呈起伏状的透明电阻层，所述有机功能层表面呈起伏状设置于起伏状的所述透明电阻层上。

所述透明电阻层包括沉积在所述透明电极层上的呈多孔状连续的第一电阻层和沉积在所述第一电阻层表面上呈连续起伏状设置的第二电阻层，所述有机功能层沉积于所述第二电阻层上。

所述第一电阻层为氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层，其厚度为50nm-300nm，所述第一电阻层上形成有网格或多孔结构，所述网格或多孔结构由若干个三角形孔、方形孔、圆形孔、多边形孔中的一种或多种孔型的组合，所述网格或多孔结构的开孔面积占整个所述第一电阻层表面面积的30％-70％。

所述第二电阻层为可导电类化合物，其厚度为50nm-300nm，其面电阻为10³Ω/□-10⁷Ω/□；所述有机电致发光器件中的面电流流经所述透明电阻层时所产生的等效电阻值为其总体电阻值的5％-30％。

或优选地，所述透明电极层表面上形成网格或多孔结构，所述网格或多孔结构由若干个三角形孔、方形孔、圆形孔、多边形孔中的一种孔型或多种孔型的组合，所述网格或多孔结构的开孔面积占整个所述透明电极层表面面积的30％-70％；所述透明电极层上沉积有连续的第二电极层，所述透明电阻层覆盖于所述第二电极层上。

所述网格或多孔结构通过干法或湿法刻蚀方式形成，所述网格或多孔结构所形成的Taper角度为10°-80°，优选30°-60°。

所述透明电阻层为氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层，其厚度为50nm-300nm，其面电阻为10³Ω/□-10⁷Ω/□，比如选用氧化钼或氧化钨无机层；所述有机电致发光器件中的面电流流经所述透明电阻层时所产生的等效电阻值为其总体电阻值的5％-30％。

所述透明电极层的厚度为80nm-150nm,所述第二电极层的厚度为30nm-200nm。

进一步地，所述有机功能层上蒸镀有表面呈起伏状的金属阴极层。

另一方面，本发明还提供了一种有机电致发光器件的制备方法，包括如下步骤：

步骤1，在基板上溅射透明电极层；

步骤2，在透明电极层上沉积连续的第一电阻层，通过刻蚀将第一电阻层制备成网格或多孔结构，第一电阻层在透明电极层上形成起伏状形貌结构；

步骤3，在第一电阻层上通过溅射、蒸镀或化学气相沉积方式制备连续的呈起伏状的第二电阻层；

步骤4，在起伏状的第二电阻层的表面依次沉积起伏状的有机功能层和蒸镀起伏状的金属阴极层。

本发明还提供了一种有机电致发光器件的制备方法，包括如下步骤：

步骤1，在基板上溅射透明电极层，通过刻蚀方法在透明电极层表面形成网状或多孔结构，使透明电极层的表面形成起伏状的形貌结构；

步骤2，在透明电极层上沉积连续的第二电极层，第二电极层在透明电极层上形成起伏状形貌结构；

步骤3，在第二电极层上通过溅射、蒸镀或化学气相沉积方式制备连续的起伏状透明电阻层；

步骤4，在起伏的透明电阻层的表面依次沉积起伏状的有机功能层和蒸镀起伏状的金属阴极层。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有如下有益效果：

A.本发明通过在透明电极层及有机功能层之间设置具有起伏结构的透明电阻层，同时伴随有机功能层及反射阴极层的起伏，一定程度上消除了阴极金属平整表面的等离子模式损失；通过设置合适的厚度、电阻值和透光率，使透明电阻层兼有防止器件短路失效及提高光输出效率的优点。

B.本发明中的透明电阻层采用表面起伏的氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层的功函数在4.5-5.4eV之间，当置于OLED器件后，OLED面电流流经透明电阻层的等效电阻值为OLED特定使用亮度(500～5000nit)下器件总体电阻值的5％-30％，不会造成器件驱动电压的大幅上升。

C.本发明选用的透明电阻层选材为氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层，所形成的无机膜层面电阻为10³Ω/□-10⁷Ω/□，起到防止OLED膜层缺陷导致的漏电流及器件失效的作用，通过选用无机膜层可以避免因为有机膜层在大电流导致的高温下存在材料分解击穿问题，因为无机膜层不会因电流导致的温度升高而使膜层破损，从而阻止了器件的失效。

D.本发明采用透明电阻层与透明电极层交错起伏，通过实验证明，本发明改变了透明电极层表面的全反射，在一定程度增强了器件的光取出效果。

E.本发明所采用的透明电阻层，在一定程度上覆盖了基板表面原有的微小颗粒物，降低了缺陷的产生。

F.本发明设置起伏状结构的透明电阻层，在一定程度上改变了屏体表面的镜面反射，使得屏体表面有一定雾化效果，降低了因环境光导致的反光率，发光对比度更高，更清晰，尤其是应用于车辆或作为警示牌使用时，更有利于人们观察，应用效果更佳。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1-1至图1-5为本发明所提供的实施例1制作过程图示；

图2-1至图2-5为本发明所提供的实施例2制作过程图示；

图3是本发明所提供的在第一电阻层或透明电极层上所成型的网格或多孔结构图示。

图4是本发明所提供的有机电致发光器件作为三角警示符号应用。

附图标记说明：

1-基板；2-透明电极层；3-透明电阻层，31-第一电阻层，32-第二电阻层；4-有机功能层；5-第二电极层，6-金属阴极层；a-网格或多孔结构。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

本发明可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本发明的构思充分传达给本领域技术人员，本发明将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当元件例如层、区域或基板被称作“形成在”或“设置在”另一元件“上”时，该元件可以直接设置在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，当元件被称作“直接形成在”或“直接设置在”另一元件上时，不存在中间元件。

此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

实施例1

如图1-5所示，本发明提供了一种有机电致发光器件，包括基板1、透明电极层2、设置于透明电极层2上的有机功能层4及金属阴极层6，透明电极层2与有机功能层4之间设有呈起伏状的透明电阻层3，有机功能层4表面呈起伏状设置于起伏状的透明电阻层3上。通过在透明电极层上设计透明电阻层，使透明电阻层呈表面起伏状，以及伴随的有机功能层4及反射金属阴极层6的起伏，在一定程度上消除了金属阴极层6平整表面的等离子模式损失；同时该透明电阻层的存在，杜绝了因异物引起的透明电极层与金属阴极层的短接问题，避免了缺陷电流。这里的透明电阻层3优选地包括两层结构，包括沉积在透明电极层2上的呈多孔状连续的第一电阻层31和沉积在第一电阻层31表面上呈连续起伏状设置的第二电阻层32，有机功能层4沉积于第二电阻层32上。第一电阻层31为氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层，比如采用氧化钼、氧化铼、氧化钨、氧化钒、氧化铟、氧化锌等氧化物电阻层，氟化铋、氟化铼等氟化物电阻层或硫化物电阻层，其厚度为50nm-300nm，第一电阻层31上所形成网格或多孔结构a，网格或多孔结构a为上下口径相同或不同的若干个三角形孔、方形孔、圆形孔、多边形孔中的一种孔型或多种孔型的组合，比如采用上下等口径的圆形孔时，其孔径为5μm-500μm,优选为6μm-30μm，网格或多孔结构a的开孔面积占整个第一电阻层31表面面积的30％-70％，如图1-3所示。其中第二电阻层32为可导电类化合物，比如可导电的金属氧化物层(氧化钼、氧化铼、氧化钨等)，其厚度为50nm-300nm，优选为60nm-100nm，其面电阻为10³Ω/□-10⁷Ω/□，优选为10⁴-10⁵Ω/□。在此采用无机的透明电阻层3作为防短路层，所选材料的功函数在4.5-5.4eV之间，使用OLED发光器件时，OLED面电流流经该无机的透明电阻层的等效电阻值为OLED特定使用亮度下发光器件总体电阻值的5％-30％，不会造成发光器件驱动电压的大幅上升，其中OLED的特定使用亮度为500～50000nit，优选范围为500～5000nit。

同时，本发明中的透明电阻层选用无机膜层形式，比如氧化钼或氧化钨等，其膜层面电阻为10³Ω/□-10⁷Ω/□，起到防止OLED膜层缺陷导致的漏电流及屏体失效的作用；采用膜层面电阻为10³Ω/□-10⁷Ω/□的无机膜层，是因为有机膜层在大电流导致的高温下存在材料分解击穿问题，而无机膜层不会因大电流导致温度升高、膜层破损，从而阻止了发光器件的失效。

具体的制备方法如下：

【S1】在基板上溅射透明电极层。溅射100nm的透明电极层，如图1-1所示。

【S2】在透明电极层上沉积连续的第一电阻层，通过刻蚀将第一电阻层制备成网格或多孔结构的氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层，第一电阻层在透明电极层上形成起伏状形貌结构。第一电阻层的层厚度在50nm-300nm，优选为60nm-100nm，通过刻蚀的方式将第一电阻层制备为网格或者多孔结构，该膜层上的最大孔径为5μm-500μm。网格或者多孔结构上的孔可以为上下口径相同或不相同的圆形孔、三角形孔、方形孔、多边形孔等多种几何形状，使第一电阻层呈现出起伏化的形貌结构，如图1-2所示。

【S3】在第一电阻层上通过溅射、蒸镀或化学气相沉积方式制备连续的呈起伏状的可导电类化合物的第二电阻层。比如采用可导电的金属氧化物类化合物，可以采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等方式制备。例如第二电阻层选择50nm-300nm厚度的如氧化钼或氧化钨等金属氧化物,优选为60nm-100nm，如图1-3所示。

【S4】在起伏状的第二电阻层的表面依次沉积起伏状的有机功能层和蒸镀起伏状的金属阴极层。有机功能层包括：空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电极，也可以含有电子阻挡层或空穴阻挡层等，如图1-4和图1-5所示。

为了验证该起伏状无机防短路层的效果，分别制备了如下三种发光器件进行分析和对比。

第一种为常规器件，常规结构为在透明电极层上依次沉积有机功能层和金属阴极层。

第二种为在常规器件的基础上，在透明电极层上形成平面化的无机透明电阻层，透明电阻层本身电阻及该层与透明电极层界面及有机层界面间的总体电压上升，该等效电阻我们把它视为该防短路层电阻；再依次在其上沉积有机功能层和金属阴极层。

第三种为在常规器件的基础上形成起伏状的透明电阻层，再依次在其上沉积有机功能层和金属阴极层。

由于OLED为二极管发光器件，没有固定电阻值，设置发光器件在3.7V的恒定电压下工作，选取单位面积为1*1cm²的发光器件进行分析，合计在该电压下发光器件的等效电阻值。

由上表中通过比较可以看出，器件2单纯引入平面化无机的透明电阻层，导致了器件总体电阻上升，特定电压下输入电流不足，不能达到常规器件对应的亮度。通过调高电压，发光器件亮度均衡时，驱动电压增加了0.5V左右。

而发光器件3采用了起伏状的透明电阻层作为光取出结构，得益于发光器件3光取出效率提升，发光器件3的驱动电压基本与常规发光器件1保持一致，而且电流获得降低，电流效率增加。

基于多样本发光器件1、2、3的统计得出，发光器件1中的少量器件会产生因partical引起的短路现象，但发光器件2、3不会出现短路失效现象。发光器件2、3不容易出现短路烧毁，原因如下：1)由于透明电阻层为无机层，不会因漏电流热量聚集造成大面积烧毁；2)透明电阻层自身具有一定覆盖partical效果；3)透明电阻层具有一定电阻值，限定了通过缺陷点的电流不会过大等。

可以看出透明电阻层的引入，大幅提高了屏体效率，且解决了发光器件的短路失效问题。

实施例2

如图2-5所示，本发明还提供了一种具有光取出结构的防短路发光器件，包括基板1、透明电极层2、设置于透明电极层2上的有机功能层4及金属阴极层6，透明电极层2与有机功能层4之间设有呈起伏状的透明电阻层3，有机功能层4表面呈起伏状设置于起伏状的透明电阻层3上。如图3所示，在透明电极层2表面上形成网格或多孔结构a，图中的网格或多孔结构a为上下口径相等或不等的圆孔，其最大孔径5μm-500μm，当然还可以为上下口径相同或不同的三角形孔、方形孔等多边形孔，多边形孔中最大口径处的两边长上对应两点的最远距离为5μm-500μm。网格或多孔结构a的开孔面积占整个透明电极层2表面面积的30％-70％；透明电极层2上沉积有连续的第二电极层5，透明电阻层3呈起伏状覆盖于第二电极层5上。

在起伏状的透明电极层与有机功能层之间，设置起伏状的第二电极层5和透明电阻层3，透明电阻层3采用氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层(属于无机材料)，其作为无机防短路层所采用的材料功函数在4.5-5.4eV之间，制成OLED器件后，OLED面电流流经该无机层的等效电阻值为OLED特定使用亮度下器件总体电阻值的5％-30％之间，不会造成器件驱动电压的大幅上升，其中OLED的特定使用亮度为500～50000nit，优选范围为500～5000nit。

本实施例通过在起伏状的透明电极层2与有机功能层4之间设置起伏状的第二电极层5和透明电阻层3，透明电阻层3可以选用氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层，比如氧化钼、氧化铼、氧化钨、氧化钒、氧化铟、氧化锌、氟化铋和氟化铼等，其厚度50nm-300nm，优选60nm-100nm，其面电阻为10³Ω/□-10⁷Ω/□，优选为10⁴Ω/□-10⁵Ω/□，起到防止OLED膜层缺陷导致的漏电流及屏体失效的作用；之所以选用该电阻范围的无机膜层，是因为有机膜层在大电流导致的高温下存在材料分解击穿问题，而无机膜层不会因电流导致的温度升高而使膜层破损，从而阻止了发光器件的失效。

采用透明电阻层3与透明电极层2呈交错设置，改变了透明电极层表面的全反射，一定程度增强了器件光取出效果。

这里的透明电极层2的厚度优选为100nm,第二电极层5的厚度为30nm-200nm，优选为50nm-100nm。

具体的制备方法如下：

【S1】在基板上溅射透明电极层，通过刻蚀方法在透明电极层表面形成网状或多孔结构，使透明电极层的表面形成起伏状的形貌结构，如图2-1所示。

通过在基板上溅射100nm的透明电极层(ITO层)，并在透明电极层表面进行刻蚀，形成多孔结构。该膜层圆形孔径在5μm-500μm间,进一步优选为6μm-30μm孔，当然还可以为上下口径相同或不同的三角形孔、方形孔等多边形孔结构，采用多边形孔结构时，多边形孔中最大口径处的两边长上对应两点的最远距离为5μm-500μm，孔所占面积为整体面积的30％-70％之间。

本发明设定透明电极层的目的是实现起伏化的形貌结构，Taper角(倾角)β为40°。

【S2】在透明电极层上沉积连续的第二电极层，第二电极层在透明电极层上形成起伏状形貌结构.该层厚度在30nm-200nm，优选为50nm-100nm，该层沉积在透明电极层上，制备形成一个连续起伏状的透明电极层，如图2-2所示。

【S3】在第二电极层上通过溅射、蒸镀或化学气相沉积方式制备连续的起伏状透明电阻层。如图2-3所示，透明电阻层可以选择为氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层，采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等方式制备，该层优选为厚度50nm-300nm的氧化钼或氧化钨无机层，优选为60nm-100nm。

【S4】在起伏的透明电阻层的表面依次沉积起伏状的有机功能层和蒸镀起伏状的金属阴极层。其中的有机功能层包括：空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电极，也可以含有电子阻挡层或空穴阻挡层等。

为了验证该起伏状无机防短路层的效果，分别制备了如下三种发光器件进行分析和对比。

第一种为常规器件，常规结构为在透明电极层依次沉积有机功能层和金属阴极层。

第二种为在常规器件的基础上，在平面化的透明电极层上形成无机的透明电阻层，透明电阻层本身电阻及该层与透明电极层界面及有机层界面间的总体电压上升，该等效电阻我们把它视为该防短路层电阻；再依次在其上沉积有机功能层和金属阴极层。

第三种为在常规器件的基础上在起伏状的透明电极层上形成相应起伏状的第二电极层与起伏状的透明电阻层，再形成有机功能层和沉积金属阴极层。

由于OLED为二极管发光器件，没有固定电阻值，设置发光器件在3.7V的恒定电压下工作，选取单位面积为1*1cm²的发光器件进行分析，合计在该电压下发光器件的等效电阻值。

由比较可以看出，器件4单纯引入平面化的透明电极层，导致了发光器件4总体电阻上升，特定电压下输入电流不足，不能达到常规发光器件1对应的亮度。通过调高电压，发光器件4亮度均衡时，驱动电压增加了0.5V左右。

而发光器件5采用了起伏状的透明电极层和透明电阻层作为光取出结构，得益于发光器件光取出效率提升，发光器件5的驱动电压基本与常规发光器件1保持一致，而且电流获得降低，电流效率增加。

基于多样本发光器件1、4、5的统计得出，发光器件1少量器件会产生因partical引起的短路现象，但发光器件4、5不会出现短路失效现象。发光器件4、5不容易出现短路烧毁，原因如下：1)由于透明电阻层为无机层，不会因漏电流热量聚集造成大面积烧毁；2)透明电阻层具有一定覆盖partical效果；3)由于透明电阻层具有一定电阻值，限定了通过缺陷点的电流不会过大等。

尤其是对于发光器件5，可以看出起伏状的透明电极层的引入，大幅提高了屏体效率，且解决了发光器件的短路失效问题，通过加入表面起伏状的透明电极层，兼有防止屏体短路失效及提高光输出效率的优点。

当然，本发明中所成型的起伏层也可以通过金属层栅格、或其他功能层的起伏化引起。起伏化过程可以采用干法刻蚀或湿法刻蚀等手段，起伏尺度在5μm-500μm间，Taper角(倾角)β为10°-80°。

实施例3

在实施例2的基础上，本实施例对透明电极2表面上形成的网格或多孔结构进行刻蚀，刻蚀出如图2-5所示的Taper角(倾角)β分别为10°、20°、30°、40°、50°、60°、70°、80°，下表为对应角度的性能情况对比。

由比较可以看出，不同Taper角β，光取出效率不同，Taper角β为30°-60°时，上表中器件所产生通过电流最小，且亮度最高，这是由于Taper角β大于60°时，会造成个别膜层在倾角部分，覆盖不充分，容易产生缺陷漏电；Taper角β小于30°时，由于起伏状态不明显而不能有效改变光的方向及阴极的形貌。当然，本发明中所形成的起伏层也可以通过金属层栅格、或其他功能层的起伏化引起。起伏化过程可以采用干法刻蚀或湿法刻蚀等手段，起伏尺度在5μm-500μm间，Taper角(倾角)β优选30-60°。

实施例4

在本实施例中器件的制备方式同实施例2，但所述发光图形为非单一规则发光图形，例如图4所示的显示三角警示符号。

采用上表中常规器件1制成的图4结构的屏体，外界光线照射在屏体表面，容易产生较强镜面反射，无法看清显示内容。

采用上表中器件5制成的图4结构的屏体，由于在器件中采用了具有起伏状结构的透明电阻层和有机功能层，起伏状结构的屏体具有很好的漫反射作用，从而改变了屏体表面的镜面反射，使得屏体表面有一定雾化效果，降低了因环境光导致的反光率，发光对比度更高，更清晰，还可应用于车辆或作为警示牌使用，更有利于人们观察，应用效果更佳。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种有机电致发光器件，包括透明电极层(2)和设置于所述透明电极层(2)上的有机功能层(4)和金属阴极层(6)，其特征在于，所述透明电极层(2)与所述有机功能层(4)之间设有呈起伏状的透明电阻层(3)，所述有机功能层(4)表面呈起伏状设置于起伏状的所述透明电阻层(3)上。

2.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述透明电阻层(3)包括沉积在所述透明电极层(2)上的呈多孔状连续的第一电阻层(31)和沉积在所述第一电阻层(31)表面上呈连续起伏状设置的第二电阻层(32)，所述有机功能层(4)沉积于所述第二电阻层(32)上。

3.根据权利要求2所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述第一电阻层(31)为氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层，其厚度为50nm-300nm，所述第一电阻层(31)上形成有网格或多孔结构(a)，所述网格或多孔结构(a)由若干个三角形孔、方形孔、圆形孔、多边形孔中的一种或多种孔型的组合，所述网格或多孔结构(a)的开孔面积占整个所述第一电阻层(31)表面面积的30％-70％。

4.根据权利要求2所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述第二电阻层(32)为可导电类化合物，其厚度为50nm-300nm，其面电阻为

所述有机电致发光器件中的面电流流经所述透明电阻层时所产生的等效电阻值为所述有机电致发光器件的总体电阻值的5％-30％。

5.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述透明电极层(2)表面上形成网格或多孔结构(a)，所述网格或多孔结构(a)由若干个三角形孔、方形孔、圆形孔、多边形孔中的一种孔型或多种孔型的组合，所述网格或多孔结构(a)的开孔面积占整个所述透明电极层(2)表面面积的30％-70％；所述透明电极层(2)上沉积有连续的第二电极层(5)，所述透明电阻层(3)覆盖于所述第二电极层(5)上。

6.根据权利要求3或5所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述网格或多孔结构(a)通过干法或湿法刻蚀方式形成，所述网格或多孔结构(a)所形成的Taper角度为10°-80°，优选30°-60°。

7.根据权利要求5所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述透明电阻层(3)为氧族元素金属化合物膜层或卤族元素金属化合物膜层，其厚度为50nm-300nm，其面电阻为

所述有机电致发光器件中的面电流流经所述透明电阻层时所产生的等效电阻值为其总体电阻值的5％-30％。

8.根据权利要求5所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述透明电极层(2)的厚度为80nm-150nm,所述第二电极层(5)的厚度为30nm-200nm。

9.一种有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

步骤1，在基板上溅射透明电极层；

步骤2，在透明电极层上沉积连续的第一电阻层，通过刻蚀将第一电阻层制备成网格或多孔结构，第一电阻层在透明电极层上形成起伏状形貌结构；

步骤3，在第一电阻层上通过溅射、蒸镀或化学气相沉积方式制备连续的呈起伏状的第二电阻层；

步骤4，在起伏状的第二电阻层的表面依次沉积起伏状的有机功能层和蒸镀起伏状的金属阴极层。

10.一种有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

步骤1，在基板上溅射透明电极层，通过刻蚀方法在透明电极层表面形成网状或多孔结构，使透明电极层的表面形成起伏状的形貌结构；

步骤2，在透明电极层上沉积连续的第二电极层，第二电极层在透明电极层上形成起伏状形貌结构；

步骤3，在第二电极层上通过溅射、蒸镀或化学气相沉积方式制备连续的起伏状透明电阻层；

步骤4，在起伏的透明电阻层的表面依次沉积起伏状的有机功能层和蒸镀起伏状的金属阴极层。

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