CN111599937A - 一种有机发光显示面板及有机发光显示面板制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了有机发光显示面板及制备方法，包括：衬底、第一电极层、像素限定层、发光功能层、第二电极层、弹性导电墙、平坦化层和第三电极层；平坦化层位于第二电极层背离衬底的一侧表面；平坦化层包括多个第二开口；弹性导电墙位于第二开口内；弹性导电墙包括间隔设置的凸起部和凹陷部；第三电极层位于弹性导电墙背离衬底的一侧，且与凸起部接触连接；其中，凸起部的高度为H1，凹陷部的高度为H2；弹性导电墙和第三电极层在衬底上的垂直投影均与像素限定层在衬底上的垂直投影交叠；平坦化层的高度为H3，且H2<H3<H1，本发明实施例第二电极层通过弹性导电墙与第三电极层电连接，提高了弹性导电墙与第三电极层间的电性接触，以及显示面板的发光均匀性。

Description

一种有机发光显示面板及有机发光显示面板制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种有机发光显示面板及有机发光显示面板制备方法。
背景技术
近年来，有机发光显示面板在移动显示终端屏幕和显示屏上逐渐占据主流。有机发光显示面板包括阵列排布的多个子像素，每个子像素包括像素驱动电路以及与该像素驱动电路电连接的发光元件。
现有技术中每个发光元件均包括叠层设置的阳极、空穴辅助传输层、发光层、电子辅助传输层以及阴极。为了提高子像素密度，或者制备较小尺寸的显示面板，不同颜色的发光元件的空穴辅助传输层、发光层以及电子辅助传输层均为整层膜层，各个发光元件的空穴辅助传输层、发光层以及电子辅助传输层没有中断，不同像素单元之间通过像素限定层隔离。进一步，为了防止或减轻空穴在空穴注入层或空穴传输层中的横向扩散或者横向串扰，往往在像素限定层上设置凹槽以便阻断横向漏电流。
由于需要越过像素限定层，亦或者像素限定层上设置有凹槽，导致像素限定层出的阴极比较薄，电阻比较大，而且容易发生断裂，使阴极电阻上产生加大的压降，影响到有机发光显示面板的发光效率和发光均匀性。
发明内容
本发明实施例提供一种有机发光显示面板及有机发光显示面板的制备方法，实现各位置处弹性导电墙通过凸起部与第三电极层的紧密接触，以及避免阴极在像素限定层处断裂导致阴极产生压降，引起发光不均匀的问题。
第一方面，本发明实施例提供了一种有机发光显示面，包括：衬底、第一电极层、像素限定层、发光功能层、第二电极层、弹性导电墙、平坦化层和第三电极层；
所述第一电极层包括多个第一电极，且位于所述衬底上；所述像素限定层位于所述第一电极层背离所述衬底一侧；所述像素限定层包括多个第一开口；所述第一开口露出部分所述第一电极；所述发光功能层位于所述第一电极背离所述衬底一侧；所述第二电极层位于所述发光功能层背离所述衬底一侧；
所述平坦化层位于所述第二电极层背离所述衬底的一侧表面；所述平坦化层包括多个第二开口；所述弹性导电墙位于所述第二开口内；所述弹性导电墙包括间隔设置的凸起部和凹陷部；所述第三电极层位于所述弹性导电墙背离所述衬底的一侧，且与所述凸起部接触连接；
其中，所述凸起部的高度为H1，所述凹陷部的高度为H2；所述弹性导电墙和所述第三电极层在所述衬底上的垂直投影均与所述像素限定层在所述衬底上的垂直投影交叠；所述平坦化层的高度为H3，且H2<H3<H1。
第二方面，本发明实施例还提供一种有机发光显示面板的制备方法，包括：
在衬底上依次形成第一电极层、像素限定层、发光功能层和第二电极层；其中，所述第一电极层包括多个第一电极；所述像素限定层包括多个第一开口结构；所述第一开口结构露出部分所述第一电极；
在所述第二电极层上形成弹性导电墙，所述弹性导电墙包括间隔设置的凸起部和凹陷部；
形成平坦化层；所述平坦化层包括多个第二开口；所述弹性导电墙位于所述第二开口内；
形成第三电极层，所述第三电极层与所述弹性导电墙的凸起部接触连接；
其中，所述弹性导电墙以及所述第三电极层在所述衬底上的垂直投影均与所述像素限定层在所述衬底上的垂直投影交叠；所述凸起部的高度为H1，所述凹陷部的高度为H2；所述平坦化层的高度为H3，且H2<H3<H1。
本发明实施例提供的有机发光显示面板及制备方法，通过衬底基板上依次形成第一电极层、像素限定层、发光功能层、第二电极层、弹性导电墙、平坦化层和第三电极层，且平坦化层包括多个第二开口，弹性导电墙位于第二开口内，第二电极层通过弹性导电墙与第三电极层电连接，一方面可以解决由于第二电极层较薄导致的第二电极层电阻过大的问题。另一方面，若第二电极层在像素限定层位置处发生断裂，由于第二电极层还可以通过弹性导电墙与第三电极层电连接，因此还可以避免第二电极层的断裂处导致该处压降增加，进而影响发光效率和发光均匀性的问题。进一步的，由于弹性导电墙间隔设置有凸起部和凹陷部，保证了弹性导电墙的内部气流的横向流通，以及各位置处弹性导电墙通过凸起部与第三电极层的电性接触。本发明实施例提供的有机发光显示面板为一体化显示面板结构，即从衬底一侧依次制备形成有机发光显示面板各个膜层结构，无需采用两个基板对位封装的方式，因此第二电极可以与弹性导电墙紧密相连，在原子或者分子水平获得可靠的电性连接。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种有机发光显示面板的结构示意图；
图2是图1提供的有机发光显示面板沿AA'的剖面结构示意图；
图3是图1提供的有机发光显示面板沿BB'的剖面结构示意图；
图4是本发明实施例提供的另一有机发光显示面板的剖面结构示意图；
图5是本发明实施例提供的又一有机发光显示面板的剖面结构示意图；
图6是本发明实施例提供的又一有机发光显示面板的剖面结构示意图；
图7是本发明实施例提供的又一有机发光显示面板的剖面结构示意图；
图8为本发明实施例提供的另一种有机发光显示面板的结构示意图；
图9为本发明实施例提供的一种有机发光显示面板的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1为本发明实施例提供的一种有机发光显示面板的结构示意图，图2是图1提供的有机发光显示面板沿AA'的剖面结构示意图，图3是图1提供的有机发光显示面板沿BB'的剖面结构示意图，如图1、图2和图3所示所示，有机发光显示面板包括：衬底11、第一电极层12、像素限定层13、发光功能层14、第二电极层15、弹性导电墙16、平坦化层17和第三电极层18。第一电极层12包括多个第一电极121，且位于衬底11上，像素限定层13位于第一电极层12背离衬底11一侧，像素限定层13包括多个第一开口131，第一开口131露出部分第一电极121，发光功能层14位于第一电极121背离衬底11一侧，第二电极层15位于发光功能层14背离衬底11一侧。平坦化层17位于第二电极层15背离衬底11的一侧表面，平坦化层17包括多个第二开口171，弹性导电墙16位于第二开口171内，弹性导电墙16包括间隔设置的凸起部161和凹陷部162，第三电极层18位于弹性导电墙16背离衬底11的一侧，且与凸起部161接触连接。其中，凸起部161的高度为H1，凹陷部162的高度为H2，弹性导电墙16和第三电极层18在衬底11上的垂直投影均与像素限定层13在衬底11上的垂直投影交叠，平坦化层17的高度为H3，且H2<H3<H1。
结合图1、图2和图3，第一开口131对应位置为一个子像素区域，该区域上的第一电极121、发光功能层14以及第二电极层15形成一发光元件，其中发光功能层14例如可以包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层以及电子注入层等膜层。为了提高子像素密度，或者制备较小尺寸的显示面板，发光元件的发光功能层14可以设置为整层膜层，即各个发光元件的电子传输层、空穴传输层、发光层、电子注入层以及空穴注入层没有中断，均越过相邻子像素之间的像素限定层13，从而避免了使用多张掩膜来分别蒸发不同发光元件的各膜层。进一步，为了防止或减轻空穴在空穴注入层或空穴传输层中的横向扩散或者横向串扰，还可以通过在相邻两子像素之间的像素限定层13上设置凹槽结构30以增加相邻两个子像素区域的漏电流在空穴注入层等膜层中的传输路径，从而便阻断横向漏电流，进而提升显示面板的显示效果。
需要说明的是，本发明实施例对像素限定层13上是否设置凹槽结构30不做限定，像素限定层13中设置凹槽结构30时，跨越像素限定层13的第二电极层15出现断裂的风险更大，因此对于本发明实施例提供的方案对于像素限定层15中设置凹槽结构30的情况也适用。
本发明实施例通过在衬底11上依次形成第一电极层12、像素限定层13、发光功能层14、第二电极层15、弹性导电墙16、平坦化层17和第三电极层18，第二电极层15通过弹性导电墙16与第三电极层18电连接，一方面可以解决由于第二电极层15较薄导致的第二电极层15电阻过大的问题。另一方面，若第二电极层15在像素限定层13位置处发生断裂，由于第二电极层15还可以通过弹性导电墙16与第三电极层18电连接，因此还可以避免第二电极层15的断裂处导致该处压降增加的问题。此外，由于弹性导电墙16包括间隔设置凸起部161或凹陷部162，在保证弹性导电墙16具有弹性的同时保证了弹性导电墙16的内部气流的横向流通，实现各位置处弹性导电墙16通过凸起部161与第三电极层18的紧密接触。由于在不同像素限定层上形成的弹性导电墙存在高度差异，通过涂布的方式在弹性导电墙上形成平坦化层，固化前呈液体状态的平坦化层能够在相邻子像素之间通过凹陷部做横向流动，从而实现不同相邻子像素处平坦化层背离衬底一侧的表面持平的效果。本发明实施例提供的有机发光显示面板为一体化显示面板结构，即从衬底一侧依次制备形成有机发光显示面板各个膜层结构，无需采用两个基板对位封装的方式，因此第二电极可以与弹性导电墙紧密相连，在原子或者分子水平获得可靠的电性连接。
可选的，在上述实施例的基础上，图4是本发明实施例提供的另一有机发光显示面板的剖面结构示意图，如图4所示，还包括多个金属连接垫19，多个金属连接垫19位于弹性导电墙16与第三电极层18之间，凸起部161通过金属连接垫19和第三电极层18相连。
如图4所示，通过在弹性导电墙16上沉积生长金属连接垫19，因此金属连接垫19可以与弹性导电墙16紧密相连，在原子或者分子水平获得可靠的电性连接。另外，由于第三电极层18一般采用金属或者金属氧化物材料，弹性导电墙16通过金属连接垫19与第三电极层18连接，可以减少因弹性导电墙16和第三电极层18表面的截然不同的化学和物理特性的差异引起的较大接触电阻的问题。
可选的，继续参见图3，有机发光显示面板还包括色阻层201，色阻层201位于平坦化层17之上，并且在凸起部161处设置有第三开口202，凸起部161通过第三开口202与第三电极层18相连。
如图3所示，通过将色阻层201设置在平坦化层17背离衬底11一侧表面，从而实现发光功能层出射的光线经过色阻层201后发出不同颜色的光进而实现彩色显示。
可选的，在上述实施例的基础上，图5是本发明实施例提供的又一种有机发光显示面板的剖面结构示意图，如图5所示，有机发光显示面板还包括反射层21，反射层21至少覆盖弹性导电墙16的至少部分侧壁。
可选的，继续参见图5，反射层21还位于弹性导电墙16与第三电极层18之间。
由于在弹性导电墙16的侧壁设置反射层21，每个子像素发射出来的光线被限制在该像素的封闭空间之内，绝大多数光线直接向上发射出去，部分大角度的光线到达弹性导电墙16侧壁的反射层21，经过一次或多次的反射后被发射出去，与使用不透光的弹性导电墙16相比，本实施例被像素限定层侧壁吸收的光线可以忽略不计，光线在子像素内损失较小，即每个子像素的发光元件出射的光线几乎全部被反射出去，提高有机发光显示面板的发光效率。
如图5所示，不仅在弹性导电墙16的侧壁设置反射层21，而且在弹性导电墙16与第三电极层18之间也形成反射层21，由于反射层21的存在，因此不需要弹性导电墙16本身吸收大角度泄漏的光线，所以弹性导电墙16的材料以及其内部掺杂的导电掺杂粒子的选择余地更大，且弹性导电墙16掺杂导电掺杂粒子后可以是透明的，也可以是不透明的。
可选的，如图6和图7所示，有机发光显示面板还包括反射层，多个金属连接垫19位于弹性导电墙16与第三电极层18之间；反射层21位于金属连接垫19朝向或背离弹性导电墙16的一侧，反射层还覆盖弹性导电墙的至少部分侧壁，图6示例性表示反射层21位于金属连接垫19朝向弹性导电墙16的一侧，图7示例性表示反射层21位于金属连接垫19背离弹性导电墙16的一侧。
可选的，反射层21与金属连接垫19的功函数差小于0.5V。
参见图6和图7，可以设置反射层21位于金属连接垫19朝向弹性导电墙16一侧，也可以设置反射层21位于金属连接垫19背离弹性导电墙16一侧。通过设置反射层21与金属连接垫19的功函数差小于0.5V，可有效防止由于金属连接垫19与反射层21材料差异而造成二者之间具有较大的接触电阻。
可选的，弹性导电墙16包括有机材料基体和导电掺杂粒子。
通过在相邻子像素色阻之间设置弹性导电墙16，实现将每个像素隔离成独立的封闭或半封闭的空间。由于有机材料存在一定的弹性，通过选取弹性导电墙16包括有机材料基体，可以实现弹性导电墙16在垂直于第二衬底方向上存在垂直伸缩性，保证弹性导电墙16良好的弹性，进一步的，通过在弹性导电墙16中掺杂导电掺杂离子，提高弹性导电墙16的电导率。
可选的，有机材料基体包括聚乙烯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯或树脂材料。
可选的，导电掺杂粒子包括碳纳米颗粒、碳纳米管、石墨烯颗粒，硅纳米颗粒或金属纳米颗粒。
通过直接在弹性导电墙16的有机材料基体中参入高比例的碳纳米颗粒、碳纳米管、石墨烯颗粒、硅纳米颗粒或金属纳米颗粒，进而提高弹性导电墙16的电导率，且掺杂的导电掺杂粒子也可以降低弹性导电墙16的透光性，可防止相邻子像素区域发光串扰问题。
可选的，弹性导电墙16中碳纳米颗粒或碳纳米管的体积比范围为10％-30％。
通过在弹性导电墙16中掺杂导电掺杂粒子，实现弹性导电墙16的较好的导电性，较低的透光性，但当弹性导电墙16中掺杂较多的导电掺杂粒子时，过多的导电掺杂粒子会影响弹性导电墙16的弹性，但当弹性导电墙16中掺杂的导电掺杂粒子较少时，此时弹性导电墙16弹性较好但导电性会降低，因此，当弹性导电墙16中碳纳米颗粒或碳纳米管的体积比在10％-30％范围之间时，弹性导电墙16可以兼顾导电性、透光性和伸缩弹性同时满足制备工艺要求。例如在聚乙烯(Poly Ethylene，PE)内掺杂的碳纳米颗粒的体积比在10％-30％，则可以实现弹性导电墙16具有较好的导电性以及较优的弹性，如果是掺入具有更好导电性的碳纳米管，可以降低碳纳米管的掺杂比例，比如掺杂的碳纳米管的体积比在3％-6％，且可以保证弹性导电墙16具有很好的弹性和导电性。
需要说明的是，有机材料基体包括聚乙烯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯或树脂材料，也可以为其它有机材料，本发明实施例不对有机材料基体的材料进行具体限定。导电掺杂粒子可以为碳纳米颗粒、碳纳米管、石墨烯颗粒，硅纳米颗粒或金属纳米颗粒也可以为其它具有导电性质的颗粒，本发明实施例不对导电掺杂粒子的性质进行具体限定。在实际设计过程中，可以综合权衡弹性导电墙16的弹性和导电性能，从而选择合适的有机材料基体以及导电掺杂粒子的材料、体积比等。
可选的，碳纳米管长度小于2um，管径小于50nm。
由于一般设置的弹性导电墙16的厚度在1微米到5微米之间，当选定弹性导电墙16中碳纳米颗粒或碳纳米管的体积比范围之后，设定碳纳米管长度小于2um，管径小于50nm，比较容易得到在满足弹性导电墙16厚度的同时，得到低阻值的弹性导电墙16，使得制备的弹性导电墙16在具有较好的导电性、较优的弹性的同时具备较小的电阻，避免制备的弹性导电墙16阻值过大影响第二电极层向弹性导电墙16的电子传输。
可选的，弹性导电墙16包括导电高分子聚合物。
进一步的，可以设置弹性导电墙16为导电高分子聚合物，通过选取导电高分子聚合物作为弹性导电墙16的主要材料，一方面，可以利用材料本身的高导电率实现第二电极层15与第三电极层18之间的电连接，另一方面，可以避免当采用刻蚀工艺制备弹性导电墙时，因弹性导电墙中掺杂有碳粉等导电颗粒而在制备弹性导电墙时存在的潜在的导电颗粒的污染。
可选的，弹性导电墙16包括导电高分子聚苯胺、聚乙炔或聚丁二烯。
采用具有较高导电性的高分子聚合物类材料，例如聚苯胺、聚乙炔或聚丁二烯，在聚苯胺、聚乙炔或聚丁二烯类型的分子结构中，碳和碳分子之间单键和双键交替排列：-CH＝CH-，且碳分子的双键中的π电子是非定域性的，沿着共轭链的π电子的移动形成了高分子聚合物导电的机理。共轭聚合物的分子链越长，π电子的数量越多，电子的活化能就越低，导电性就越好。
可选的，弹性导电墙16还包括碳纳米颗粒、碳纳米管、石墨烯颗粒、硅纳米颗粒或金属纳米颗粒掺杂粒子。
当弹性导电墙16为导电高分子聚合物时，也可以通过在弹性导电墙16中掺杂碳纳米颗粒、碳纳米管、石墨烯颗粒、硅纳米颗粒或金属纳米颗粒等粒子，进一步提高弹性导电墙16的导电性。
可选的，第三电极层18包括铬、氧化铬或氧化铟锡。
由于在弹性导电墙16背离衬底11一侧设置第三电极层18，第三电极层18与弹性导电墙16的凸起部161接触连接。通过选取第三电极层18的材料包括铬、氧化铬或氧化铟锡，可以保证第三电极层18具有较低的反射率，防止外界环境光反射可见问题，提高显示面板的显示效果。
需要说明的是，第三电极层18也可以为其它低反射率的导电材料，本发明实施例不对第三电极层18的材料进行具体限定。
可选的，第三电极层18呈网格状，或者第三电极层18包括多个平行的导电条，图1示例性表示第三电极层18呈网格状，图8示例性表示第三电极层18包括多个平行的导电条181。
由于有机发光显示面板通过多条扫描线和多条数据线限定出多个子像素，通过在相邻子像素之间的扫描线和数据线上设置第三电极层18，且第三电极层呈网格状，第三电极层18可以实现对相邻子像素之间的扫描线和数据线的遮挡，避免在相邻子像素之间出现的漏光现象进而提高显示面板的显示效果。
进一步的，设置第三电极层18包括多个平行的导电条181，例如，第三电极层18可以为多条平行于显示面板数据线的导电条181，也可以为多条平行于显示面板扫描线的导电条181。如图8所示，图8示例性表示第三电极层18为多条平行的导电条181，通过增加导电条的厚度，在保证第三电极层18导电性要求的前提下可节省材料成本，制备工艺简单。
可选的，继续参见图2，有机发光显示面板还包括保护层22，保护层22位于第三电极层18背离衬底11一侧。
在上述实施例的基础上，图9是本发明实施例提供的一种有机发光显示面板的制备方法流程图，如图9所示，有机发光显示面板的制备方法包括：
S110、在衬底上依次形成第一电极层、像素限定层、发光功能层和第二电极层，其中，第一电极层包括多个第一电极，像素限定层包括多个第一开口结构，第一开口结构露出部分第一电极。
S120、在第二电极层上形成弹性导电墙，弹性导电墙包括间隔设置的凸起部和凹陷部。
S130、形成平坦化层，平坦化层包括多个第二开口，弹性导电墙位于第二开口内。
S140、形成第三电极层，第三电极层与弹性导电墙的凸起部接触连接。
其中，弹性导电墙以及第三电极层在衬底上的垂直投影均与像素限定层在衬底上的垂直投影交叠，凸起部的高度为H1，凹陷部的高度为H2，平坦化层的高度为H3，且H2<H3<H1。
本发明实施例提供的有机发光显示面板的制备方法，首先衬底上依次形成第一电极层、像素限定层、发光功能层和第二电极层，其中，第一电极层包括多个第一电极，像素限定层包括多个第一开口结构，第一开口结构露出部分第一电极。然后在第二电极层背离衬底一侧表面采用线性涂布或者旋转涂布的方式，例如涂布上一层不少于1微米厚度的弹性导电墙，其中，弹性导电墙包括凸起部和凹陷部。在完成涂布工艺后，在不低于110℃的烘烤炉中做热烘烤或者UV硬化处理，或者进行热烘烤和UV并重的有机膜硬化工艺。在形成弹性导电墙之后，为了避免有机发光显示面板出射光线在不同膜层之间的多重反射，以及残留气体对有机发光显示面板不同膜层的影响，在形成弹性导电墙之后采用线性涂布的方式将含有有机材料的液体涂布在已经完成的弹性导电墙之上，并经过烘烤和成型形成平坦化层，最后在弹性导电墙背离衬底一侧形成第三电极层，第三电极层与弹性导电墙的凸起部接触连接。其中，弹性导电墙以及第三电极层在衬底上的垂直投影均与像素限定层在衬底上的垂直投影交叠，凸起部的高度为H1，凹陷部的高度为H2，平坦化层的高度为H3，且H2<H3<H1。
在形成弹性导电墙后采用涂布的方式形成平坦化层，在平坦化层固化前，呈液态状态的平坦化层能够在相邻子像素之间通过凹陷部做横向流动，从而实现相邻子像素处平坦化层背离衬底一侧的表面持平的效果。
进一步的，当设置弹性导电墙的凹陷部和凸起部的高度差过高时，容易造成当前像素内的大角度光线穿过该间隙进入相邻子像素的腔室内进而造成光线的串扰和混色。而当设置弹性导电墙的凹陷部和凸起部的高度差过低时，会影响弹性导电墙内部气流的横向流通，增加气流横向流通的阻碍。考虑到工艺制作的难易度以及弹性导电墙的弹性伸缩特性，可设置凹陷部的厚度D1与凸起部的厚度D2满足0.3≤D2/D1≤0.7，凸起部的长度L1与凹陷部的长度L2满足1≤L2/L1≤10即可。
由于形成弹性导电墙之后，需要形成平坦化层以及色阻层，在形成平坦化层或色阻层的过程中，会存在部分杂质沉积在弹性导电墙背离衬底一侧表面，影响弹性导电墙与第三电极层的电性接触，因此，在弹性导电墙形成平坦化层或色阻层后采用刻蚀等方式对弹性导电墙背离衬底一侧表面做刻蚀处理进而去掉沉积在弹性导电墙背离衬底一侧表面的残留物，提高弹性导电墙与第三电极层的电性接触。
本发明实施例提供的有机发光显示面板的制备方法，通过衬底基板上依次形成第一电极层、像素限定层、发光功能层、第二电极层、弹性导电墙、平坦化层和第三电极层，且平坦化层包括多个第二开口，弹性导电墙位于第二开口内，第二电极层通过弹性导电墙与第三电极层电连接，一方面可以解决由于第二电极层较薄导致的第二电极层电阻过大的问题。另一方面，若第二电极层在像素限定层位置处发生断裂，由于第二电极层还可以通过弹性导电墙与第三电极层电连接，因此还可以避免第二电极层的断裂处导致该处压降增加，进而影响发光效率和发光均匀性的问题。通过涂布的方式在弹性导电墙上形成平坦化层，固化前呈液体状态的平坦化层能够在相邻子像素之间通过凹陷部做横向流动，从而实现不同相邻子像素处平坦化层背离衬底一侧的表面持平的效果。本发明实施例提供的有机发光显示面板为一体化显示面板结构，即从衬底一侧依次制备形成有机发光显示面板各个膜层结构，无需采用两个基板对位封装的方式，因此第二电极可以与弹性导电墙紧密相连，在原子或者分子水平获得可靠的电性连接。
可选的，在形成平坦化层之后还包括：形成色阻层，色阻层在凸起部处设置有第三开口，凸起部通过第三开口与第三电极层相连。
需要说明的是，在形成平坦化层后，在平坦化层采用具有光感作用的掺有红，绿，蓝染料的树脂，分别采用三道工序做成R、G、B三色的像素色阻阵列，且形成的色阻层在凸起部处设置有第三开口，凸起部通过第三开口与第三电极层相连。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (19)

1.一种有机发光显示面板，其特征在于，包括：
衬底、第一电极层、像素限定层、发光功能层、第二电极层、弹性导电墙、平坦化层和第三电极层；
所述第一电极层包括多个第一电极，且位于所述衬底上；所述像素限定层位于所述第一电极层背离所述衬底一侧；所述像素限定层包括多个第一开口；所述第一开口露出部分所述第一电极；所述发光功能层位于所述第一电极背离所述衬底一侧；所述第二电极层位于所述发光功能层背离所述衬底一侧；
所述平坦化层位于所述第二电极层背离所述衬底的一侧表面；所述平坦化层包括多个第二开口；所述弹性导电墙位于所述第二开口内；所述弹性导电墙包括间隔设置的凸起部和凹陷部；所述第三电极层位于所述弹性导电墙背离所述衬底的一侧，且与所述凸起部接触连接；
其中，所述凸起部的高度为H1，所述凹陷部的高度为H2；所述弹性导电墙和所述第三电极层在所述衬底上的垂直投影均与所述像素限定层在所述衬底上的垂直投影交叠；所述平坦化层的高度为H3，且H2<H3<H1。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，还包括多个金属连接垫；所述多个金属连接垫位于所述弹性导电墙与所述第三电极层之间；所述凸起部通过所述金属连接垫和所述第三电极层相连。
3.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，还包括色阻层；所述色阻层位于所述平坦化层之上，并且在所述凸起部处设置有第三开口；所述凸起部通过所述第三开口与所述第三电极层相连。
4.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，还包括反射层；所述反射层至少覆盖所述弹性导电墙的至少部分侧壁。
5.根据权利要求4所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述反射层还位于所述弹性导电墙与所述第三电极层之间。
6.根据权利要求2所述的有机发光显示面板，其特征在于，还包括反射层；多个所述金属连接垫位于所述弹性导电墙与所述第三电极层之间；所述反射层位于所述金属连接垫朝向或背离所述弹性导电墙的一侧；所述反射层还覆盖所述弹性导电墙的至少部分侧壁。
7.根据权利要求6所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述反射层与所述金属连接垫的功函数差小于0.5V。
8.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述弹性导电墙包括有机材料基体和导电掺杂粒子。
9.根据权利要求8所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述有机材料基体包括聚乙烯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯或树脂材料。
10.根据权利要求9所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述导电掺杂粒子包括碳纳米颗粒、碳纳米管、石墨烯颗粒，硅纳米颗粒或金属纳米颗粒。
11.根据权利要求10所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述弹性导电墙中所述碳纳米颗粒或碳纳米管的体积比范围为10％-30％。
12.根据权利要求10所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述碳纳米管长度小于2um，管径小于50nm。
13.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述弹性导电墙包括导电高分子聚合物。
14.根据权利要求13所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述弹性导电墙包括导电高分子聚苯胺、聚乙炔或聚丁二烯。
15.根据权利要求14所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述弹性导电墙还包括碳纳米颗粒、碳纳米管、石墨烯颗粒、硅纳米颗粒或金属纳米颗粒掺杂粒子。
16.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述第三电极层包括铬、氧化铬或氧化铟锡。
17.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述第三电极层呈网格状；或者所述第三电极层包括多个平行的导电条。
18.一种有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底上依次形成第一电极层、像素限定层、发光功能层和第二电极层；其中，所述第一电极层包括多个第一电极；所述像素限定层包括多个第一开口结构；所述第一开口结构露出部分所述第一电极；
在所述第二电极层上形成弹性导电墙，所述弹性导电墙包括间隔设置的凸起部和凹陷部；
形成平坦化层；所述平坦化层包括多个第二开口；所述弹性导电墙位于所述第二开口内；
形成第三电极层，所述第三电极层与所述弹性导电墙的凸起部接触连接；
其中，所述弹性导电墙以及所述第三电极层在所述衬底上的垂直投影均与所述像素限定层在所述衬底上的垂直投影交叠；所述凸起部的高度为H1，所述凹陷部的高度为H2；所述平坦化层的高度为H3，且H2<H3<H1。
19.根据权利要求18所述的制备方法，其特征在于，在形成平坦化层之后还包括：
形成色阻层，所述色阻层在所述凸起部处设置有第三开口；所述凸起部通过所述第三开口与所述第三电极层相连。
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CB02 Change of applicant information
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Address after: Room a5-103, No.999, Wenzhong Road, Xinzhan District, Hefei City, Anhui Province, 230012

Applicant after: Vision Technology Co.,Ltd.

Address before: Room a5-103, No.999, Wenzhong Road, Xinzhan District, Hefei City, Anhui Province, 230012

Applicant before: Hefei Shiya Technology Co.,Ltd.

GR01 Patent grant
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