CN112582453B - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

一种显示装置，包括第一基板、像素结构、第二基板及抗反射结构。像素结构设置于第一基板上，且具有有源元件和电性连接至有源元件的像素电极。第二基板设置于第一基板的对向。抗反射结构设置于第二基板上，且位于第一基板与第二基板之间。抗反射结构包括第一绝缘层及金属层。第一绝缘层设置于第二基板上。金属层设置于第一绝缘层上。第一绝缘层位于第二基板与金属层之间。第一绝缘层具有一开口，金属层具有一开口，且第一绝缘层的开口及金属层的开口重叠于像素电极。

Description

显示装置
技术领域
本发明是有关于一种光电装置，且特别是有关于一种显示装置。
背景技术
在有机发光二极管的技术领域中，有源有机发光二极管(Active Matrix OrganicLight-Emitting Diode；AMOLED)被广泛应用于各种电子装置的显示面板中。其中，上发光式有源有机发光二极管(top-view OLED)的结构中，因其开口率较高，且不受薄膜晶体管数目增加的影响，故较为常见。但因其结构中具有高反射率的金属层，而需于封装盖板外贴附圆偏光片(circular polarizer)降低环境光束的反射，以防止其影响对比。
在某些电子装置(例如：手表、手机等)中，显示面板具有透视窗，而贴附于显示面板的封装盖板外的圆偏光片也具有对应的开口。基于贴合公差的考量，圆偏光片的开口尺寸会略大于显示面板的透视窗的尺寸。因此，当圆偏光片贴附于显示面板上时，显示面板的透视窗与圆偏光片的开口之间的一区域不会被圆偏光片覆盖。在显示面板点亮时，未被圆偏光片覆盖的区域与被圆偏光片覆盖的区域在视觉上会呈现明显的差异，影响电子装置的质感。
发明内容
本发明提供一种显示装置，视觉效果佳。
本发明的显示装置，包括第一基板、像素结构、第二基板及抗反射结构。像素结构设置于第一基板上，且具有有源元件和电性连接至有源元件的像素电极。第二基板设置于第一基板的对向。抗反射结构设置于第二基板上，且位于第一基板与第二基板之间。抗反射结构包括第一绝缘层及金属层。第一绝缘层设置于第二基板上。金属层设置于第一绝缘层上。第一绝缘层位于第二基板与金属层之间。第一绝缘层具有一开口，金属层具有一开口，且第一绝缘层的开口及金属层的开口重叠于像素电极。
在本发明的一实施例中，上述的第一绝缘层的开口与金属层的开口实质上切齐。
在本发明的一实施例中，上述的第一绝缘层的材料包括氧化钼或富含硅的氧化硅，且金属层的材料包括钼。
在本发明的一实施例中，上述的抗反射结构更包括：第二绝缘层，设置于金属层上，其中金属层位于第一绝缘层与第二绝缘层之间。
在本发明的一实施例中，上述的第二绝缘层具有一开口，且第二绝缘层的开口重叠于金属层的开口。
在本发明的一实施例中，上述的第二绝缘层的开口与金属层的开口实质上切齐。
在本发明的一实施例中，上述的第一绝缘层与第二绝缘层之一者的材料包括氮化硅，第一绝缘层与第二绝缘层之另一者的材料包括富含硅的氧化硅，且金属层的材料包括钼。
本发明的一实施例中，上述的第一绝缘层的材料包括富含硅的氧化硅，金属层的材料包括钼，且第二绝缘层的材料包括富含硅的氧化硅。
在本发明的一实施例中，上述的金属层的厚度大于第一绝缘层的厚度。
在本发明的一实施例中，上述的显示装置，更包括：保护层，设置于抗反射结构上，且位于抗反射结构与第一基板之间，其中保护层更设置于第一绝缘层的开口及金属层的开口中。
以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。
附图说明
图1为本发明一实施例的显示装置10的上视示意图。
图2为本发明一实施例的显示装置10的剖面示意图。
图3为本发明一实施例的显示装置10A的剖面示意图。
图4为本发明一实施例的显示装置10B的剖面示意图。
图5为本发明一实施例的显示装置10C的剖面示意图。
图6为本发明一实施例的显示装置10D的剖面示意图。
图7为本发明一实施例的显示装置10E的剖面示意图。
图8为一比较例的显示装置10’的剖面示意图。
图9示出各视角下的比较例的显示装置10’的显示面板DP的反射率及各实施例的显示装置10、10A、10B、10C的显示面板DP的反射率。
图10示出各视角下的比较例的显示装置10’的显示面板DP的色座标(L＊,a＊,b＊)与标准黑色座标(0,0,0)的色差值ΔE及各实施例的显示装置10、10A、10B、10C的显示面板DP的色座标(L＊,a＊,b＊)与标准黑色座标(0,0,0)的色差值ΔE。
其中，附图标记：
10、10A、10B、10C、10D、10E、10’:显示装置
110:第一基板
120:有源元件
130:像素电极
140:有机电致发光图案
150:共用电极
160:像素定义层
162:开口
170:间隙物
210:第二基板
220:第一绝缘层
222、232、242:实体部
224、234、244:开口
230:金属层
240:第二绝缘层
250:保护层
300:偏光片
302:开口
A-A’:剖线
ARS:抗反射结构
DP:显示面板
L:环境光束
PX:像素结构
R1:第一区
R2:第二区
R3:第三区
T1、T2、T3、T4:厚度
W:透视窗
具体实施方式
下面结合附图对本发明的结构原理和工作原理作具体的描述：
现将详细地参考本发明的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于附图中。只要有可能，相同元件符号在图式和描述中用来表示相同或相似部分。
应当理解，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。如本文所使用的，“连接”可以指物理及/或电性连接。再者，“电性连接”或“耦合”可以是二元件间存在其它元件。
本文使用的“约”、“近似”、或“实质上”包括所述值和在本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内的平均值，考虑到所讨论的测量和与测量相关的误差的特定数量(即，测量系统的限制)。例如，“约”可以表示在所述值的一个或多个标准偏差内，或±30％、±20％、±10％、±5％内。再者，本文使用的“约”、“近似”或“实质上”可依光学性质、蚀刻性质或其它性质，来选择较可接受的偏差范围或标准偏差，而可不用一个标准偏差适用全部性质。
除非另有定义，本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。将进一步理解的是，诸如在通常使用的字典中定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术和本发明的上下文中的含义一致的含义，并且将不被解释为理想化的或过度正式的意义，除非本文中明确地这样定义。
图1为本发明一实施例的显示装置10的上视示意图。
图2为本发明一实施例的显示装置10的剖面示意图。图2对应图1的剖线A-A’。
请参照图1及图2，显示装置10包括显示面板DP。显示面板DP包括第一基板110、像素结构PX、第二基板210及抗反射结构ARS。
在本实施例中，第一基板110可透光、不透光或反光；第一基板110的材料可为玻璃、石英、有机聚合物、或不透光/反射材料(例如：晶圆、陶瓷等)、或是其它可适用的材料。
像素结构PX设置于第一基板110上。像素结构PX具有有源元件120和电性连接至有源元件120的像素电极130。有源元件120可包括一薄膜晶体管，其中所述薄膜晶体管的源极电性连接至一数据线(未示出)，所述薄膜晶体管的栅极电性连接至一扫描线(未示出)，且所述薄膜晶体管的漏极电性连接至像素电极130。
举例而言，在本实施例中，像素结构PX还可包括有机电致发光图案140及共用电极150。在本实施例中，显示面板DP还包括像素定义层160，设置于像素电极130上；像素定义层160具有与像素电极130重叠的开口162，有机电致发光图案140设置于像素电极130上且位于像素定义层160的开口162中，而共用电极150设置于有机电致发光图案140上。
像素电极130、有机电致发光图案140及共用电极150可组成一有机发光二极管元件。换言之，本实施例的显示面板DP可以是有机发光二极管显示面板。然而，本发明不限于此，在其它实施例中，像素结构PX也可以是其它型式，而显示面板DP也可以是其它种类的显示器；举例而言，在另一实施例中，像素结构PX除了包括有源元件120及像素电极130之外，像素结构PX还可包括电性连接至像素电极130的微型发光二极管(μLED)，而显示面板DP也可以是微型发光二极管显示器。
第二基板210设置于第一基板110的对向。在本实施例中，第二基板210可透光；第二基板210的材料可以是玻璃、石英、有机聚合物、或是其它可适用的材料。
抗反射结构ARS设置于第二基板210上，且位于第一基板110与第二基板210之间。
抗反射结构ARS包括第一绝缘层220及金属层230。第一绝缘层220设置于第二基板210上。金属层230设置于第一绝缘层220上，其中第一绝缘层220位于第二基板210与金属层230之间。在本实施例中，抗反射结构ARS还可选择性地包括第二绝缘层240，第二绝缘层240设置于金属层230上，其中金属层230位于第一绝缘层220与第二绝缘层240之间。
举例而言，在本实施例中，第一绝缘层220的材料包括氮化硅(SiNx)，金属层230的材料包括钼(Mo)，第二绝缘层240的材料包括富含硅的氧化硅(Silicon-rich oxide；SRO)，其中氮化硅的折射率介于1.85至1.91，富含硅的氧化硅的折射率介于3.33至3.39；第一绝缘层220的厚度T1为金属层230的厚度T2为/>第二绝缘层240的厚度T3为但本发明不以此为限。
值得注意的是，抗反射结构ARS的第一绝缘层220及金属层230分别具有开口224及开口234，第一绝缘层220的开口224及金属层230的开口234重叠于像素电极130。开口224、234可为封闭(enclosed)开口。在本实施例中，第二绝缘层240也可具有开口244，其中第二绝缘层240的开口244重叠于金属层230的开口234。开口244可为封闭开口。
从另一角度而言，在本实施例中，第一绝缘层220、金属层230及第二绝缘层240分别具有实体部222、实体部232及实体部242，第一绝缘层220的实体部222、金属层230的实体部232及第二绝缘层240的实体部242并未遮蔽像素电极130所在的发光区。具体而言，在本实施例中，显示面板DP更包括间隙物170，设置于像素定义层160上。间隙物170可抵顶由第一绝缘层220的实体部222、金属层230的实体部232、第二绝缘层240的实体部242及部份的保护层250所组成的叠构，但本发明不以此为限。
在本实施例中，抗反射结构ARS的第一绝缘层220的开口224、金属层230的开口234及第二绝缘层240的开口244可利用同一光罩形成，而第一绝缘层220的开口224、金属层230的开口234及第二绝缘层240的开口244实质上可切齐，但本发明不以此为限。
此外，在本实施例中，显示装置10还包括保护层250，设置于抗反射结构ARS上，且位于抗反射结构ARS与第一基板110之间。特别是，保护层250还设置于抗反射结构ARS的第一绝缘层220的开口224及金属层230的开口234中。在本实施例中，保护层250更设置于抗反射结构ARS的第二绝缘层240的开口244中。
举例而言，在本实施例中，保护层250的材质可包括氧化硅(SiOx)；氧化硅(SiOx)的折射率介于1.49至1.53；保护层250的厚度T4可为但本发明不以此为限。
在本实施例中，显示面板DP可具有一透视窗W(示于图1)；透视窗W例如是贯穿第一基板110及第二基板210的一钻孔；但本发明不以此为限，在其它实施例中，透视窗W也可以是第一基板110及第二基板210的未设置任何遮光结构的区域。
在本实施例中，显示装置10还包括偏光片300，偏光片300设置于显示面板DP的第二基板210上，且第二基板210位于偏光片300与抗反射结构ARS之间。偏光片300可具有与显示面板DP的透视窗W重叠的开口302。显示面板DP具有第一区R1、第二区R2及第三区R3，其中偏光片300覆盖第一区R1，透视窗W位于第二区R2，第三区R3位于第一区R1与第二区R2之间且未被偏光片300覆盖。
透过抗反射结构ARS的设置，显示面板DP的第三区R3的反射率会接近于偏光片300的反射率。藉此，在环境光束L的照射下，未被点亮的显示装置10在第一区R1及第三区R3会呈现相近的视觉效果(例如：显示装置10整体看来会呈现一致的黑色)，而有助于提升显示装置10的质感。
此外，由于抗反射结构ARS的第一绝缘层220及金属层230具有开口224、234，且开口224、234与像素电极130重叠，因此，在利用抗反射结构ARS减少环境光束L反射的同时，抗反射结构ARS并不会过度影响显示面板DP的穿透率。显示装置10能兼具高质感及高穿透率。
在此必须说明的是，下述实施例沿用前述实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，下述实施例不再重述。
图3为本发明一实施例的显示装置10A的剖面示意图。图3的显示装置10A与图2的显示装置10类似，两者的差异在于：在图2的实施例中，金属层230的厚度T2小于第一绝缘层220的厚度T1和/或第二绝缘层240的厚度T3；但，在图3的实施例中，金属层230的厚度T2大于第一绝缘层220的厚度T1和/或第二绝缘层240的厚度T3。
举例而言，在图3的实施例中，第一绝缘层220的厚度T1为金属层230的厚度T2为/>第二绝缘层240的厚度T3为/>但本发明不以此为限。
图4为本发明一实施例的显示装置10B的剖面示意图。图4的显示装置10B与图3的显示装置10A类似。类似地，在图4的实施例中，第一绝缘层220的厚度T1为金属层230的厚度T2为/>第二绝缘层240的厚度T3为/>图4的显示装置10B与图3的显示装置10A的差异在于：图4的第一绝缘层220的材料与图3的第一绝缘层220的材料不同，且图4的第二绝缘层240的材料与图3的第二绝缘层240的材料不同。
具体而言，在图3的实施例中，第一绝缘层220的材料包括氮化硅(SiNx)，金属层230的材料包括钼(Mo)，第二绝缘层240的材料包括富含硅的氧化硅(Silicon-rich oxide；SRO)；但，在图4的实施例中，第一绝缘层220的材料包括富含硅的氧化硅(Silicon-richoxide；SRO)，金属层230的材料包括钼(Mo)，第二绝缘层240的材料包括氮化硅(SiNx)。
图5为本发明一实施例的显示装置10C的剖面示意图。图5的显示装置10C与图2的显示装置10类似，两者的差异在于：图5的反射结构ARS与图2的反射结构ARS不同。
图5的反射结构ARS可不包括图2的反射结构ARS的第二绝缘层240。请参照图5，具体而言，在本实施例中，反射结构ARS包括第一绝缘层220及金属层230，其中第一绝缘层220设置于第二基板210与金属层230之间。在本实施例中，第一绝缘层220的材料包括氧化钼(MoOx)，金属层230的材料包括钼(Mo)，保护层250的材料包括氧化硅(SiOx)；第一绝缘层220的厚度T1为金属层230的厚度T2为/>保护层250的厚度T4为/>但本发明不以此为限。
图6为本发明一实施例的显示装置10D的剖面示意图。图6的显示装置10D与图2的显示装置10类似，两者的差异在于：图6的反射结构ARS与图2的反射结构ARS不同。
图6的反射结构ARS可不包括图2的反射结构ARS的第二绝缘层240。请参照图6，具体而言，在本实施例中，反射结构ARS包括第一绝缘层220及金属层230，其中第一绝缘层220设置于第二基板210与金属层230之间。在本实施例中，第一绝缘层220的材料包括富含硅的氧化硅(Silicon-rich oxide；SRO)，金属层230的材料包括钼(Mo)，保护层250的材料包括氧化硅(SiOx)；第一绝缘层220的厚度T1为金属层230的厚度T2为/>保护层250的厚度T4为/>但本发明不以此为限。
图7为本发明一实施例的显示装置10E的剖面示意图。图7的显示装置10E与图2的显示装置10类似，两者的差异在于：图2的反射结构ARS的第一绝缘层220的材料与图7的反射结构ARS的第一绝缘层220的材料不同。具体而言，在图7的实施例中，反射结构ARS包括依序堆叠的第一绝缘层220、金属层230及第二绝缘层240，其中第一绝缘层220的材料包括富含硅的氧化硅，金属层230的材料包括钼，且第二绝缘层240的材料包括富含硅的氧化硅。
图8为一比较例的显示装置10’的剖面示意图。图8的显示装置10’与图2的显示装置10类似，两者的差异在于：图8的显示装置10’不包括图2的显示装置10的反射结构ARS。
图9示出各视角下的比较例的显示装置10’的显示面板DP的反射率及各实施例的显示装置10、10A、10B、10C的显示面板DP的反射率。
请参照图9，在各视角下，各实施例的显示装置10、10A、10B、10C的显示面板DP的反射率皆低于比较例的显示装置10’的显示面板DP的反射率。特别是，在大视角(例如：60°)下，各实施例的显示装置10、10A、10B、10C的显示面板DP的反射率更明显低于比较例的显示装置10’的显示面板DP的反射率。
图10示出各视角下的比较例的显示装置10’的显示面板DP的色座标(L＊,a＊,b＊)与标准黑色座标(0,0,0)的色差值ΔE及各实施例的显示装置10、10A、10B、10C的显示面板DP的色座标(L＊,a＊,b＊)与标准黑色座标(0,0,0)的色差值ΔE，其中
请参照图10，相较于比较例的显示装置10’的显示面板DP，在各视角下，各实施例的显示装置10、10A、10B、10C的显示面板DP的色座标(L＊,a＊,b＊)与标准黑色座标(0,0,0)的色差值ΔE均较小。特别是，在大视角(例如：60°)下，各实施例的显示装置10、10A、10B、10C的显示面板DP的色差值ΔE更明显低于比较例的显示装置10’的显示面板DP的色差值ΔE。
图9及图10的数据可证，透过抗反射结构ARS的设置，本发明各实施例的显示装置10、10A、10B、10C的显示面板DP的反射率及与标准黑的色差值ΔE俱低。因此，显示装置10、10A、10B、10C的贴有偏光片300的第一区R1与未贴有偏光片300第三区R3会呈现相近的视觉效果(例如：显示装置10、10A、10B、10C整体看来会呈现一致的黑色)，而显示装置10、10A、10B、10C的质感佳。
当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。

Claims (12)

1.一种显示装置，包括一显示面板，其特征在于，该显示面板包括：
一第一基板；
一像素结构，设置于该第一基板上，且具有一有源元件、电性连接至该有源元件的一像素电极以及设置于该像素电极上的有机电致发光图案和共用电极；
一第二基板，设置于该第一基板的对向；以及
一抗反射结构，设置于该第二基板上，且位于该第一基板与该第二基板之间，其中该抗反射结构包括：
一第一绝缘层，设置于该第二基板上；以及
一金属层，设置于该第一绝缘层上，其中该第一绝缘层位于该第二基板与该金属层之间，该第一绝缘层具有一开口，该金属层具有一开口，且该第一绝缘层的该开口及该金属层的该开口重叠于该像素电极；
其中，对应该像素电极所在的发光区，未设置另一金属层于该共用电极与该第二基板之间。
2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第一绝缘层的该开口与该金属层的该开口实质上切齐。
3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第一绝缘层的材料包括氧化钼或富含硅的氧化硅，且该金属层的材料包括钼。
4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该抗反射结构更包括：
一第二绝缘层，设置于该金属层上，其中该金属层位于该第一绝缘层与该第二绝缘层之间。
5.如权利要求4所述的显示装置，其特征在于，该第二绝缘层具有一开口，且该第二绝缘层的该开口重叠于该金属层的该开口。
6.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，该第二绝缘层的该开口与该金属层的该开口实质上切齐。
7.如权利要求4所述的显示装置，其特征在于，该第一绝缘层与该第二绝缘层之一者的材料包括氮化硅，该第一绝缘层与该第二绝缘层之另一者的材料包括富含硅的氧化硅，且该金属层的材料包括钼。
8.如权利要求4所述的显示装置，其特征在于，该第一绝缘层的材料包括富含硅的氧化硅，该金属层的材料包括钼，且该第二绝缘层的材料包括富含硅的氧化硅。
9.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该金属层的厚度大于该第一绝缘层的厚度。
10.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，更包括：
一保护层，设置于该抗反射结构上，且位于该抗反射结构与该第一基板之间，其中该保护层更设置于该第一绝缘层的该开口及该金属层的该开口中。
11.如权利要求1所述的显示装置，更包括：
一偏光片，设置于该第二基板上，且该第二基板位于该偏光片与该抗反射结构之间，该显示面板具有一第一区以及一第三区，其中，该偏光片覆盖该第一区，且未覆盖该第三区。
12.如权利要求11所述的显示装置，其特征在于，
该显示面板更具有一透视窗，位于该显示面板的一第二区，该第三区位于该第一区与该第二区之间；
该偏光片具有与该透视窗重叠的一开口，其中该偏光片覆盖该第一区，未覆盖该第二区与该第三区。
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