CN112558362B - 一种显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 206
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 8
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 5
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 30
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133351—Manufacturing of individual cells out of a plurality of cells, e.g. by dicing
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板；第一挡墙，设于阵列基板和彩膜基板之间，且靠近阵列基板和彩膜基板的边缘处；所述第一挡墙的长度等于其对应的阵列基板或彩膜基板的长度。本发明的有益效果在于，本发明的一种显示面板及其制备方法、显示装置，将第一基板和第二基板组立，沿切割线切割后形成若干阵列基板和彩膜基板，在切割线两侧制备第挡墙结构，能够有效支撑第一基板和第二基板，避免由于切割作用力对第一基板和第二基板造成损坏，挡墙结构采用整体板状结构，在切割时，能够有效防止外界液体或杂质进入显示面板内部，避免显示面板内部的电路发生腐蚀，提升了显示面板的良品率。
Description
技术领域
本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
目前LCD产品在客户端长时间使用后存在金属端子腐蚀的情况，易导致画面异常、黑屏等不良。
目前LCD CF PS相关设计中，针对切割支撑PS的设计采用多点排布设计，此种设计有外部腐蚀液体流入面内，腐蚀外部框胶和膜层金属的风险。
发明内容
本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，用以解决现有技术中，在切割显示面板时，会有液体进入显示面板从而造成显示面板失效的技术问题。
解决上市技术问题的技术方案是：本发明提供了一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板；第一挡墙，设于所述阵列基板和彩膜基板之间，且靠近所述阵列基板和所述彩膜基板的边缘处；所述第一挡墙的长度等于其对应的所述阵列基板或所述彩膜基板的长度。
进一步的，显示面板还包括若干第二挡墙，设于所述阵列基板和彩膜基板之间，且位于所述第一挡墙远离所述阵列基板边缘的一侧。
进一步的，所述第一挡墙与所述阵列基板边缘的距离为0～80um。
进一步的，所述第一挡墙的高度为4～6um。
进一步的，所述第一挡墙的厚度为0.5-4um。
进一步的，所述第二挡墙平行于所述阵列基板的截面形状为圆形或多边形。
本发明还提供了一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：提供第一基板，在第一基板的一侧表面制备若干第一电路结构；提供第二基板，在所述第二基板的一侧表面制备若干第二电路结构；在所述第一基板设有所述电路结构的一侧表面制备若干第一挡墙，所述第一挡墙将所述第一基板划分为若干第一区域和第二区域，其中，第一区域对应所述第一电路结构；将所述第二基板设有第二电路结构的一侧表面朝向所述第一基板，并与所述第一基板组立；在所述第二区域切割所述第一基板和所述第二基板，使得所述第一基板分为若干阵列基板，所述第二基板分为若干彩膜基板，其中，所述第一挡墙的长度等于其对应的彩膜基板或阵列基板的长度。
进一步的，所述第二区域的宽度为0～80um。
进一步的，所述第一挡墙的材料包括氧化硅、氮化硅或多晶硅中的一种。
本发明还提供了一种显示装置，包括所述显示面板。
本发明的有益效果在于，本发明的一种显示面板及其制备方法、显示装置，将第一基板和第二基板组立，沿切割线切割后形成若干阵列基板和彩膜基板，在切割线两侧制备第挡墙结构，能够有效支撑第一基板和第二基板，避免由于切割作用力对第一基板和第二基板造成损坏，挡墙结构采用整体板状结构，在切割时，能够有效防止外界液体或杂质进入显示面板内部，避免显示面板内部的电路发生腐蚀，提升了显示面板的良品率。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1是实施例中第一基板和第二基板结构示意图。
图2是实施例中彩膜基板平面示意图。
图3是实施例中第二基板平面示意图。
图4是实施例中显示面板结构示意图。
图中标号
显示面板1； 阵列基板110；
彩膜基板120； 第一挡墙130；
第二挡墙140； 第一基板11；
第二基板12； 切割线101；
切割刀102。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
实施例
本实施例中，本发明的显示装置包括显示面板1。
如图4所示，其中，显示面板1包括阵列基板110、彩膜基板120、第一挡墙130和第二挡墙140。
其中，阵列基板110和彩膜基板120相对设置，在阵列基板110朝向彩膜基板120的一侧表面设有若干薄膜晶体管单元，所述薄膜晶体管单元起到开关的作用，用控制显示面板1的单位像素明暗。
在彩膜基板120靠近阵列基板110的一侧表面同样设有若干像素电路，以及像素电路之间的像素单元，其中，像素电路用以传输电信号，像素单元包括若干彩色过滤片，包括红色过滤片、蓝色过滤片以及绿色过滤片，通过三原色的叠加原理，可以实现显示面板1的全彩显示。
在阵列基板110和彩膜基板120之间还设有其他膜层，如液晶层等，为了保证显示面板1的盒厚均匀，一般采用挡墙支撑阵列基板110和彩膜基板120，挡墙设于阵列基板110和彩膜基板120的边缘处，尽量减小挡墙对显示面板1的屏占比的不良影响。
目前，显示面板1通常的制备方法是在一整块第一基板11上制备若干阵列基板110结构，在一整块第二基板12上制备若干彩膜基板120结构，同时制备若干阵列基板110结构和若干彩膜基板120结构，节约了单个阵列基板110或彩膜基板120的制备时间，有利于大批量生产。
如图3所示，本实施例中，第一基板11上有两行三列阵列基板110结构，即每一基板11上能够制备六个阵列基板110，同样的，第二基板2上有两行三列彩膜基板120结构，即每二基板12上能够制备六个彩膜基板120。
第一挡墙130设于第一基板11上，第一挡墙130行列分布，在本实施例中，第一挡墙130包括两条横向挡墙，四条纵向挡墙，每一第一挡墙130的长度均与其对应的第一基板11的长度相等，即所述横向挡墙的长度等于第一基板11的横向尺寸，所述纵向挡墙的长度等于第一基板11的纵向尺寸，两条所述横向挡墙之间的间距为80um。
如图1所示，现有技术中，一般采用切割法切割第一基板11和第二基板12，以便得到阵列基板110和彩膜基板120，切割时，需要采用切割装置(切割刀)在第一基板11表面或第二基板12表面进行切割，在切割时，切割刀102自切割线一端开始切割，由于第一基板11和第二基板12已经通过框胶或其他连接部件组立，切割刀会同时切割第一基板11和第二基板12，以便切割后的阵列基板110和彩膜基板120尺寸相同，为了保障第一基板11和第二基板12在切割时不受形变的不良影响，第一挡墙130设于第一基板11和第二基板12对应切割线101的位置，即切割线101设于两个第一挡墙130之间，第一挡墙130能够支撑第一基板11和第二基板12，避免切割刀102在切割时，由于支撑力不够导致第一基板11或第二基板12上出现裂纹，从而导致显示面板1的良品率降低。
当第一基板11和第二基板12切割时，为了保障切割顺利，通常会在切割线101处喷洒冷却液，为了避免冷却液进入显示面板1内部，如图2所示，本实施例中，第一挡墙130为整块板体材料，在切割时，第一挡墙130能够有效隔绝冷却液或其他液体进入显示面板1内部，避免冷却液或其他液体对显示面板1内部的电路结构造成腐蚀，提升了显示面板1的良品率。
为了提升显示面板1盒厚的均一性，在显示面板1内部还设有若干第二挡墙140，其中第二挡墙140设于第一挡墙130远离显示面板1边缘的一侧，第二挡墙140包括若干圆柱形挡墙，或者圆台形挡墙，设于阵列基板110和彩膜基板120之间，且分布在显示面板1中部或边缘处，用以保障显示面板1的各区域均能保持同一厚度。
为了更好的解释本发明，本实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：
提供第一基板，在第一基板的一侧表面制备若干第一电路结构。
提供第二基板，在所述第二基板的一侧表面制备若干第二电路结构。
在第一基板设有所述电路结构的一侧表面制备若干第一挡墙，所述第一挡墙将所述第一基板划分为若干第一区域和第二区域，其中，第一区域对应所述第一电路结构。
将所述第二基板设有第二电路结构的一侧表面朝向所述第一基板，并与所述第一基板组立。
在所述第二区域切割所述第一基板和所述第二基板，使得所述第一基板分为若干阵列基板，所述第二基板分为若干彩膜基板。
其中，所述第一挡墙的长度等于其对应的彩膜基板或阵列基板的长度，用以防止切割时的液体或杂质进入显示面板内部。
本实施例的有益效果在于，本实施例中的一种显示面板及其制备方法、显示装置，将第一基板和第二基板组立，沿切割线切割后形成若干阵列基板和彩膜基板，在切割线两侧制备第挡墙结构，能够有效支撑第一基板和第二基板，避免由于切割作用力对第一基板和第二基板造成损坏，挡墙结构采用整体板状结构，在切割时，能够有效防止外界液体或杂质进入显示面板内部，避免显示面板内部的电路发生腐蚀，提升了显示面板的良品率。
以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (9)
1.一种显示面板，其特征在于，包括
相对设置的阵列基板和彩膜基板；
第一挡墙，设于所述阵列基板和彩膜基板之间，且靠近所述阵列基板和所述彩膜基板的边缘处；
所述第一挡墙的长度等于其对应的所述阵列基板或所述彩膜基板的长度；
所述阵列基板与所述彩膜基板为分别通过第一基板与第二基板切割得到的基板，所述第一挡墙设于所述第一基板和所述第二基板对应切割线两侧的位置，所述第一挡墙用于在所述第一基板和所述第二基板切割时起支撑作用，使得所述第一挡墙能够支撑所述第一基板和所述第二基板，避免在切割时由于支撑力不够导致所述第一基板或所述第二基板上出现裂纹；
所述第一挡墙的材料包括氧化硅、氮化硅或多晶硅中的一种。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括
若干第二挡墙，设于所述阵列基板和彩膜基板之间，且位于所述第一挡墙远离所述阵列基板边缘的一侧。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述第一挡墙与所述阵列基板边缘的距离为0～80um。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述第一挡墙的高度为4～6um。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述第一挡墙的厚度为0.5-4um。
6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述第二挡墙平行于所述阵列基板的截面形状为圆形或多边形。
7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供第一基板，在第一基板的一侧表面制备若干第一电路结构；
提供第二基板，在所述第二基板的一侧表面制备若干第二电路结构；
在所述第一基板设有所述电路结构的一侧表面制备若干第一挡墙，所述第一挡墙将所述第一基板划分为若干第一区域和第二区域，其中，第一区域对应所述第一电路结构；所述第一挡墙设于所述第一基板和所述第二基板对应切割线两侧的位置，所述第一挡墙用于在所述第一基板和所述第二基板切割时起支撑作用，使得所述第一挡墙能够支撑所述第一基板和所述第二基板，避免在切割时由于支撑力不够导致所述第一基板或所述第二基板上出现裂纹；
将所述第二基板设有第二电路结构的一侧表面朝向所述第一基板，并与所述第一基板组立；
在所述第二区域切割所述第一基板和所述第二基板，使得所述第一基板分为若干阵列基板，所述第二基板分为若干彩膜基板；
其中，所述第一挡墙的长度等于其对应的彩膜基板或阵列基板的长度，所述第一挡墙的材料包括氧化硅、氮化硅或多晶硅中的一种。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二区域的宽度为0～80um。
9.一种显示装置，包括权利要求1-6中任一项所述的显示面板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011411100.5A CN112558362B (zh) | 2020-12-04 | 2020-12-04 | 一种显示面板及其制备方法、显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011411100.5A CN112558362B (zh) | 2020-12-04 | 2020-12-04 | 一种显示面板及其制备方法、显示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112558362A CN112558362A (zh) | 2021-03-26 |
| CN112558362B true CN112558362B (zh) | 2023-11-28 |
Family
ID=75048796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202011411100.5A Active CN112558362B (zh) | 2020-12-04 | 2020-12-04 | 一种显示面板及其制备方法、显示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN112558362B (zh) |
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