CN112526782A - 液晶显示面板及液晶显示面板制作方法 - Google Patents

液晶显示面板及液晶显示面板制作方法 Download PDF

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Abstract

本发明实施例属于显示设备技术领域，具体涉及一种液晶显示面板及液晶显示面板制作方法。本发明实施例旨在解决公共电极与阵列基板之间的距离较小，容易与阵列基板内的电路之间形成寄生电容，进而影响液晶显示面板的显示效果的技术问题。本发明实施例提供了一种液晶显示面板及液晶显示面板制作方法，液晶显示面板包括阵列基板、液晶层以及盖板，液晶层位于盖板和阵列基板之间，液晶显示面板具有多个像素区，盖板和液晶层之间设置有遮光层，盖板朝向遮光层的表面上设置有公共电极。通过将公共电极设置在遮光层远离阵列基板的侧面上，以增大公共电极与阵列基板间的距离，减小公共电极与阵列基板间的寄生电容。

Description

液晶显示面板及液晶显示面板制作方法
技术领域
本发明实施例涉及显示设备技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板及液晶显示面板制作方法。
背景技术
随着显示技术的逐渐发展，液晶显示面板广泛应用在手机、电视、电脑等显示设备上。液晶显示面板一般包括对盒的阵列基板和盖板、以及位于阵列基板和盖板之间的液晶层，阵列基板用于控制液晶层内的液晶分子偏转，以实现显示。
相关技术中，阵列基板朝向盖板的表面设置有多个像素电极，在盖板朝向阵列基板的表面设置有遮光层，遮光层上设置有多个开口，每一开口正对一个像素电极，在遮光层朝向阵列基板的表面以及开口对应的盖板上形成有公共电极；工作时，像素电极带电，在该像素电极以及公共电极之间形成电场，以使对应的液晶层内液晶分子偏转，光线通过像素电极对应的开口，以实现显示。
然而，公共电极与阵列基板之间的距离较小，容易与阵列基板内的电路之间形成寄生电容，进而影响液晶显示面板的显示效果。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种液晶显示面板及液晶显示面板制作方法，以解决公共电极与阵列基板之间的距离较小，容易与阵列基板内的电路之间形成寄生电容，进而影响液晶显示面板的显示效果的技术问题。
本发明实施例提供了一种液晶显示面板，包括层叠设置的阵列基板、液晶层以及盖板，液晶层位于盖板和阵列基板之间，液晶显示面板具有多个像素区，盖板和液晶层之间设置有遮光层，遮光层具有多个开口，每一开口正对一个像素区；盖板朝向遮光层的表面上设置有公共电极；
阵列基板上设置有多个像素电极，每一像素电极与一个像素区对应；阵列基板具有彩膜层，彩膜层包括阵列设置的分别与像素区对应的红色素彩膜、绿色素彩膜和蓝色素彩膜，像素电极位于彩膜层朝向盖板的一侧。
如此设置，将公共电极设置在遮光层远离阵列基板的侧面上，以增大公共电极与阵列基板间的距离，减小公共电极与阵列基板间的寄生电容，从而减小寄生电容对液晶显示面板显示效果的影响。
在可以包括上述实施例的一些实施例中，像素区对应的像素电极包括环绕像素区中心依次设置的第一区域、第二区域、第三区域以及第四区域，第一区域和第三区域对应的液晶层配向方向相反，第二区域和第四区域对应的液晶层配向方向相反，且第一区域、第二区域、第三区域以及第四区域的液晶层配向方向环绕像素区中心设置。
在可以包括上述实施例的一些实施例中，第一区域内设置有由靠近第一区域和第二区域的第一交界线的位置向背离第一交界线延伸的第一条形镂空区；第二区域内设置有由靠近第二区域和第三区域的第二交界线的位置向背离第二交界线延伸的第二条形镂空区；第三区域内设置有由靠近第三区域和第四区域的第三交界线的位置向背离第三交界线延伸的第三条形镂空区；第四区域内设置有由靠近第四区域和第一区域的第四交界线的位置向背离第四交界线延伸的第四条形镂空区；第一条形镂空区、第二条形镂空区、第三条形镂空区以及第四条形镂空区均靠近像素电极的边缘设置。
在可以包括上述实施例的一些实施例中，第一条形镂空区、第二条形镂空区、第三条形镂空区以及第四条形镂空区沿垂直于其延伸方向的宽度为4.5μm-5.5μm。
在可以包括上述实施例的一些实施例中，遮光层在阵列基板上的投影覆盖像素电极的边缘，并且遮光层在阵列基板上的投影覆盖部分第一条形镂空区、第二条形镂空区、第三条形镂空区以及第四条形镂空区。
在可以包括上述实施例的一些实施例中，遮光层在阵列基板上的投影与像素电极重合区域的宽度为不小于5.5μm。
在可以包括上述实施例的一些实施例中，遮光层在阵列基板上的投影与第一条形镂空区、第二条形镂空区、第三条形镂空区以及第四条形镂空区重合区域的宽度为不小于3μm。
在可以包括上述实施例的一些实施例中，公共电极和像素电极均为透明的导电膜，公共电极和像素电极是氧化铟锡半导体层。
在可以包括上述实施例的一些实施例中，阵列基板和盖板之间设置有隔垫物，隔垫物在阵列基板上的投影位于遮光层在阵列基板上的投影内。
另外，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板制作方法，步骤包括：
提供盖板，并在盖板上形成公共电极；
在公共电极上形成遮光层，遮光层上具有多个开口；
提供阵列基板和液晶层，将阵列基板和盖板对盒，且液晶层位于阵列基板和盖板之间。
本实施例提供的液晶显示面板及液晶显示面板制作方法，液晶层位于盖板和阵列基板之间，阵列基板和盖板对盒后形成液晶显示面板；液晶显示面板具有多个像素区，盖板和液晶层之间设置有遮光层，遮光层具有多个开口，每一开口正对一个像素区；盖板朝向遮光层的表面上设置有公共电极，将公共电极设置在遮光层远离阵列基板的侧面，与部分公共电极覆盖在遮光层背离盖板的表面相比，增大了公共电极与阵列基板间的距离，减小公共电极与阵列基板间的寄生电容，从而减小寄生电容对液晶显示面板的显示效果的影响。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的液晶显示面板的俯视图；
图2为图1中A-A向的剖视图；
图3为本发明实施例提供的液晶显示面板中形成的“卍”字暗纹示意图；
图4为本发明实施例提供的液晶显示面板的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的液晶显示面板中像素电极的俯视图；
图6为本发明实施例提供的液晶显示面板中设置第一条形镂空区、第二条形镂空区、第三条形镂空区以及第四条形镂空区后对应暗纹的示意图；
图7为本发明实施例提供的液晶显示面板制作方法的流程图；
图8为本发明实施例提供的液晶显示面板制作方法中形成盖板和公共电极后的示意图；
图9为本发明实施例提供的液晶显示面板制作方法中形成遮光层后的示意图；
图10为本发明实施例提供的液晶显示面板制作方法中阵列基板和盖板之间对盒的示意图。
附图标记说明：
10：衬底基板；
20：盖板；
30：薄膜晶体管结构；
40：遮光层；
50：公共电极；
60：像素电极；
80：彩膜层；
601：第一区域；
602：第二区域；
603：第三区域；
604：第四区域；
605：第一交界线；
606：第二交界线；
607：第三交界线；
608：第四交界线；
701：第一条形镂空区；
702：第二条形镂空区；
703：第三条形镂空区；
704：第四条形镂空区。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
相关技术中，阵列基板朝向盖板的表面设置有多个像素电极，在盖板朝向阵列基板的表面设置有遮光层，遮光层上设置有多个开口，每一开口正对一个像素电极，在遮光层朝向阵列基板的表面以及开口对应的盖板上形成有公共电极；工作时，像素电极带电，在该像素电极以及公共电极之间形成电场，以使对应的液晶层内液晶分子偏转，光线通过像素电极对应的开口，以实现显示。
然而，覆盖在遮光层背离盖板一侧的公共电极与阵列基板之间的距离较小，容易与阵列基板内的电路之间形成寄生电容，进而影响液晶显示面板的显示效果。
本发明实施例提供一种液晶显示面板，将公共电极设置在遮光层远离阵列基板的侧面上，也就是说公共电极设置在遮光层和盖板之间，以增大公共电极与阵列基板间的距离，减小公共电极与阵列基板间的寄生电容，从而减小寄生电容对液晶显示面板显示效果的影响。
请参照图1-图2，本实施提供的液晶显示面板可以包括层叠设置的阵列基板、液晶层以及盖板20，液晶层位于盖板20和阵列基板之间。阵列基板和盖板20对盒后形成液晶显示面板，阵列基板用于控制液晶层内的液晶分子偏转，以实现显示。
本实施例中，液晶层中分布有多个液晶分子，并且阵列基板和盖板20上可以均设置有对液晶分子进行预先配向的配向膜，示例性的，液晶显示面板可以为垂直配向面板。其中，液晶显示面板可以采用UV2A(Ultra Violet Vertical Alignment)技术，利用作为配向膜的特殊高分子材料，高精度的控制液晶分子沿着紫外线方向倾斜。
液晶显示面板具有阵列设置的多个显示区，每一显示区对应的阵列基板上设置有像素电极60，每一像素电极60与阵列基板内的薄膜晶体管电连接，薄膜晶体管可以控制与其连接的像素电极60带电。示例性的像素电极60的材质可以包括氧化铟锡(ITO)等透明的导电材质。
本实施例中盖板20和液晶层之间设置有遮光层40，遮光层40具有多个开口，每一开口正对一个像素区。遮光层40可以阻止相邻像素区之间发生漏光，进而提高液晶显示面板的显示效果。示例性的，遮光层40的材质可以包括黑矩阵(BM)等。
进一步地，在盖板20朝向遮光层40叠的表面上设置有公共电极50，公共电极50覆盖盖板20朝向遮光层40的表面，也就是说公共电极50位于盖板20和遮光层40之间。在显示面板工作时，薄膜晶体管控制与其连接的像素电极60带电，进而在该像素电极60和公共电极50之间形成电场，以驱动像素电极60对应的液晶层内液晶分子偏转，进而实现液晶显示面板的显示。示例性的公共电极50的材质可以包括氧化铟锡(ITO)等透明的导电材质。
本实施例提供的液晶显示面板，液晶层位于盖板20和阵列基板之间，阵列基板和盖板20对盒后形成液晶显示面板；液晶显示面板具有多个像素区，盖板20和液晶层之间设置有遮光层40，遮光层40具有多个开口，每一开口正对一个像素区；盖板20朝向遮光层40的表面上设置有公共电极50；液晶显示面板通常包括背光，背光在液晶显示面板开态时，依次通过阵列基板、液晶层和盖板20，液晶显示面板呈亮态；背光在液晶显示面板关态时，由于无法通过液晶层，液晶显示面板成暗态。通过将公共电极50设置在遮光层40远离阵列基板的侧面，与部分公共电极50覆盖在遮光层40背离盖板20的表面相比，增大了公共电极50与阵列基板间的距离，减小公共电极50与阵列基板间的寄生电容，从而减小寄生电容对液晶显示面板的显示效果的影响。
本实施例中，像素区对应的像素电极60包括环绕像素区中心依次设置的第一区域601、第二区域602、第三区域603以及第四区域604，将像素区分成了四个区域。四个区域的阵列基板和盖板20上可以均设置有对液晶分子进行配向的配向膜，且四个区域的配向膜方向不同。其中，液晶显示面板可以采用UV2A技术，利用作为配向膜的特殊高分子材料，高精度的控制液晶分子沿着紫外线方向倾斜，以形成四个不同配向方向的区域，由于其不使用突起和狭缝也能分割成多个区域，因此其开口区率与原来的利用突起形成多区域相比得到显著的提高，还具有降低耗电，节省成本等优点。由于UV2A技术，使配向膜材料朝向其照射的方向倾斜，使得位于盖板20和阵列基板配向膜之间的液晶分子几乎可以接近的角度倾斜于配向膜的表面，能够通过光配向膜实现所有液晶分子向设计方向倾斜的状态，所以在载入电场时，液晶分子可以同时向同一方向倾倒，使响应速度增高。
本实施例中，第一区域601和第三区域603对应的液晶层配向方向相反，第二区域602和第四区域604对应的液晶层配向方向相反，且第一区域601、第二区域602、第三区域603以及第四区域604的液晶层配向方向环绕像素区中心设置。液晶显示面板为关态时，由于液晶层配向倾斜的存在使得在不受电场力驱动的时候，液晶分子就倾斜(更加趋向于垂面排列)，分别均匀地排列在四个区域内，此时背光不能透过液晶层。当液晶显示面板为开态时，由于施加了驱动电场，液晶分子受到了电场力的驱动作用，排列状态随电场而发生了改变，由于四个区域的配向不同，每个区域的液晶分子都会偏向配向的方向进行旋转，此时背光将透过液晶层，再穿过盖板20，从而实现显示。
继续参照图3-图6，本实施例将公共电极50设置在遮光层40远离阵列基板的侧面时，进行光学模拟结果如图3所示，每个像素区内的液晶分子在通过UV2A技术进行四个区域不同配向时，由于不同配向交界处，液晶转动状态连续过渡以及边缘电场偏移导致的液晶异常偏转，会产生“卍”字暗纹，“卍”字暗纹会影响液晶显示面板的开口率，进而影响液晶显示面板的显示效果。其中“卍”字暗纹可以分为位于像素区中间的中间暗纹和位于像素区边缘的边缘暗纹，中间暗纹是由液晶转动状态连续过渡而产生的，很难消除，因此本实施例仅对边缘暗纹进行消除。本实施例提供的液晶显示面板，通过改变像素结构，进而改变像素结构的边缘电场的分布趋势，从而消除“卍”字暗纹中位于像素区边缘的边缘暗纹，改变像素结构后暗纹如图6所示只剩下中间暗纹，这样可以减小像素区内暗纹面积，通过提升像素区的光透过率，以整体提升液晶显示面板的显示效果。
在上述实现方式中，如图4和图5所示，在像素电极60的第一区域601、第二区域602、第三区域603、第四区域604分别设置第一条形镂空区701、第二条形镂空区702、第三条形镂空区703以及第四条形镂空区704，四个条形镂空区均靠近像素电极60的边缘设置，其设置位置与“卍”字暗纹中边缘暗纹在像素电极60投影的位置一致。第一区域601内设置有由靠近第一区域601和第二区域602的第一交界线605的位置向背离第一交界线605延伸的第一条形镂空区701；第二区域602内设置有由靠近第二区域602和第三区域603的第二交界线606的位置向背离第二交界线606延伸的第二条形镂空区702；第三区域603内设置有由靠近第三区域603和第四区域604的第三交界线607的位置向背离第三交界线607延伸的第三条形镂空区703；第四区域604内设置有由靠近第四区域604和第一区域601的第四交界线608的位置向背离第四交界线608延伸的第四条形镂空区704。通过在像素电极60的边缘暗纹投影位置设置四个条形镂空区，进而改变四个区域的边缘电场的分布趋势，从而消除“卍”字暗纹中位于像素区边缘的边缘暗纹，这样可以减小像素区内暗纹面积，通过提升像素区的光透过率，以整体提升液晶显示面板的显示效果。
进一步的，第一条形镂空区701、第二条形镂空区702、第三条形镂空区703以及第四条形镂空区704沿垂直于其延伸方向的宽度可以为4.5μm-5.5μm。如此设置，避免像素电极60面积过小，保证像素区内电场强度。示例性的，四个条形镂空区的具体宽度值可以是4.5μm、5μm和5.5μm等。
在一些实施例中，遮光层40在阵列基板上的投影可以覆盖像素电极60的边缘，并且遮光层40在阵列基板上的投影可以覆盖部分第一条形镂空区701、第二条形镂空区702、第三条形镂空区703以及第四条形镂空区704。如此设置，避免像素电极60面积过小，保证像素区内电场强度。进一步的，遮光层40在阵列基板上的投影与第一条形镂空区701、第二条形镂空区702、第三条形镂空区703以及第四条形镂空区704重合区域的宽度可为不小于3μm。
在一些实施例中，遮光层40在阵列基板上的投影与像素电极60重合区域的宽度为不小于5.5μm。
本实施例中，阵列基板具有彩膜层80，阵列基板朝向盖板20的一侧可以设置有彩膜层80，彩膜层80包括阵列设置的分别与像素区对应的红色素彩膜、绿色素彩膜和蓝色素彩膜，像素电极60位于彩膜层80朝向盖板20的一侧。如此设置，将彩膜层80直接制备在阵列基板上，不存在盖板20和阵列基板的对位问题，可以降低显示面板制备过程中对盒制程的难度，避免了对盒时的误差，从而降低由对盒制程的对盒误差导致的混色、色偏等风险。示例性的，彩膜层80可以包括只允许蓝光通过的蓝色素彩膜、只允许绿光通过的绿色素彩膜以及只允许红光通过的红色素彩膜。
本实施例中，阵列基板和盖板20之间设置有隔垫物，隔垫物在阵列基板上的投影位于遮光层40在阵列基板上的投影内。隔垫物是用于控制盖板20与阵列基板之间的间隙，以保持最佳液晶层厚度。隔垫物在阵列基板上的投影位于遮光层40在阵列基板上的投影内，即隔垫物可以在像素区的非开口区，以减少隔垫物对液晶显示面板的开口率的影响。示例性的遮光层40朝向阵列基板的侧面可以设置隔垫物。当然的隔垫物也可以设置在阵列基板朝向盖板20的侧面，如此设置，比起将隔垫物设置在遮光层40朝向阵列基板的侧面更加稳固。当隔垫物设置于遮光层40朝向阵列基板的侧面时，由于遮光层40的表面往往不平滑，隔垫物易脱落。因此将隔垫物设置在阵列基板朝向盖板20的侧面其更加稳固。
本实施例提供的液晶显示面板，当液晶显示面板为关态时，由于液晶层配向倾斜的存在使得在不受电场力驱动的时候，液晶分子就倾斜(更加趋向于垂面排列)，分别均匀地排列在四个区域内，背光无法透过液晶显示面板。当液晶显示面板为开态时，由于施加了驱动电场，液晶分子受到了电场力的驱动作用，排列状态随电场而发生了改变，由于四个区域的配向不同，每个区域的液晶分子都会偏向配向的方向进行旋转，使得背光可以通过液晶分子旋光性而透过液晶显示面板，不同颜色的色素彩膜显示出不同颜色的光线，不同的电场强度光线强度也不同，从而显示出不同颜色，实现液晶显示面板的显示。将公共电极50设置在遮光层40远离阵列基板的侧面上，增大了公共电极50与阵列基板间的距离，减小了公共电极50与阵列基板间的寄生电容，从而减小寄生电容对液晶显示面板的显示效果的影响。此外，通过改变像素结构，进而改变像素结构的边缘电场的分布趋势，从而消除“卍”字暗纹中位于像素区边缘的边缘暗纹，减小了像素区内暗纹面积，通过提升像素区的光透过率，以整体提升液晶显示面板的显示效果。
另外，本实施例还提供一种液晶显示面板制作方法，该液晶显示面板可为前述实施例所描述的液晶显示面板。继续参照图7-图10，其中该液晶显示面板的制作方法可以包括：
步骤S10,提供盖板，并在盖板上形成公共电极；
本实施例中，盖板20可以是玻璃材质，在盖板20上形成公共电极50，公共电极50的材质可以包括氧化铟锡(ITO)等透明的导电材质，可采取化学气相沉积、物理气相沉积或旋涂等方式形成，由于公共电极50在盖板20上为全覆盖，没有复杂的图形，不要光罩即可形成。
步骤S20,在公共电极上形成遮光层，遮光层上具有多个开口；
本实施例中，在公共电极50远离盖板20的侧面形成遮光层40；遮光层40上具有多个开口，每一个开口对应一个像素区。遮光层40可采取涂布、曝光以及显影等方式形成。遮光层40需要1枚光罩即可形成。
步骤S30,提供阵列基板和液晶层，将阵列基板和盖板对盒，且液晶层位于阵列基板和盖板之间。
本实施例中，阵列基板制备时通常先提供衬底基板10，在衬底基板10上依次形成薄膜晶体管结构30，彩膜层80，像素电极60和隔垫物；薄膜晶体管结构30是多层结构，里面有多个薄膜晶体管，每个薄膜晶体管对应连接一个像素电极60。最后将制作好的盖板20和阵列基板对盒，液晶层位于阵列基板和盖板20之间。
本实施例提供的液晶显示面板制作方法，该液晶显示面板可为前述实施例所描述的液晶显示面板。通过提供盖板20，并在盖板20上形成公共电极50；在公共电极50上形成遮光层40，遮光层40上具有多个开口；提供阵列基板和液晶层，将阵列基板和盖板20对盒，且液晶层位于阵列基板和盖板20之间。由于公共电极50设置在遮光层40远离阵列基板的侧面，与部分公共电极50覆盖在遮光层40背离盖板20的表面相比，增大了公共电极50与阵列基板间的距离，减小公共电极50与阵列基板间的寄生电容，从而减小寄生电容对液晶显示面板的显示效果的影响。
液晶显示面板包括像素区，像素区对应的像素电极60包括环绕像素区中心依次设置的第一区域601、第二区域602、第三区域603以及第四区域604，将像素区分成了四个区域。四个区域的阵列基板和盖板20上可以均设置有对液晶分子进行配向的配向膜，且四个区域的配向膜方向不同。第一区域601和第三区域603对应的液晶层配向方向相反，第二区域602和第四区域604对应的液晶层配向方向相反，且第一区域601、第二区域602、第三区域603以及第四区域604的液晶层配向方向环绕像素区中心设置。
第一区域601内设置有由靠近第一区域601和第二区域602的第一交界线605的位置向背离第一交界线605延伸的第一条形镂空区701；第二区域602内设置有由靠近第二区域602和第三区域603的第二交界线606的位置向背离第二交界线606延伸的第二条形镂空区702；第三区域603内设置有由靠近第三区域603和第四区域604的第三交界线607的位置向背离第三交界线607延伸的第三条形镂空区703；第四区域604内设置有由靠近第四区域604和第一区域601的第四交界线608的位置向背离第四交界线608延伸的第四条形镂空区704。通过在像素电极60的边缘暗纹投影位置设置四个条形镂空区，进而改变四个区域的边缘电场的分布趋势，从而消除“卍”字暗纹中位于像素区边缘的边缘暗纹，这样可以减小像素区内暗纹面积，通过提升像素区的光透过率，以整体提升液晶显示面板的显示效果。
尽管在附图中以特定顺序描述了本公开中方法的各个步骤，但是，这并非要求或者暗示必须按照该特定顺序来执行这些步骤，或是必须执行全部所示的步骤才能实现期望的结果。附加的或备选的，可以省略某些步骤，将多个步骤合并为一个步骤执行，以及/或者将一个步骤分解为多个步骤执行等。此外，上面的一些步骤可以并行执行或顺序执行等等，并不局限于上文描述的具体操作顺序。
在本发明中，除非另有明确的规定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸的连接，或一体成型，可以是机械连接，也可以是电连接或者彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒体间接连接，可以是两个元件内部的连通或者两个元件的互相作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括：层叠设置的阵列基板、液晶层以及盖板，所述液晶层位于所述盖板和所述阵列基板之间，所述液晶显示面板具有多个像素区，所述盖板和所述液晶层之间设置有遮光层，所述遮光层具有多个开口，每一所述开口正对一个所述像素区；所述盖板朝向所述遮光层的表面上设置有公共电极；
所述阵列基板上设置有多个像素电极，每一所述像素电极与一个所述像素区对应；所述阵列基板具有彩膜层，所述彩膜层包括阵列设置的分别与所述像素区对应的红色素彩膜、绿色素彩膜和蓝色素彩膜，所述像素电极位于所述彩膜层朝向所述盖板的一侧。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述像素区对应的所述像素电极包括环绕所述像素区中心依次设置的第一区域、第二区域、第三区域以及第四区域，所述第一区域和所述第三区域对应的所述液晶层配向方向相反，所述第二区域和所述第四区域对应的所述液晶层配向方向相反，且所述第一区域、所述第二区域、所述第三区域以及所述第四区域的所述液晶层配向方向环绕所述像素区中心设置。
3.根据权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一区域内设置有由靠近所述第一区域和所述第二区域的第一交界线的位置向背离所述第一交界线延伸的第一条形镂空区；所述第二区域内设置有由靠近所述第二区域和所述第三区域的第二交界线的位置向背离所述第二交界线延伸的第二条形镂空区；所述第三区域内设置有由靠近所述第三区域和所述第四区域的第三交界线的位置向背离所述第三交界线延伸的第三条形镂空区；所述第四区域内设置有由靠近所述第四区域和所述第一区域的第四交界线的位置向背离所述第四交界线延伸的第四条形镂空区；所述第一条形镂空区、所述第二条形镂空区、所述第三条形镂空区以及所述第四条形镂空区均靠近所述像素电极的边缘设置。
4.根据权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一条形镂空区、所述第二条形镂空区、所述第三条形镂空区以及所述第四条形镂空区沿垂直于其延伸方向的宽度为4.5μm-5.5μm。
5.根据权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述遮光层在所述阵列基板上的投影覆盖所述像素电极的边缘，并且所述遮光层在所述阵列基板上的投影覆盖部分所述第一条形镂空区、所述第二条形镂空区、所述第三条形镂空区以及所述第四条形镂空区。
6.根据权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述遮光层在所述阵列基板上的投影与所述像素电极重合区域的宽度为不小于5.5μm。
7.根据权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述遮光层在所述阵列基板上的投影与所述第一条形镂空区、所述第二条形镂空区、所述第三条形镂空区以及所述第四条形镂空区重合区域的宽度为不小于3μm。
8.根据权利要求1-7任一所述的液晶显示面板，其特征在于，所述公共电极和所述像素电极均为透明的导电膜，所述公共电极和所述像素电极是氧化铟锡半导体层。
9.根据权利要求1-7任一所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板和所述盖板之间设置有隔垫物，所述隔垫物在所述阵列基板上的投影位于所述遮光层在所述阵列基板上的投影内。
10.一种液晶显示面板制作方法，其特征在于，
提供盖板，并在所述盖板上形成公共电极；
在所述公共电极上形成遮光层，所述遮光层上具有多个开口；
提供阵列基板和液晶层，将所述阵列基板和所述盖板对盒，且所述液晶层位于所述阵列基板和所述盖板之间。
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