CN112507584B - 掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版，该掩膜版框架的张网对抗力的确定方法包括根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数；根据张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到框架的第一变形数据；在框架的仿真模型中，向框架施加载荷使框架产生变形；确定在框架变形的第二变形数据与第一变形数据匹配时施加于框架上的对抗力。本发明实施例提供的技术方案，由于施加到框架上的对抗力是经过仿真模拟得到的，具有较高的精度，因此可以很好地匹配预期设定的网面下垂量，极大地提高了张网精度，进而有利于提高产品的良率。

Description

掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版

技术领域

本发明实施例涉及掩膜技术领域，尤其涉及一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版。

背景技术

在OLED显示面板制备工艺中，利用掩膜版进行膜层蒸镀是十分重要的工艺流程。

在利用掩膜版进行蒸镀之前，需要对掩膜版进行张网拉伸操作。然而现有技术中，掩膜版的张网精度较差，进而导致产品的良品率较低。

发明内容

本发明实施例提供一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版，以提高张网精度，保证产品的良品率。

第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，包括：

根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取所述网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数；

根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据；

在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形；

确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力。

可选地，所述张网参数包括网面焊接线上的张网拉力。

可选地，根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据包括：

将所述网面焊接线上的张网拉力施加至所述框架上，使所述框架发生变形，并获取所述框架的第一变形数据；

其中，所述第一变形数据包括所述框架的形变、应力和应变的一种或多种。

可选地，在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形包括：

向所述框架施加力载荷使所述框架发生变形。

可选地，确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力包括：

当所述第二变形数据与所述第一变形数据一致时，所述力载荷为所述对抗力。

可选地，在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形包括：

向所述框架施加位移载荷使所述框架发生变形。

可选地，确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力包括：

当所述第二变形数据与所述第一变形数据一致时，所述位移载荷对应的力为所述对抗力。

可选地，采用有限元分析法获得所述第一变形数据和所述第二变形数据。

第二方面，本发明实施例还提供了一种掩膜版框架的张网对抗力的确定装置，该掩膜版框架的张网对抗力的确定装置包括：

建模和参数获取模块，用于根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取所述网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数；以及根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据；

数据处理模块，用于在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形；

结果确定模块，用于确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力。

第三方面，本发明实施例还提供了一种掩膜版，可采用本发明任意实施例所提供的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法进行制备。

本发明实施例提供的技术方案，通过仿真模拟的方式，有效的避免了由于人为主观因素导致的张网失败。首先根据掩膜版的设计参数建立网面的仿真模型，获取网面仿真模型的仿真结果，然后从网面仿真结果中提取张网参数，并将得到的张网参数输入到框架的仿真模型中，对框架进行仿真模拟以得到框架的第一变形数据。在框架的仿真模型中，重新向框架施加载荷，以使框架产生变形，对施加载荷后的框架进行仿真模拟，得到框架的第二变形数据，当第二变形数据与第一变形数据相匹配时，确定此时施加于框架上的载荷所对应的作用力即为实际应用中施加到框架上的对抗力。相对于现有技术，本发明实施例提供的技术方案，由于施加到框架上的对抗力是经过仿真模拟得到的，具有较高的精度，因此可以很好地匹配预期设定的网面下垂量，极大地提高了张网精度，进而有利于提高产品的良率。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法的流程图；

图2-图4分别为对应张网过程中掩膜版的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法的流程图；

图6为本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法的流程图；

图7为本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法的流程图；

图8为本发明实施例提供的一种掩膜版框架的张网对抗力的确定装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

正如背景技术所述，现有技术存在掩膜版的张网精度较差，导致产品的良品率较低的问题。经发明人仔细研究发现，出现上述问题的原因在于，为了避免蒸镀过程中掩膜版受热膨胀程度较大，通常采用热膨胀系数较小的因瓦合金材料，并使用化学刻蚀的方法来制备得到掩膜版。此外，还需要对掩膜版进行张网拉伸处理后才能用来进行蒸镀工艺，张网拉伸工艺是通过张网机器夹持掩膜版网面的上下左右四个夹持区域，并将网面拉伸至指定位置，然后对掩膜版的框架的四个边框的中间位置施加对抗力，使得框架产生预变形，其目的是为了抵消张网拉力对框架的变形作用，最后将经过拉伸后的网面焊接在框架上，利用框架因变形产生的恢复力在焊接处将网面拉紧，防止网面出现下垂而影响张网精度。然而现有技术中对掩膜版的框架的四个边框施加对抗力的大小都是依靠张网技术人员的自身经验或者依靠大量的试验结果直接进行操作，很难保证掩膜版的张网精度，在蒸镀过程中，由于掩膜版的张网精度较差，导致网面下垂，使得蒸镀材料不能被蒸镀到所需位置，造成显示不良，不利于提高产品的良品率。

基于上述问题，本发明实施例提供一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版，以提高张网精度，保证产品的良品率。掩膜版包括通用金属掩膜版(CommonMetal Mask，CMM)和精密金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)，其中CMM用来蒸镀OLED显示面板内的共通层，如阴极层和光取出层等；FMM用来蒸镀OLED显示面板内的发光层。本发明实施例提供的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法适用于CMM和FMM，本发明实施例以CMM为例进行说明。图1为本发明实施例提供的一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法的流程图，图2-图4分别为对应张网过程中掩膜版的结构示意图，参考图1-图4，本发明实施例提供的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法包括如下步骤：

S110、根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数。

具体地，掩膜版包括网面10和框架20，在掩膜版实际制备过程中，需要将网面10按照预先设定的焊接线的位置焊接到框架20上，焊接完成后，沿着焊接线将网面10的遮挡区102切割掉，仅保留开口区101。如图2所示的网面结构，在遮挡区102设置有多个缓冲单元12，能够减小网面10在拉伸过程中的受到的应力和应变，以保证网面10的受力均匀。掩膜版具有一定的厚度和尺寸，在仿真软件中根据网面10的设计参数手动绘制出网面的三维模型，或者直接向仿真软件中导入CAD图纸，自动建立网面10的三维模型。仿真软件接收到的掩膜版的参数可以包括网面10的尺寸、开口区101和遮挡区102的定位尺寸，以及各个开口单元11和缓冲单元12的定位尺寸。仿真软件可以为有限元分析元件，如PROE、ANSYS、UG和CATIA等等，本发明实施例对仿真软件的具体类型不作限制。

以ANSYS有限元分析仿真软件为例，在完成网面10的三维模型建立后，向建立好的三维模型中输入网面10的仿真参数，如，网面10的杨氏模量、泊松比和密度等；由于在对掩膜版张网过程中，需要对网面10进行拉伸处理，因此，还需向三维模型中输入对网面10拉伸的张网拉力，以完成掩膜版网面的仿真模型的建立。在ANSYS有限元分析仿真软件中针对建立完成的网面的仿真模型进行仿真，并获取仿真结果中的张网参数。

可选地，张网参数包括网面焊接线上的张网拉力。需要说明的是，从仿真结果中获取到的张网拉力可以是在建立网面仿真模型时输入的张网拉力，也可以是不断调整后的张网拉力。示例性地，在掩膜版张网过程中，对网面10施加张网拉力，以将网面10进行拉伸至指定位置，其中，张网拉力可以根据网面10的下垂量进行设计。将网面10的仿真参数和张网拉力输入至网面10的三维模型中进行仿真，若仿真结果与期望结果一致，则确定当前的张网拉力；若仿真结果不符合期望结果，则调整输入至网面三维模型中的张网拉力，直至仿真结果与期望结果一致，确定此时的张网拉力。

S120、根据张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到框架的第一变形数据。

具体地，在完成网面10的仿真分析后，建立框架20的仿真模型。首先根据掩膜版的参数在ANSYS有限元分析仿真软件中搭建框架20的三维模型，并向框架20的三维模型中输入框架20的仿真参数，建立框架20的仿真模型。将步骤S110中获取到的张网拉力施加到框架20的仿真模型中，使得框架20发生变形，进行仿真模拟，并获取框架20的第一变形数据。其中，第一变形数据包括框架20受到的应力和框架20的位移。示例性地，在实际操作过程中，将拉伸至指定位置的网面10焊接到框架20上时，由于网面10自身存在张网拉力，在网面10的张网拉力的作用下，框架20会发生变形。由于网面10焊接线上的拉力方向指向网面10的中心位置，因此框架20会向内侧收缩，向框架20的仿真模型中输入从网面10仿真结果中获取到的张网拉力，使得框架20向内发生变形，记录此时的第一变形数据，如框架20的位移数据。

S130、在框架的仿真模型中，向框架施加载荷使框架产生变形。

具体地，在建立好的框架20的仿真模型中，向框架20施加载荷，使得框架20产生变形，其中，载荷可以为力载荷，也可以为位移载荷。

S140、确定在框架变形的第二变形数据与第一变形数据匹配时施加于框架上的对抗力。

具体地，对施加载荷后的框架20进行仿真模拟，获得此时框架20的第二变形数据。同样的，第二变形数据也可以包括框架20受到的应力和框架20的位移。当第二变形数据和第一变形数据相匹配时，可以确定当前施加到框架20上的作用力为对抗力。如图2所示，在实际操作过程中，在将网面10拉伸至指定位置后，对框架20的上下左右边框的中心点位置施加仿真模拟得到的对抗力CF，以使框架20产生变形。当完成网面10的焊接后，撤掉施加于框架20上的对抗力CF，由于框架20存在一个与对抗力大小相等、方向相反的反作用力，在该反作用力的作用下，框架20会向外侧发生位移，即恢复到未施加对抗力CF之前的形状，形成图3所示的掩膜版，从而能够抵消网面10的张网拉力对框架20的变形作用，以保证网面10的下垂量与设计值相同。由于施加到框架20上的对抗力CF是经过仿真模拟得到的，具有较高的精度，因此可以很好地匹配预期设定的网面下垂量，相比于现有技术依靠张网人员的经验来确定对抗力CF，本发明实施例提供的对抗力的确定方法能够提高对抗力CF的准确性，从而提高张网精度。

本发明实施例提供的技术方案，通过仿真模拟的方式，有效的避免了由于人为主观因素导致的张网失败。首先根据掩膜版的设计参数建立网面的仿真模型，获取网面仿真模型的仿真结果，然后从网面仿真结果中提取张网参数，并将得到的张网参数输入到框架的仿真模型中，对框架进行仿真模拟以得到框架的第一变形数据。在框架的仿真模型中，重新向框架施加载荷，以使框架产生变形，对施加载荷后的框架进行仿真模拟，得到框架的第二变形数据，当第二变形数据与第一变形数据相匹配时，确定此时施加于框架上的载荷所对应的作用力即为实际应用中施加到框架上的对抗力。相对于现有技术，本发明实施例提供的技术方案，由于施加到框架上的对抗力是经过仿真模拟得到的，具有较高的精度，因此可以很好地匹配预期设定的网面下垂量，极大地提高了张网精度，进而有利于提高产品的良率。

图5为本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法的流程图，在上述技术方案的基础上，对掩膜版框架的张网对抗力的确定方法进行细化。参考图5，本发明实施例提供的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法包括：

S210、根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数。

S220、将网面焊接线上的张网拉力施加至框架上，使框架发生变形，并获取框架的第一变形数据。

具体地，在实际操作过程中，通过对网面10施加张网拉力，将网面10拉伸至指定位置，然后将拉伸后的网面10按照焊接线的位置焊接在框架20上，在张网拉力的作用下，框架20会向内发生变形，其变形量与张网拉力的大小有关。因此，在仿真模拟过程中，需要将网面10作用于焊接线上的张网拉力施加至框架20的仿真模型中，使得框架20向内侧发生变形，其中施加至框架20上的张网拉力的方向指向框架20的中心位置，从仿真结果中得到此时框架20的第一变形数据，包括框架20的形变、应力和应变的一种或多种，其中仿真结果中的位移云图对应框架20的形变情况，应力云图对应框架20的应力分布情况，应变云图对应框架20的应变分布情况。

S230、向框架施加力载荷使框架发生变形。

S240、当第二变形数据与第一变形数据一致时，力载荷为对抗力。

具体地，在建立好的框架20的仿真模型中，输入力载荷，也即向框架20直接施加力载荷，对框架20进行仿真模拟。其中力载荷的大小与框架20的形变位移量相关。在仿真过程中，当施加力载荷的框架20因变形而得到的第二变形数据和第一变形数据一致时，确定当前力载荷为要施加于框架20的对抗力。示例性地，在仿真模拟过程中，将网面10作用于焊接线上的张网拉力施加至框架20的仿真模型中，使得框架20向内侧发生形变，则在向框架20施加力载荷时，框架20因受到力载荷的作用产生变形，当框架20在力载荷的作用下的形变与在张网拉力的作用下的形变一致时，确定该力载荷为在实际操作过程中要施加在框架20上的对抗力。

作为本发明实施例提供的一种可选实施方式，向框架20施加的载荷还可以为位移载荷。图6为本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法的流程图，参考图6，本发明实施例提供的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法包括：

S310、根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数。

S320、将网面焊接线上的张网拉力施加至框架上，使框架发生变形，并获取框架的第一变形数据。

S330、向框架施加位移载荷使框架发生变形。

S340、当第二变形数据与第一变形数据一致时，位移载荷对应的力为对抗力。

具体地，在建立好的框架20的仿真模型中，输入位移载荷，也即使框架20的四个边框偏离起始位置，从而使得框架20产生变形，对框架20进行仿真模拟。在仿真过程中，当施加位移载荷的框架20因变形而得到的第二变形数据和第一变形数据一致时，确定当前位移载荷所对应的力为要施加于框架20的对抗力。示例性地，在仿真模拟过程中，将网面10作用于焊接线上的张网拉力施加至框架20的仿真模型中，使得框架20向内侧发生形变，其位移为L，则在向框架20施加位移载荷时，使其位移同样为L，与对框架20施加张网拉力所产生的形变一致，则确定施加该位移载荷所对应的作用力为在实际操作过程中要施加在框架20上的对抗力。

需要说明的是，本发明实施例所提到的位移，均是指的框架20的边框中点位置的偏离起始位置的距离。采用有限元分析法对网面仿真模型和框架仿真模型进行分析，根据输入的掩膜版设计参数和仿真参数，对网面的仿真模型和框架的仿真模型施加仿真条件进行求解，以便快速获取第一变形数据和所述第二变形数据。

图7为本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法的流程图，参考图7，在上述各技术方案的基础上，以仿真软件为ANSYS有限元分析软件为例，本发明实施例提供的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法的具体工作原理如下：

根据掩膜版的参数在ANSYS有限元分析仿真软件中搭建框架20的三维模型，向建立好的三维模型中输入网面10的仿真参数，如，网面10的杨氏模量、泊松比和密度等；由于在对掩膜版张网过程中，需要对网面10进行拉伸处理，因此，还需向三维模型中输入对网面10拉伸的张网拉力，以完成掩膜版网面的仿真模型的建立。针对建立完成的网面的仿真模型进行仿真，并获取仿真结果中，其中仿真结果包括张网参数，如网面焊接线上的张网拉力。确定当前输出的仿真结果是否与期望结果一致，如果不一致，则调整张网拉力的大小，重新仿真，直至仿真结果与期望结果一致，并记录此时的张网参数。

在完成网面10的仿真分析后，建立框架20的仿真模型。首先根据掩膜版的参数在ANSYS有限元分析仿真软件中搭建框架20的三维模型，并向框架20的三维模型中输入框架20的仿真参数，建立框架20的仿真模型。之后将获取到的张网拉力施加到框架20的仿真模型中，使得框架20发生变形，进行仿真模拟，并获取框架20的第一变形数据。其中，第一变形数据包括框架20受到的应力和框架20的位移。清除施加在框架20上的张网拉力，并输入力载荷，重新进行仿真模拟，在仿真过程中，通过调整力载荷的大小，当施加力载荷的框架20因变形而得到的第二变形数据和第一变形数据一致时，确定当前力载荷为要施加于框架20的对抗力。或者，在清除施加在框架20上的张网拉力后，向框架20仿真模型中输入位移载荷，重新进行仿真模拟，在仿真过程中，通过调整位移载荷，当施加力载荷的框架20因变形而得到的第二变形数据和第一变形数据一致时，确定当前位移载荷对应的作用力为要施加于框架20的对抗力。相对于现有技术，本发明实施例提供的技术方案，由于施加到框架上的对抗力是经过仿真模拟得到的，具有较高的精度，因此可以很好地匹配预期设定的网面下垂量，极大地提高了张网精度，进而有利于提高产品的良率。

图8为本发明实施例提供的一种掩膜版框架的张网对抗力的确定装置的结构示意图，参考图8，本发明实施例提供的掩膜版框架的张网对抗力的确定装置包括：

建模和参数获取模块71，用于根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数；以及根据张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到框架的第一变形数据；

数据处理模块72，用于在框架的仿真模型中，向框架施加载荷使框架产生变形；

结果确定模块73，用于确定在框架变形的第二变形数据与第一变形数据匹配时施加于框架上的对抗力。

具体地，该装置可以为仿真设计装置，包括建模和参数获取模块71、数据处理模块72和结果确定模块73，结合图2-图4，掩膜版包括网面10和框架20，在掩膜版实际制备过程中，需要将网面10按照预先设定的焊接线的位置焊接到框架20上，焊接完成后，沿着焊接线将网面10的遮挡区102切割掉，仅保留开口区101。如图2所示的网面结构，在遮挡区102设置有多个缓冲单元12，能够减小网面10在拉伸过程中的受到的应力和应变，以保证网面10的受力均匀。掩膜版具有一定的厚度和尺寸，在ANSYS有限元分析仿真软件中，建模和参数获取模块71根据网面10的设计参数绘制出网面的三维模型。仿真软件接收到的掩膜版的参数可以包括网面10的尺寸、开口区101和遮挡区102的定位尺寸，以及各个开口单元11和缓冲单元12的定位尺寸。在完成网面10的三维模型建立后，向建立好的三维模型中输入网面10的仿真参数，如，网面10的杨氏模量、泊松比和密度等；由于在对掩膜版张网过程中，需要对网面10进行拉伸处理，因此，还需向三维模型中输入对网面10拉伸的张网拉力，以完成掩膜版网面的仿真模型的建立。建模和参数获取模块71针对建立完成的网面的仿真模型进行仿真，并获取仿真结果中的张网参数。在完成网面10的仿真分析后，建模和参数获取模块71建立框架20的仿真模型，首先根据掩膜版的参数在仿真软件中搭建框架20的三维模型，并向框架20的三维模型中输入框架20的仿真参数，建立框架20的仿真模型。将步骤S110中获取到的张网拉力施加到框架20的仿真模型中，使得框架20发生变形，进行仿真模拟，并获取框架20的第一变形数据。其中，第一变形数据包括框架20受到的应力和框架20的位移。

数据处理模块72向框架20施加载荷，使得框架20产生变形，对施加载荷后的框架20进行仿真模拟，通过建模和参数获取模块71获得此时框架20的第二变形数据。同样的，第二变形数据也可以包括框架20受到的应力和框架20的位移。当第二变形数据和第一变形数据相匹配时，结果确定模块73可以确定当前施加到框架20上的作用力为对抗力。如图2所示，在实际操作过程中，在将网面10拉伸至指定位置后，对框架20的上下左右边框的中心点位置施加仿真模拟得到的对抗力CF，以使框架20产生变形。当完成网面10的焊接后，撤掉施加于框架20上的对抗力CF，由于框架20存在一个与对抗力大小相等、方向相反的反作用力，在该反作用力的作用下，框架20会向外侧发生位移，即恢复到未施加对抗力CF之前的形状，形成图3所示的掩膜版，从而能够抵消网面10的张网拉力对框架20的变形作用，以保证网面10的下垂量与设计值相同。本发明实施例提供的技术方案，由于施加到框架上的对抗力是经过仿真模拟得到的，具有较高的精度，因此可以很好地匹配预期设定的网面下垂量，极大地提高了张网精度，进而有利于提高产品的良率。

本发明实施例还提供了一种掩膜版，该掩膜版可以为通用金属掩膜版，也可以为精密金属掩膜版，可采用本发明任意实施例所提供的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法进行制备，因此，本发明实施例所提供的掩膜版也具备本发明任意实施例所描述的有益效果。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，包括：

根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取所述网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数；其中，所述网面包括开口区和围绕所述开口区设置的遮挡区，所述遮挡区设置有多个缓冲单元；

根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据；

在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形；

确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力。

2.根据权利要求1所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，所述张网参数包括网面焊接线上的张网拉力。

3.根据权利要求2所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据包括：

将所述网面焊接线上的张网拉力施加至所述框架上，使所述框架发生变形，并获取所述框架的第一变形数据；

其中，所述第一变形数据包括所述框架的形变、应力和应变的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形包括：

向所述框架施加力载荷使所述框架发生变形。

5.根据权利要求4所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力包括：

当所述第二变形数据与所述第一变形数据一致时，所述力载荷为所述对抗力。

6.根据权利要求1所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形包括：

向所述框架施加位移载荷使所述框架发生变形。

7.根据权利要求6所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力包括：

当所述第二变形数据与所述第一变形数据一致时，所述位移载荷对应的力为所述对抗力。

8.根据权利要求1所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，采用有限元分析法获得所述第一变形数据和所述第二变形数据。

9.一种掩膜版框架的张网对抗力的确定装置，其特征在于，包括：

建模和参数获取模块，用于根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取所述网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数；以及根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据；其中，所述网面包括开口区和围绕所述开口区设置的遮挡区，所述遮挡区设置有多个缓冲单元；

数据处理模块，用于在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形；

结果确定模块，用于确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力。

10.一种掩膜版，其特征在于，采用如权利要求1-8任一项所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法进行制备。

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