CN112466920B - 显示面板及制作方法、显示设备 - Google Patents

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Abstract

本申请实施例提供了一种显示面板及制作方法、显示设备。该显示面板，包括：显示区域，显示区域包括摄像区域和围绕摄像区域的周边区域；摄像区域设置有透明的第一触控结构，第一触控结构设置于衬底基板和有机发光层之间。由于在显示区域的摄像区域中设置有透明的第一触控结构，使得显示面板的摄像区域具备触控功能；而且第一触控结构位于衬底基板和有机发光层之间，即第一触控结构的制备发生在有机发光层的制备之前，从而在保障第一触控结构导电性的同时，有效避免制备第一触控结构的工艺对有机发光层的影响，从而使得本申请实施例提供的显示面板的摄像区域即可以实现显示、触控功能，又保障了摄像区域的透光性，保障了摄像区域的拍照效果。

Description

显示面板及制作方法、显示设备
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体而言，本申请涉及一种显示面板及制作方法、显示设备。
背景技术
随着显示技术的发展，具有屏下摄像头的显示面板可以扩大显示设备的显示面积，提升显示设备的显示效果；同时，相较于设置伸缩摄像头的显示设备而言，屏下摄像头的显示面板可以提升显示设备的整体密封性。因此，目前屏下摄像头的显示面板得到越来越多的应用。
但是，目前具有屏下摄像头的显示面板中，特别是具有触控功能的显示面板，为了保障摄像头的工作，与摄像头所对应的区域中需要避免设置用于实现触控功能的金属走线，从而使得显示面板的摄像区域不能实现触控功能，这严重影响了用户的使用感受。
发明内容
本申请针对现有方式的缺点，提出一种显示面板及制作方法、显示设备，用以解决现有技术存在的具有屏下摄像头的显示面板中，显示面板的摄像区域不能实现触控的技术问题。
第一个方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括：显示区域，显示区域包括摄像区域和围绕摄像区域的周边区域；
摄像区域设置有透明的第一触控结构，第一触控结构设置于衬底基板和有机发光层之间。
第二个方面，本申请实施例提供了一种显示面板的制作方法，包括：
在衬底基板的一侧制备第一触控结构的初始结构；
通过退火工艺处理第一触控结构的初始结构，得到第一触控结构；
在第一触控结构远离衬底基板的一侧制备有机发光层。
第三个方面，本申请实施例提供了一种显示设备，包括：包括如第一方面所提供的显示面板。
本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：
在本申请实施例提供的显示面板中，由于在显示区域的摄像区域中设置有透明的第一触控结构，使得显示面板的摄像区域具备触控功能；而且第一触控结构位于衬底基板和有机发光层之间，即第一触控结构的制备发生在有机发光层的制备之前，从而在保障第一触控结构导电性的同时，有效避免制备第一触控结构的工艺对有机发光层的影响，从而使得本申请实施例提供的显示面板的摄像区域即可以实现显示、触控功能，又保障了摄像区域的透光性，保障了摄像区域的拍照效果。
本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2为本申请实施例提供的图1中显示面板的第一触控结构的结构示意图；
图3为本申请实施例提供的图1中显示面板的BB向剖视图；
图4为本申请实施例提供的图1中显示面板的CC向剖视图；
图5为本申请实施例提供的一种显示面板的制作方法中的流程示意图；
图6a为本申请实施例提供的显示面板的制作方法中制备得到的显示面板的第一中间结构的结构示意图；
图6b为本申请实施例提供的显示面板的制作方法中制备得到的显示面板的第二中间结构的示意图；
图7为本申请实施例提供的一种显示设备的结构示意图。
附图标记说明：
100-摄像区域；200-周边区域；
10-衬底基板；
20-第一触控结构；21-第一走线；22-第二走线；23-桥接走线；
30-有机发光层；
40-第二触控结构；41-第一触控走线；42-第二触控走线；
50-薄膜封装层；
60-像素界定结构；
70-跳线；
81-显示器件膜层；82-平坦化层；83-隔离层；84-绝缘层；85-覆盖层；
300-摄像组件。
具体实施方式
下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。
本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”到另一元件时，它可以直接连接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。
本申请的发明人进行研究发现，目前具有屏下摄像头的显示面板中，例如，在AMOLED(Active-matrix organic light-emitting diode，有源矩阵有机发光二极体)显示面板中，为了不影响屏下摄像头对应摄像区域的显示和拍照，FMLOC(FlexibleMulti-LayerOnCell，柔性多层结构)触控结构在该摄像区域是没有走线设置的。现有AMOLED显示面板多是电容式触控显示面板，即通过触控位置电容的变化来实现人机信号交互，如果摄像区域没有金属走线就意味着没有电容存在，即显示面板的摄像区域没有触控功能，这会影响用户的使用体验。
传统的金属走线通常是Ti(钛)/Al(铝)/Ti结构，但是由于Ti和Al均不透光，因此Ti/Al/Ti结构的金属走线也不透光性，如果将该结构的金属走线设置在显示面板的摄像区域，会影响摄像区域中显示画面的正常显示以及拍照功能。在半导体显示技术行业，为了保证导体的导电性和透光性一般会选用ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)作为走线设置于显示面板的摄像区域，但是，由于材料的限制，显示面板中的有机发光层不能承受高温，一般而言制作有机发光层材料所能够承受的最高温度为85℃，因此摄像区域的ITO走线只能采用低于85℃的成膜工艺制作而成，而在此温度下成膜的ITO的导电性能太差，会严重影响用户的触控体验。
本申请提供的显示面板及制作方法、显示设备，旨在解决现有技术的如上技术问题。
下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。
本申请实施例提供了一种显示面板，图1为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图，图2为本申请实施例提供的图1中显示面板的第一触控结构的结构示意图，图3为本申请实施例提供的图1中显示面板的BB向剖视图；图4为本申请实施例提供的图1中显示面板的CC向剖视图。该显示面板包括：显示区域，显示区域包括摄像区域100和围绕摄像区域100的周边区域200；摄像区域100设置有透明的第一触控结构20，第一触控结构设置于衬底基板10和有机发光层30之间。
在本申请实施例提供的显示面板中，由于在显示区域的摄像区域100中设置有透明的第一触控结构20，使得显示面板的摄像区域100具备触控功能；而且第一触控结构20位于衬底基板10和有机发光层30之间，即第一触控结构20的制备发生在有机发光层30的制备之前，从而在保障第一触控结构20导电性的同时，有效避免制备第一触控结构20的工艺对有机发光层30的影响，从而使得本申请实施例提供的显示面板的摄像区域100即可以实现显示、触控功能，又保障了摄像区域100的透光性，保障了摄像区域100的拍照效果。
具体的，本申请实施例中，显示面板的显示区域中设置有用于供光线通过，以使得摄像组件正常成像的摄像区域100，摄像区域100中设置有透明的第一触控结构20，第一触控结构20位于衬底基板10和有机发光层30之间，从而使得显示面板中第一触控结构20的制备发生在有机发光层30的制备之前，即保障了第一触控结构20的导电性，又避免了制备第一触控结构10的高温退火工艺对有机发光层30的影响，保障了显示面板的摄像区域100即可以实现显示、触控功能，又保障了摄像区域100的透光性，保障了摄像区域100的拍照效果。
同时，本申请实施例中，第一触控结构20采用ITO材料制成，由于ITO材料具有很好的透光率，因此，采用ITO材料制成的第一触控结构20整体呈透明状。由于第一触控结构20为透明状，因此可以尽可能扩大第一触控结构20在摄像区域100的面积，从而有利于降低第一触控结构20的整体电阻，进而保障了摄像区域100的触控功能的灵敏性，保障了显示面板的整体触控体验。
本申请实施例中，衬底基板10由PI(Polyimide，聚酰亚胺)材料制成。
在本申请的一个实施例中，周边区域200设置有第二触控结构40，第二触控结构40位于薄膜封装层50远离有机发光层30的一侧，且与第一触控结构20电连接。
本申请实施例中，显示面板中显示区域的周边区域200设置有第二触控结构40，由于显示面板的周边区域200不用于供外界光线通过，因此设置于周边区域200的第二触控结构40可采用Ti/Al/Ti结构的金属走线，而且第二触控结构40设置于薄膜封装层50远离有机发光层30的一侧，并与第一触控结构20电连接。本申请实施例中，薄膜封装层50为TFE(ThinFilm Encapsulation，薄膜封装)结构，具体包括两层无机膜层和夹设于两层无机膜层之间的有机膜层。
本申请实施例中，如图1所示，第二触控结构40采用FMLOC触控结构，包括第一触控走线41和第二触控走线42。应当说明的是，图1中为了便于理解第二触控结构40的结构，将周边区域200中的两种菱形方块分别代表第一触控走线41和第二触控走线42，实际的显示面板结构中，为了避免第一触控走线41和第二触控走线42对有机发光层30发出的光线的遮挡，保障显示面板周边区域200的显示效果，在垂直于衬底基板10的方向上，第一触控走线41和第二触控走线42均是沿有机发光层30中R(红)、G(绿)、B(蓝)子像素之间的区域设置，图1中周边区域200的两种菱形方块所在的区域其实对应的是R(红)、G(绿)、B(蓝)子像素所在的位置，具体的，一个菱形方块即可以包含多个子像素，也可以只包含一个子像素；第一触控走线41和第二触控走线42沿各个子像素之间的区域设置，从而形成网格状的FMLOC触控结构。
应当说明的是，如图1所示，位于显示面板周边区域200边缘处的第一触控走线41和第二触控走线42存在不完整的情况，相较于完整的第一触控走线41和第二触控走线42所在的区域，该区域的触控信号会较弱，通过设置处理装置调节该区域的信号，可以起到增强该区域触控信号的作用，从而保障显示面板触控功能的整体性。
在本申请的一个实施例中，第一触控结构20包括多条第一走线21和多条第二走线22，第一走线21与第二走线22相互绝缘；第一走线21与第二触控结构40电连接，或者，第二走线22与第二触控结构40电连接。
本申请实施例中，如图2所示为第一触控结构20的结构示意图，第一走线21与第二走线22相互绝缘设置，为了实现显示面板整体触控功能的一致与统一，第一触控结构20的第一走线21或第二走线22与第二触控结构40电连接。
应当说明的是，第一触控结构20的发射电极与第二触控结构40的发射电极电连接，或者，第一触控结构20的接收电极与第二触控结构40的接收电极电连接；例如，当第一走线21为第一触控结构20的发射电极时，第一触控走线41为第二触控结构40的发射电极时，则第一走线21与第一触控走线41电连接。
在本申请的一个实施例中，第一走线21和第二走线22均包括若干电极块，在平行于衬底基板10的方向上，电极块的形状包括下述至少一种：方形、菱形。
本申请实施例中，如图2所示的第一触控结构中，第一走线21包括多个依次连接的菱形电极块，第二走线22包括多个依次连接的菱形电极块。相较于显示面板周边区域200中网格状的第二触控结构40而言，摄像区域100的第一触控结构20由于采用透明的ITO材料制成，因此，将第一走线21和第二走线22设置成包括多个方形或菱形的电极块，在提高电极块面积占摄像区域100的面积的占比时，有利于降低第一触控结构20的整体电阻，进而降低了第一触控结构20中第一走线21或第二走线22与第二触控结构40之间的电阻差，保障了摄像区域100的触控功能的灵敏性，保障了显示面板的整体触控体验。
在本申请的一个实施例中，第一走线21包括桥接走线23，桥接走线23的一端与第一走线21的一电极块连接，桥接走线23的另一端与相邻的第一走线21的另一电极块连接；第一走线21的电极块和第二走线22的电极块同层设置。
现有显示面板的发展趋势之一是轻薄化，因此，本申请实施例中，第一走线21的电极块和第二走线22的电极块同层设置，这样设置有利于显示面板的轻薄化发展。但是，将第一走线21的电极块和第二走线22的电极块同层设置面临一个问题，如何实现多个第一走线21的电极块互相电连接，或者如何实现多个第二走线22的电极块互相电连接。
因此，需要采用桥接走线23来连接同一条第一走线21中相邻的两个电极块，或者，采用桥接走线23来连接同一条第二走线22中相邻的两个电极块。如图2所示的第一触控结构20中，第一走线21中的多个菱形电极块依次连接，而在两条第二走线22中，每条第二走线22的相邻两个菱形电极块通过桥接走线23连接。
具体的，桥接走线23的一端与第二走线22的一电极块连接，桥接走线23的另一端与相邻的第二走线22的另一电极块连接，通过设置桥接走线23，可以在第一走线21的电极块和第二走线22的电极块同层设置的同时，保障了同一条第一走线21的电极块互相电连接，或者，同一条第二走线22的电极块互相电连接。由此保障了第一触控结构20的第一走线21和第二走线22的工作稳定性。
应当说明的是，如图1所示，位于显示面板摄像区域100边缘处的第一走线21和第二走线22的电极块存在不完整的情况，因此该区域的触控信号会较弱，同样可以通过处理装置调节该区域的信号，可以起到增强该区域触控信号的作用，从而保障显示面板触控功能的整体性。
在本申请的一个实施例中，有机发光层30和第一触控结构20之间设置有像素界定结构60，像素界定结构60覆盖第一走线21和第二走线22；在平行于衬底基板10的方向上，像素界定结构60至少部分填充于第一走线21和第二走线22之间。
本申请实施例中，像素界定结构60整体覆盖第一走线21和第二走线22，从而起到保护第一走线21和第二走线22的作用；同时，像素界定结构60至少部分填充于第一走线21和第二走线22之间，利用部分像素界定结构60作为第一触控结构20中位于第一走线21和第二走线22的介质层，从而简化了显示面板的结构，简化了显示面板的生产工艺，从而有利于提高显示面板的生产效率，同时，避免单独用其它材料制备介质层，降低了显示面板的生产成本。本申请实施例中，像素界定结构60为现有显示技术中的PDL(Pixel Design Layer)结构。
在本申请的一个实施例中，如图3和图4所示，显示面板还包括跳线70，跳线70的一端与第二触控结构40电连接，跳线70的另一端与第一走线21或第二走线22电连接。具体的，本申请实施例中，跳线70的一端与第二触控结构40第二触控走线42电连接，跳线70的另一端与第一触控结构20的第一走线21电连接。
应当说明的是，本申请实施例中跳线70采用不透光的金属材料制成，为了保障显示面板摄像区域100的显示效果和拍照效果，跳线70设置于周边区域200靠近摄像区域100的一侧，为了保障第一触控结构20与跳线70连接的稳定性，增大第一触控结构20与跳线70的接触面积，第一触控结构20还可以沿摄像区域100向周边区域200的方向向周边区域200部分延伸，使得第一触控结构20能够与跳线70电连接。
在本申请的一个实施例中，显示面板的衬底基板10和有机发光层30之间设置有平坦化层82，第一触控结构20位于平坦化层82远离衬底基板10的一侧。
本申请实施例中，第一触控结构20设置于平坦化层82远离衬底基板10的一侧，这是因为平坦化层82具有很好的平坦度，可以为第一触控结构20中ITO膜层的形成提供良好的衬底。本领域技术人员理解的是，第一触控结构20可以设置在衬底基板10和有机发光层30之间的任一膜层的一侧。
本申请实施例中，如图3和图4所示，显示面板还包括：显示器件膜层81、隔离层83、绝缘层84和覆盖层85。具体的，本申请实施例中，平坦化层82为现有显示技术中经PLN(Planarization，平坦化)工艺后的绝缘膜层结构；隔离层83为现有显示技术中的Barrier(屏障)层；绝缘层84为现有显示技术中用于响应第二触控结构40的TLD(非接触驱动信号)膜层结构；覆盖层85为现有显示技术中的OC(OverCoating，绝缘覆盖)层，用于保护其覆盖的各膜层结构。
基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种显示面板的制作方法，该方法的流程示意图如图5所示，方法包括如下步骤：
S501，在衬底基板的一侧制备第一触控结构的初始结构。
具体的，通过磁控溅射或者真空蒸镀工艺，在衬底基板10的一侧制备第一触控结构的初始结构，即在衬底基板10的一侧形成ITO薄膜层。
S502，通过退火工艺处理第一触控结构的初始结构，得到第一触控结构。
具体的，通过退火工艺处理ITO薄膜层，使得ITO的导电性能和透光性能得以提升，得到ITO材料制成的第一触控结构20，从而得到如图6a所示的显示面板的第一中间结构。应当说明的是，为了保证ITO的高透过率和较低的电阻，退火工艺的温度要求通常为250℃-400℃，本申请实施例中，退火工艺的温度大于等于300℃。
S503，在第一触控结构远离衬底基板的一侧制备有机发光层。
具体的，在如图6a所示的显示面板的第一中间结构中第一触控结构20远离衬底基板10的一侧，通过真空蒸镀工艺制备有机发光层30。
在本申请的一个实施例中，在上述步骤S503之前还包括：在第一触控结构20的一侧制备像素界定结构60，使得像素界定结构60覆盖第一触控结构20的第一走线21和第二走线22，且在平行于衬底基板10的方向上，像素界定结构60至少部分填充于第一走线21和第二走线22之间。
本申请实施例中，在如图6a所示的显示面板的第一中间结构中第一触控结构20远离衬底基板10的一侧，制备像素界定结构60，并使得像素界定结构60覆盖第一触控结构20的第一走线21和第二走线22，且在平行于衬底基板10的方向上，像素界定结构60至少部分填充于第一走线21和第二走线22之间。
本申请实施例中，通过像素界定结构60保护第一走线21和第二走线22；同时，利用部分像素界定结构60作为第一触控结构20中位于第一走线21和第二走线22的介质层，简化了显示面板的结构，简化了显示面板的生产工艺，从而有利于提高显示面板的生产效率，降低了显示面板的生产成本。
在本申请的一个实施例中，在上述步骤S503之后还包括：
在有机发光层30远离衬底基板10的一侧制备薄膜封装层50。
可选地，在如图6a所示的显示面板的第一中间结构中第一触控结构20远离衬底基板10的一侧，依次制备像素界定结构60、有机发光层30、薄膜封装层50之后，还包括在薄膜封装层50的一侧制备隔离层83。
图案化薄膜封装层50、有机发光层30和像素界定结构60，使得第一走线21或第二走线22至少部分出露。
可选地，图案化薄膜封装层50、隔离层83、有机发光层30和像素界定结构60，得到如图6b所示的显示面板的第二中间结构，在显示面板的第二中间结构中，第一触控结构20中靠近摄像区域100边界处的第二走线22部分出露。本申请实施例中，为了保障第二走线22与跳线70的连接的稳定性，增大第二走线22与跳线70的接触面积，第二走线22沿摄像区域100向周边区域200的方向向周边区域200部分延伸，使得第二走线22至少部分位于显示面板的周边区域200。
在薄膜封装层50远离衬底基板10的一侧制备第二触控结构40，并使得第二触控结构40与第一走线21或第二走线22电连接。
在如图6b所示的显示面板的第二中间结构中，在开孔位置处制备跳线70，使得跳线70的一端与第二走线22连接，然后制备第二触控走线42，使得第二触控走线42与跳线70的另一端连接，然后依次制备绝缘层84、第一触控走线41，得到第二触控结构40，在第一触控走线41和绝缘层84的一侧制备覆盖层85，从而得到如图4所示的显示面板。
在本申请的一个实施例中，在衬底基板10的一侧制备第一触控结构的初始结构，具体包括：
在衬底基板10的一侧制备显示器件膜层81；
在显示器件膜层81远离衬底基板10的一侧制备平坦化层82；
在平坦化层82的一侧制备第一触控结构的初始结构。
基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种显示设备，包括：包括如上述各个实施例所提供的显示面板。
如图7所示，为申请实施例所提供的显示设备的结构示意图，显示设备的摄像组件300与显示面板的摄像区域100相对应。
应用本申请实施例，至少能够实现如下有益效果：
在本申请实施例提供的显示面板中，由于在显示区域的摄像区域100中设置有透明的第一触控结构20，使得显示面板的摄像区域100具备触控功能；而且第一触控结构20位于衬底基板10和有机发光层30之间，即第一触控结构20的制备发生在有机发光层30的制备之前，从而在保障第一触控结构20导电性的同时，有效避免制备第一触控结构20的工艺对有机发光层30的影响，从而使得本申请实施例提供的显示面板的摄像区域100即可以实现显示、触控功能，又保障了摄像区域100的透光性，保障了摄像区域100的拍照效果。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (7)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：显示区域，所述显示区域包括摄像区域和围绕所述摄像区域的周边区域；
所述摄像区域设置有透明的第一触控结构，所述第一触控结构设置于衬底基板和有机发光层之间；
所述周边区域设置有第二触控结构，所述第二触控结构位于薄膜封装层远离所述有机发光层的一侧，且与所述第一触控结构电连接；
所述第一触控结构包括多条第一走线和多条第二走线，
所述第一走线与所述第二走线相互绝缘；
所述第一走线与所述第二触控结构电连接，或者，所述第二走线与所述第二触控结构电连接；
所述有机发光层和所述第一触控结构之间设置有像素界定结构，所述像素界定结构覆盖所述第一走线和所述第二走线；在平行于所述衬底基板的方向上，所述像素界定结构至少部分填充于所述第一走线和所述第二走线之间。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一走线和所述第二走线均包括若干电极块，在平行于所述衬底基板的方向上，所述电极块的形状包括下述至少一种：方形、菱形。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一走线包括桥接走线，所述桥接走线的一端与所述第一走线的一电极块连接，另一端与相邻的所述第一走线的另一电极块连接；或者，
所述第二走线包括桥接走线，所述桥接走线的一端与所述第二走线的一电极块连接，另一端与相邻的所述第二走线的另一电极块连接；
所述第一走线的电极块和所述第二走线的电极块同层设置。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括跳线，所述跳线的一端与所述第二触控结构电连接，所述跳线的另一端与所述第一走线或所述第二走线电连接。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板和所述有机发光层之间设置有平坦化层，所述第一触控结构位于所述平坦化层远离所述衬底基板的一侧。
6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板的一侧制备第一触控结构的初始结构；
通过退火工艺处理所述第一触控结构的初始结构，得到第一触控结构；
在所述第一触控结构远离所述衬底基板的一侧制备有机发光层；
在所述有机发光层远离所述衬底基板的一侧制备薄膜封装层；
图案化所述薄膜封装层、所述有机发光层和像素界定结构，使得所述第一触控结构的第一走线或第二走线至少部分出露；
在所述薄膜封装层远离所述衬底基板的一侧制备第二触控结构，并使得所述第二触控结构与所述第一走线或所述第二走线电连接；
其中，所述有机发光层和所述第一触控结构之间设置有像素界定结构，所述像素界定结构覆盖所述第一走线和所述第二走线；在平行于所述衬底基板的方向上，所述像素界定结构至少部分填充于所述第一走线和所述第二走线之间。
7.一种显示设备，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的显示面板。
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