CN112433276B - 一种光学薄膜及其化学法制备方法 - Google Patents

一种光学薄膜及其化学法制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112433276B
CN112433276B CN202011401550.6A CN202011401550A CN112433276B CN 112433276 B CN112433276 B CN 112433276B CN 202011401550 A CN202011401550 A CN 202011401550A CN 112433276 B CN112433276 B CN 112433276B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
composite layer
reaction device
optical film
wear
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202011401550.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112433276A (zh
Inventor
钱佳琪
陈小刚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Tiansheng Microelectronic Material Co ltd
Original Assignee
Shenzhen Tiansheng Microelectronic Material Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Tiansheng Microelectronic Material Co ltd filed Critical Shenzhen Tiansheng Microelectronic Material Co ltd
Priority to CN202011401550.6A priority Critical patent/CN112433276B/zh
Publication of CN112433276A publication Critical patent/CN112433276A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112433276B publication Critical patent/CN112433276B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14Protective coatings, e.g. hard coatings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本发明涉及一种光学薄膜,包括:第一复合层、粘合层、第二复合层、耐磨层;所述第一复合层的下侧设置有粘合层,且第一复合层与粘合层通过热熔方式相连接;所述第二复合层设置在粘合层的下侧,且第二复合层与粘合层通过热熔方式相连接;所述耐磨层位于第一复合层的上侧,且耐磨层与第一复合层通过喷涂方式相连接。通过在结构上的改进,具有结构稳定和持久耐用的优点,从而有效地解决了现有技术中的问题和不足。

Description

一种光学薄膜及其化学法制备方法
技术领域
本发明涉及光学薄膜技术领域,更具体的说,尤其涉及一种光学薄膜及其化学法制备方法。
背景技术
光学薄膜是由薄的分层介质构成,通过界面传播光束的一类光学介质材料,其不但种类丰富,而且结构简单、使用寿命较长,因此广泛地应用于光学和光电子技术领域。
但是目前常见的光学薄膜还存在结构稳定功能不完善,影响薄膜的使用寿命,同时薄膜的耐磨性相对较差,在使用过程中容易发生损坏,影响装置的正常使用。
有鉴于此,针对现有的问题予以研究改良,提供一种光学薄膜及其化学法制备方法,旨在通过该技术,达到解决问题与提高实用价值性的目的。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光学薄膜及其化学法制备方法,以解决上述背景技术中提出的目前常见的光学薄膜还存在结构稳定功能不完善,影响薄膜的使用寿命,同时薄膜的耐磨性相对较差,在使用过程中容易发生损坏,影响装置正常使用的问题和不足。
为实现上述目的,本发明提供了一种光学薄膜及其化学法制备方法,由以下具体技术手段所达成:
一种光学薄膜,包括:第一复合层、粘合层、第二复合层、耐磨层;所述第一复合层的下侧设置有粘合层,且第一复合层与粘合层通过热熔方式相连接;所述第二复合层设置在粘合层的下侧,且第二复合层与粘合层通过热熔方式相连接;所述耐磨层位于第一复合层的上侧,且耐磨层与第一复合层通过喷涂方式相连接。
一种光学薄膜,包括:第一复合层、粘合层、第二复合层、耐磨层;所述第一复合层的下侧设置有粘合层,且第一复合层与粘合层通过热熔方式相连接;所述第二复合层设置在粘合层的下侧,且第二复合层与粘合层通过热熔方式相连接;所述耐磨层位于第一复合层的上侧,且耐磨层与第一复合层通过喷涂方式相连接。
作为本技术方案的进一步优化,本发明一种光学薄膜所述第一复合层的材质为二氧化钛,粘合层的材质为聚碳酸酯,第二复合层的材质为二氧化硅。
一种光学薄膜的化学法制备方法,包括以下步骤:
S1:选用多处厚度为1.1mm的玻璃作为衬底,并使用化学清洗和超声波清洗相结合的方法去除其表面的污染物后,将其保存在无水乙醇中进行保存;
S2:取出两处无水乙醇中的衬底,分别移动至甲、乙两反应装置内;
S3:向甲、乙两反应装置内通入惰性气体,以排出其内部原有的空气;
S4:利用真空机构将甲、乙两反应装置内的惰性气体抽出,并分别将其升温至450℃和600℃,同时向甲反应装置内通入SiH4和O2,向乙反应装置内通入TiCl4和O2,并等待30-60min;
S5:待反应完毕后,将制备的SiO2 薄膜和TiO2薄膜与衬底进行分离,叠放至深加工工作台上,并在其中间加入聚碳酸酯,最后利用压延机进行压延贴合;
S6:将压延完毕薄膜取出,并在其上表面喷涂一层耐磨涂层。
由于上述技术方案的运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:
1、本发明一种光学薄膜及其化学法制备方法,通过利用聚碳酸酯将二氧化钛和二氧化硅进行复合,不但保证了装置的透光性,还提升了装置的结构强度,从而使该装置起到结构稳定的作用。
2、本发明一种光学薄膜及其化学法制备方法,通过在装置的上侧喷涂耐磨层,可以大大提升装置的耐磨性能,从而使该装置起到持久耐用的作用。
3、本发明通过对上述装置在结构上的改进,具有结构稳定和持久耐用的优点,从而有效的解决了现有技术中的问题和不足。
附图说明
下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明:
附图1为本发明的结构示意图;
其中:1、第一复合层;2、粘合层;3、第二复合层;4、耐磨层。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步的详细说明。
如附图1所示,本发明提供一种光学薄膜及其化学法制备方法的具体技术实施方案:
一种光学薄膜,包括:第一复合层1、粘合层2、第二复合层3、耐磨层4;第一复合层1的下侧设置有粘合层2,且第一复合层1与粘合层2通过热熔方式相连接;第二复合层3设置在粘合层2的下侧,且第二复合层3与粘合层2通过热熔方式相连接;耐磨层4位于第一复合层1的上侧,且耐磨层4与第一复合层1通过喷涂方式相连接。
具体的,第一复合层1的材质为二氧化钛,粘合层2的材质为聚碳酸酯,第二复合层3的材质为二氧化硅。
一种光学薄膜的化学法制备方法,包括以下步骤:
S1:选用多处厚度为1.1mm的玻璃作为衬底,并使用化学清洗和超声波清洗相结合的方法去除其表面的污染物后,将其保存在无水乙醇中进行保存;
S2:取出两处无水乙醇中的衬底,分别移动至甲、乙两反应装置内;
S3:向甲、乙两反应装置内通入惰性气体,以排出其内部原有的空气;
S4:利用真空机构将甲、乙两反应装置内的惰性气体抽出,并分别将其升温至450℃和600℃,同时向甲反应装置内通入SiH4和O2,向乙反应装置内通入TiCl4和O2,并等待30-60min;
S5:待反应完毕后,将制备的SiO2 薄膜和TiO2薄膜与衬底进行分离,叠放至深加工工作台上,并在其中间加入聚碳酸酯,最后利用压延机进行压延贴合;
S6:将压延完毕薄膜取出,并在其上表面喷涂一层耐磨涂层。
综上所述:该一种光学薄膜及其化学法制备方法,通过利用聚碳酸酯将二氧化钛和二氧化硅进行复合,不但保证了装置的透光性,还提升了装置的结构强度,从而使该装置起到结构稳定的作用;通过在装置的上侧喷涂耐磨层,可以大大提升装置的耐磨性能,从而使该装置起到持久耐用的作用。
以上仅是本发明的具体应用范例,对本发明的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案,均落在本发明权利保护范围之内。

Claims (2)

1.一种光学薄膜的化学法制备方法,包括以下步骤:
S1:选用多个厚度为1.1mm的玻璃作为衬底,并使用化学清洗和超声波清洗相结合的方法去除其表面的污染物后,将其保存在无水乙醇中进行保存;
S2:取出两个无水乙醇中的衬底,分别移动至甲、乙两反应装置内;
S3:向甲、乙两反应装置内通入惰性气体,以排出其内部原有的空气;
S4:利用真空机构将甲、乙两反应装置内的惰性气体抽出,并分别将其升温至450℃和600℃,同时向甲反应装置内通入SiH4和O2,向乙反应装置内通入TiCl4和O2,并等待30-60min;
S5:待反应完毕后,将制备的SiO2 薄膜和TiO2薄膜与衬底进行分离,叠放至深加工工作台上,并在其中间加入聚碳酸酯,最后利用压延机进行压延贴合;
S6:将压延完毕薄膜取出,并在其上表面喷涂一层耐磨涂层。
2.根据权利要求1所述的一种光学薄膜的化学法制备方法制作的光学薄膜,其特征在于:光学薄膜包括:第一复合层(1)、粘合层(2)、第二复合层(3)、耐磨层(4);所述第一复合层(1)的下侧设置有粘合层(2),且第一复合层(1)与粘合层(2)通过热熔方式相连接;所述第二复合层(3)设置在粘合层(2)的下侧,且第二复合层(3)与粘合层(2)通过热熔方式相连接;所述耐磨层(4)位于第一复合层(1)的上侧,且耐磨层(4)与第一复合层(1)通过喷涂方式相连接;所述第一复合层(1)的材质为二氧化钛,粘合层(2)的材质为聚碳酸酯,第二复合层(3)的材质为二氧化硅。
CN202011401550.6A 2020-12-02 2020-12-02 一种光学薄膜及其化学法制备方法 Active CN112433276B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011401550.6A CN112433276B (zh) 2020-12-02 2020-12-02 一种光学薄膜及其化学法制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011401550.6A CN112433276B (zh) 2020-12-02 2020-12-02 一种光学薄膜及其化学法制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112433276A CN112433276A (zh) 2021-03-02
CN112433276B true CN112433276B (zh) 2022-08-23

Family

ID=74692528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011401550.6A Active CN112433276B (zh) 2020-12-02 2020-12-02 一种光学薄膜及其化学法制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112433276B (zh)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004027090A1 (de) * 2004-06-03 2006-01-05 Schott Ag Verbundmaterial mit einem Dekor und einer Funktionsschicht sowie Verfahren zu desen Herstellung
TWI627069B (zh) * 2013-09-13 2018-06-21 康寧公司 具有多層光學膜的低色偏抗刮物件
CN110456428B (zh) * 2019-08-14 2021-06-25 常宝新材料(苏州)有限公司 一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺
CN210679972U (zh) * 2019-10-08 2020-06-05 闽南师范大学 一种高耐磨性的绝缘薄膜

Also Published As

Publication number Publication date
CN112433276A (zh) 2021-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109655954B (zh) 滤光片及其制备方法、指纹识别模组及电子设备
JP6176067B2 (ja) ガラス積層体および電子デバイスの製造方法
WO2015163134A1 (ja) ガラス積層体および電子デバイスの製造方法
TWI425244B (zh) 抗反射膜及其製成方法
WO2014129454A1 (ja) ガラス積層体、光学結像部材、ガラス積層体の製造方法及び光学結像部材の製造方法
KR102267241B1 (ko) 유리 필름 적층체 및 액정 패널의 제조 방법
CN101969075A (zh) 一种晶体硅太阳能电池双层减反射膜及其制备方法
WO2018034290A1 (ja) 積層体、電子デバイスの製造方法、積層体の製造方法
TW201326914A (zh) 微透鏡結構及其形成方法
CN113149449A (zh) 一种大尺寸柔性玻璃的制备方法
CN102222704A (zh) 一种晶体硅太阳能电池三层减反射膜及其制备方法
CN109180020B (zh) 可切割增透减反射镀膜夹层玻璃及其制造方法
CN209400726U (zh) 滤光片、指纹识别模组及电子设备
CN112433276B (zh) 一种光学薄膜及其化学法制备方法
JPWO2013035746A1 (ja) アルカリバリア層付ガラス基板および透明導電性酸化物膜付ガラス基板
WO2013015406A1 (ja) 光学装置、撮像装置、及び撮像装置の製造方法
CN115542434A (zh) 一种增透复合薄膜及其制备方法
CN110550868B (zh) 一种单向透光玻璃及制备方法
CN112174519A (zh) 复合玻璃板及制备方法和应用
WO2014104050A1 (ja) 強化板ガラス及びその製造方法
CN216039300U (zh) 一种超高硬度减反射镀膜玻璃
CN112469675A (zh) 手持式片材边缘条分离装置及分离玻璃片的方法
CN111505755A (zh) 一种高韧性树脂滤光片及其制备方法
CN217112779U (zh) 一种宽带增透膜光学镜片
CN213085820U (zh) 一种超薄软玻璃的积累体

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20220713

Address after: 518000 room 406, block a, building 6, Zhonggang Plaza, convention Bay, No. 83, ZHANJING Road, Zhancheng community, Fuhai street, Shenzhen, Guangdong Province

Applicant after: Shenzhen Tiansheng microelectronic material Co.,Ltd.

Address before: 215000 4th floor, building 7, 88 Zhenbei Road, Tongan town, high tech Zone, Suzhou City, Jiangsu Province

Applicant before: Suzhou Suke New Material Co.,Ltd.

TA01 Transfer of patent application right
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant