CN110550868B - 一种单向透光玻璃及制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种单向透光玻璃，包括：玻璃基板以及依次叠加设置在玻璃基板一侧表面的复合电介质层、非晶硅层、第一SiOx层、微晶硅层、第二SiOx层；其中，复合电介质层和非晶硅层组成第一光学模块，第一SiOx层、微晶硅层和第二SiOx层组成第二光学模块；该单向透光玻璃的制备方法为：在玻璃基板上沉积复合电介质层；在复合电介质层上采用等离子增强化学气相沉积法沉积非晶硅层；在非晶硅层上采用等离子增强化学气相沉积法沉积第一SiOx层；在第一SiOx层上沉积微晶硅层；在微晶硅上沉积第二SiOx层。本发明利用上述玻璃的各层之间不同折射率和各层膜厚度的组合，构成一个非对称结构光学器件，使得两个面对光具有不同反射率，从而实现单向透光。

Description

一种单向透光玻璃及制备方法
技术领域
本发明涉及光学玻璃领域，特别是涉及一种单向透光玻璃及其制备方法。
背景技术
单向玻璃具有单向的透视功能，在一些特定场所具有重要的应用价值。现有技术中单向透视玻璃一般采用贴膜的结构，通过这种贴膜结构的来实现玻璃的单向透视效果，但这种通过贴膜的方式存在一定的问题，例如所贴的单向膜在受到摩擦后容易受到破坏、脱落等缺点。
现有技术中另一种单向透视玻璃是在玻璃表面上沉积金属层及其相配合的他功能层结构。这种结构虽然简单，但单向透视玻璃的金属层容易从玻璃表面脱离，特别是在长期使用时，金属层中的金属会被氧化，会直接造成单向透视玻璃的透视性降低，甚至失去单向透视的作用。另外，上述的现有单向透视玻璃均只有在两侧光源存在明显差别时，单向透光作用才会显著，因此，在实际应用时存在一定的局限性。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供一种结构牢固、简单的单向透光玻璃。该玻璃利用各层之间不同折射率和各层膜厚度组合，构成一个非对称结构光学器件，利用光的干涉原理，使得两个面对光具有不同反射率，从而实现单向透光。
本发明采用的技术方案为：一种单向透光玻璃，包括：玻璃基板以及依次叠加设置在所述玻璃基板一侧表面的复合电介质层、非晶硅层、第一SiOx层、微晶硅层、第二SiOx层；其中，所述复合电介质层和所述非晶硅层组成第一光学模块，所述第一SiOx层、所述微晶硅层和所述第二SiOx层组成第二光学模块；所述复合电介质层、所述非晶硅层、所述第一SiOx层、所述微晶硅层、所述第二SiOx层依次沉积在所述玻璃基板同一侧面。
本发明一个较佳实施例中，所述复合电介质层包括SiOx、SiNx、SiNyOx一种或者多种复合薄膜。
本发明一个较佳实施例中，所述复合电介质层、所述非晶硅层、所述第一SiOx层、所述微晶硅层、所述第二SiOx层均能够通过等离子体增强化学的气相沉积法制备沉积。
为了解决现有技术的不足，本发明的另一技术方案为：一种单向透光玻璃的制备方法，步骤如下：
S1在所述玻璃基板上沉积复合电介质层；
S2在所述复合电介质层上采用等离子增强化学气相沉积法沉积非晶硅层；
S3在所述非晶硅层上采用等离子增强化学气相沉积法沉积第一SiOx层；
S4在所述第一SiOx层上采用等离子增强化学气相沉积法沉积微晶硅层；
S5在所述微晶硅上采用等离子增强化学气相沉积法沉积第二SiOx层。
本发明一个较佳实施例中，，所述复合电介质层的厚度为12-20nm，所述复合电介质层的折射率在1.6-2.2之间；所述非晶硅层的厚度为20-35nm，折射率在3.2-3.7之间；所述第一SiOx层的厚度为20-40nm，折射率在1.3-2.3；所述微晶硅层厚度为10-15nm，折射率在3.6-3.8；所述第二SiOx层的厚度为40-80nm，折射率在2.3-2.7。
本发明一个较佳实施例中，所述复合电介质层采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-240度；沉积时设备腔体中的压力为30-60Pa；等离子体的功率密度为300-450W/m2；采用SiH4,CO2,NH3为反应源气体，其中SiH4：CO2：NH3的流量比为1：(0-1.2)：(0-0.8)。
本发明一个较佳实施例中，，所述非晶硅层采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-220度；沉积时设备腔体中的压力为30-45Pa；等离子体的功率密度为400-600W/m2；采用SiH4和H2为反应源气体，其中SiH4：H2的流量比为1：(0.8-1.4)。
本发明一个较佳实施例中，，所述第一SiOx层采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-220度；沉积时设备腔体中的压力为30-55Pa；等离子体的功率密度为500-650W/m2；采用SiH4和CO2为反应源气体，其中SiH4：CO2的流量比为1：(1.2-2.0)。
本发明一个较佳实施例中，，所述微晶硅层采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度160-200度；沉积时设备腔体中的压力为50-70Pa；等离子体的功率密度为700-1100W/m2；采用SiH4和H2为反应源气体，其中SiH4：H2的流量比为1：(0.5-1.2)。
本发明一个较佳实施例中，所述第二SiOx层采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-220度；沉积时设备腔体中的压力为30-55Pa；等离子体的功率密度为500-650W/m2；采用SiH4和CO2为反应源气体，其中SiH4：CO2的流量比为1：(0.6-1.2)。
本发明一个较佳实施例中，所述微晶硅层的晶化率为5-15％。
本发明解决了背景技术中存在的缺陷，本发明具备以下有益效果：
(1)该玻璃利用各层之间不同折射率和各层膜厚度组合，构成一个非对称结构光学器件，利用光的干涉原理，使得两个面对光具有不同反射率，从而实现单向透光；复合电介质层和非晶硅层，这两层膜构成第一光学模块，对从玻璃面入射的光起到增加反射的作用；同样，所述第一SiOx层、微晶硅层和第二SiOx层，形成第二光学模块，进一步增强对光的反射作用；通过两个光学模块的协同配合，增强反射率。
(2)每层结构均由等离子增强化学气相沉积法沉积，整体工艺相对简单，玻璃本身并不需要转移，各层膜可以在同一个沉积腔体内制备完成。
(3)该玻璃的各层结构中不含有金属层，可以有效避免以往单向玻璃中金属层的氧化失效的问题，单向透视性基本不会降低。
(4)复合电介质层一方面提供一种小于非晶硅层折射率的膜结构，与非晶硅层形成对光起到干涉作用的光学模块；另一方面，也可以作为玻璃基板与非晶硅层之间的缓冲层，增强非晶硅层在玻璃基板上的粘结力，提高其稳定性。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明；
图1是本发明的单向透光玻璃结构示意图；
图2是本发明的单向透光玻璃的制作工艺流程示意图；
其中：1、玻璃基板；2、复合电介质层；3、非晶硅层；4、第一SiOx层；5、微晶硅层；6、第二SiOx层。
具体实施方式
现在结合附图和实施例对本发明作进一步详细的说明，这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本发明的基本结构，因此其仅显示与本发明有关的构成。
如图1所示，一种单向透光玻璃，包括：玻璃基板1以及依次叠加设置在所述玻璃基板1一侧表面的复合电介质层2、非晶硅层3、第一SiOx层4、微晶硅层5、第二SiOx层6；其中，所述复合电介质层2和所述非晶硅层3组成第一光学模块，所述第一SiOx层4、所述微晶硅层5和所述第二SiOx层6组成第二光学模块；所述复合电介质层2、所述非晶硅层3、所述第一SiOx层4、所述微晶硅层5、所述第二SiOx层6依次沉积在所述玻璃基板1同一侧面。
如图2所示，制备该单向透光玻璃的步骤如下：
S1在所述玻璃基板1上沉积复合电介质层2；
S2在所述复合电介质层2上采用等离子增强化学气相沉积法沉积非晶硅层3；
S3在所述非晶硅层3上采用等离子增强化学气相沉积法沉积第一SiOx层4；
S4在所述第一SiOx层4上采用等离子增强化学气相沉积法沉积微晶硅层5；
S5在所述微晶硅上采用等离子增强化学气相沉积法沉积第二SiOx层6。
所述复合电介质层2包括SiOx、SiNx、SiNyOx一种或者多种复合薄膜。所述复合电介质层2、所述非晶硅层3、所述第一SiOx层4、所述微晶硅层5、所述第二SiOx层6均能够通过等离子体增强化学的气相沉积法制备沉积。
所述复合电介质层2的厚度为12-20nm，所述复合电介质层2的折射率在1.6-2.2之间；所述非晶硅层3的厚度为20-35nm，折射率在3.2-3.7之间；所述第一SiOx层4的厚度为20-40nm，折射率在1.3-2.3；所述微晶硅层5厚度为10-15nm，折射率在3.6-3.8；所述第二SiOx层6的厚度为40-80nm，折射率在2.3-2.7。
所述复合电介质层2采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-240度；沉积时设备腔体中的压力为30-60Pa；等离子体的功率密度为300-450W/m2；采用SiH4,CO2,NH3为反应源气体，其中SiH4：CO2：NH3的流量比为1：(0-1.2)：(0-0.8)。
所述非晶硅层3采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-220度；沉积时设备腔体中的压力为30-45Pa；等离子体的功率密度为400-600W/m2；采用SiH4和H2为反应源气体，其中SiH4：H2的流量比为1：(0.8-1.4)。
所述第一SiOx层4采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-220度；沉积时设备腔体中的压力为30-55Pa；等离子体的功率密度为500-650W/m2；采用SiH4和CO2为反应源气体，其中SiH4：CO2的流量比为1：(1.2-2.0)。
所述微晶硅层5采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度160-200度；沉积时设备腔体中的压力为50-70Pa；等离子体的功率密度为700-1100W/m2；采用SiH4和H2为反应源气体，其中SiH4：H2的流量比为1：(0.5-1.2)。
所述第二SiOx层6采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-220度；沉积时设备腔体中的压力为30-55Pa；等离子体的功率密度为500-650W/m2；采用SiH4和CO2为反应源气体，其中SiH4：CO2的流量比为1：(0.6-1.2)。
上述实施例中，其中复合电介质层2的厚度为12-20nm；所述非晶硅层3的厚度为20-35nm；所述第一SiOx层4的厚度为20-40nm；所述微晶硅层5厚度为5-15nm；所述第二SiOx层6的厚度为40-80nm。
本实施例的技术方案中，选用3mm厚的超白玻璃作用为玻璃基板1，之后采用等离子增强化学气相沉积法在玻璃上沉积制备复合电介质层2。优选的，本实施例中采用SiNxOy作为复合电介质层2，其厚度为15-18nm。之后，在复合电介质层2上采用等离子增强化学气相沉积法沉积非晶硅层3，非晶硅层3的厚度为20-35nm，优选的，本实施例中非晶硅层3的平均厚度为25nmm。再采用等离子增强化学气相沉积法在非晶硅层3上沉积第一SiOx层4，其中第一SiOx层4的平均厚度为30nm。接着，采用等离子增强化学气相沉积法在第一SiOx层4上沉积微晶硅层5，其中微晶硅层5的平均厚度为12nm。最后，采用等离子增强化学气相沉积法在微晶硅层5上沉积第二SiOx层6，其厚度为50-55nm。
将实施例中所制备的单向透光玻璃进行光学性能检测，其测试结果如下：
第二SiOx层6面(观察面)的可见光透过率：8.3％，透过颜色：a*＝-3.2，b*＝-5.7；
第二SiOx层6面(观察面)的光反射率：2.6％，反射颜色：a*＝16.1，b*＝-12.8；
玻璃基板1(1)面(观察对象面)的光反射率：69％，反射颜色：a*＝-1.6，b*＝3.7；
从以上结果可以看出，本发明提供的单向透光玻璃，能提高观察对象面光线的反射率，同时降低观察面的光线反射率，从而减少观察干扰的单向透视玻璃。同时，复合电介质层2、非晶硅层3、第一SiOx层4、微晶硅层5、第二SiOx层6通过等离子增强化学气相沉积法可在同一沉积设备中依次沉积完成，在各层膜制备过程中，玻璃无需转移。另外，本发明提供的单向透视玻璃，通过多层结构叠加直接沉积而成，其结构牢固、紧凑、简单。特别是各层结构中不含有金属层，可以有效避免以往单向玻璃中金属层的氧化失效的问题。
本发明的核心：利用各层之间不同折射率和各层膜厚度组合，构成一个非对称结构光学器件，利用光的干涉原理，使得两个面对光具有不同反射率。如复合电介质层2折射率在1.6-2.2；非晶硅层3折射率在3.2-3.7之间，这两层膜构成第一光学模块，对从玻璃面入射的光起到增加反射的作用；同样，所述第一SiOx层4折射率在1.3-2.3，微晶硅层5折射率在3.6-3.8，第二SiOx层6折射率在2.3-2.7之间，三者形成第二光学模块，进一步增强对光的反射作用。
以上依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定技术性范围。

Claims (9)

1.一种单向透光玻璃，包括：玻璃基板以及依次叠加设置在所述玻璃基板一侧表面的复合电介质层、非晶硅层、第一SiOx层、微晶硅层、第二SiOx层；其中，所述复合电介质层和所述非晶硅层组成第一光学模块，所述第一SiOx层、所述微晶硅层和所述第二SiOx层组成第二光学模块；所述复合电介质层、所述非晶硅层、所述第一SiOx层、所述微晶硅层、所述第二SiOx层依次沉积在所述玻璃基板同一侧面；
所述复合电介质层的厚度为12-20nm，所述复合电介质层的折射率在1.6-2.2之间；所述非晶硅层的厚度为20-35nm，折射率在3.2-3.7之间；所述第一SiOx层的厚度为20-40nm，折射率在1.3-2.3；所述微晶硅层厚度为10-15nm，折射率在3.6-3.8；所述第二SiOx层的厚度为40-80nm，折射率在2.3-2.7。
2.根据权利要求1所述的一种单向透光玻璃，其特征在于：所述复合电介质层包括SiOx、SiNx、SiNyOx一种或者多种复合薄膜。
3.根据权利要求1所述的一种单向透光玻璃，其特征在于：所述复合电介质层、所述非晶硅层、所述第一SiOx层、所述微晶硅层、所述第二SiOx层均能够通过等离子体增强化学的气相沉积法制备沉积。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的一种单向透光玻璃的制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
S1、在所述玻璃基板上沉积复合电介质层；
S2、在所述复合电介质层上采用等离子增强化学气相沉积法沉积非晶硅层；
S3、在所述非晶硅层上采用等离子增强化学气相沉积法沉积第一SiOx层；
S4、在所述第一SiOx层上采用等离子增强化学气相沉积法沉积微晶硅层；
S5、在所述微晶硅上采用等离子增强化学气相沉积法沉积第二SiOx层。
5.根据权利要求4所述的一种单向透光玻璃的制备方法，其特征在于：所述复合电介质层采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-240度；沉积时设备腔体中的压力为30-60Pa；等离子体的功率密度为300-450W/m2；采用SiH4 ,CO2 ,NH3为反应源气体，其中SiH4：CO2：NH3的流量比为1：(0-1 .2)：(0-0 .8)。
6.根据权利要求4所述的一种单向透光玻璃的制备方法，其特征在于：所述非晶硅层采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-220度；沉积时设备腔体中的压力为30-45Pa；等离子体的功率密度为400-600W/m2；采用SiH4和H2为反应源气体，其中SiH4：H2的流量比为1：(0 .8-1 .4)。
7.根据权利要求4所述的一种单向透光玻璃的制备方法，其特征在于：所述第一SiOx层采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-220度；沉积时设备腔体中的压力为30-55Pa；等离子体的功率密度为500-650W/m2；采用SiH4和CO2为反应源气体，其中SiH4：CO2的流量比为1：(1 .2-2 .0)。
8.根据权利要求4所述的一种单向透光玻璃的制备方法，其特征在于：所述微晶硅层采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度160-200度；沉积时设备腔体中的压力为50-70Pa；等离子体的功率密度为700-1100W/m2；采用SiH4和H2为反应源气体，其中SiH4：H2的流量比为1：(0 .5-1 .2)。
9.根据权利要求4所述的一种单向透光玻璃的制备方法，其特征在于：所述第二SiOx层采用等离子增强化学气相沉积法制备，制备工艺为：沉积温度180-220度；沉积时设备腔体中的压力为30-55Pa；等离子体的功率密度为500-650W/m2；采用SiH4和CO2为反应源气体，其中SiH4：CO2的流量比为1：(0 .6-1 .2)。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112967588A (zh) * 2021-02-07 2021-06-15 中山职业技术学院 一种光响应标签

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6284382B1 (en) * 1997-11-27 2001-09-04 Sony Corporation Antireflection film and manufacturing method thereof
CN105585253A (zh) * 2016-02-02 2016-05-18 深圳新晶泉技术有限公司 减反膜玻璃及其制备方法
CN106431004A (zh) * 2016-09-06 2017-02-22 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司 截止蓝光和减反射双功能镀膜玻璃及其制备方法
DE102016002597A1 (de) * 2016-03-04 2017-09-07 Optics Balzers Ag Breitbandentspiegelung für den NlR-Bereich
CN108275889A (zh) * 2017-12-29 2018-07-13 广东中航特种玻璃技术有限公司 一种减反射镀膜玻璃和制备方法
CN108897085A (zh) * 2018-08-06 2018-11-27 信阳舜宇光学有限公司 滤光片及包含该滤光片的红外图像传感系统
CN109437592A (zh) * 2018-12-21 2019-03-08 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 一种基于电介质膜的镜面镀膜玻璃及其生产工艺
CN210711286U (zh) * 2019-09-11 2020-06-09 江西科技学院 一种单向透光玻璃

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6284382B1 (en) * 1997-11-27 2001-09-04 Sony Corporation Antireflection film and manufacturing method thereof
CN105585253A (zh) * 2016-02-02 2016-05-18 深圳新晶泉技术有限公司 减反膜玻璃及其制备方法
DE102016002597A1 (de) * 2016-03-04 2017-09-07 Optics Balzers Ag Breitbandentspiegelung für den NlR-Bereich
CN106431004A (zh) * 2016-09-06 2017-02-22 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司 截止蓝光和减反射双功能镀膜玻璃及其制备方法
CN108275889A (zh) * 2017-12-29 2018-07-13 广东中航特种玻璃技术有限公司 一种减反射镀膜玻璃和制备方法
CN108897085A (zh) * 2018-08-06 2018-11-27 信阳舜宇光学有限公司 滤光片及包含该滤光片的红外图像传感系统
CN109437592A (zh) * 2018-12-21 2019-03-08 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 一种基于电介质膜的镜面镀膜玻璃及其生产工艺
CN210711286U (zh) * 2019-09-11 2020-06-09 江西科技学院 一种单向透光玻璃

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