CN112420962A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制作方法。所述显示面板包括阵列基板以及设于所述阵列基板上的OLED器件层；所述阵列基板包括薄膜晶体管，所述OLED器件层包括与所述薄膜晶体管对应设置的阳极；所述阳极包括多个相互间隔设置的阳极块，多个阳极块分别与所述薄膜晶体管的漏极电性连接。本申请能够降低阴阳极短路时的修复工作量和修复难度，提高修复成功率，提高显示面板的良率。

Description

显示面板及其制作方法

技术领域

本申请涉及显示面板技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

有机发光二极管(OLED)显示面板，作为新一代显示技术，具有低功耗、高色域、高亮度、高分辨率、宽视角、高响应速度等优点，广泛受到市场的青睐。OLED显示面板安装驱动方式可以分为无源矩阵型OLED(Passive Matrix OLED，PMOLED)和有源矩阵型OLED(ActiveMatrix OLED，AMOLED)两大类。其中，AMOLED具有呈阵列式排布的像素，属于主动显示类型，发光效能高，通常用作高清晰度的大尺寸显示装置。OLED按照光出射方向的不同，可以分为两种结构：一种是底发射型，一种是顶发射型。顶发射型OLED所发出的光是从器件的顶部出射，没有像素金属走线的遮光，能有效提高开口率。

现有的顶发射型OLED包括依次设置的阵列基板、阳极、发光层和阴极，以构成多个像素区。若由于制程等各种原因导致某个像素区中的阴阳极短路，则该像素区不会发光，显示面板上表现为暗点。现有的修复方法是找到短路点，并采用镭射激光切断短路点，使该像素区正常启亮。但这种修复方法对修复的要求较高，若激光能量过大，可能无法完成修复，甚至损伤到周围的像素。另外，若短路点较多，则需要逐一切断每个短路点，增加修复工作量和修复难度。在信赖性测试时，已修复过的位置阴阳极可能又重新搭接出现短路，修复成功率较低。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板及其制作方法，能够降低阴阳极短路时的修复工作量和修复难度，提高修复成功率，提高显示面板的良率。

本申请实施例提供了一种显示面板，包括阵列基板以及设于所述阵列基板上的OLED器件层；所述阵列基板包括薄膜晶体管，所述OLED器件层包括与所述薄膜晶体管对应设置的阳极；所述阳极包括多个相互间隔设置的阳极块，多个阳极块分别与所述薄膜晶体管的漏极电性连接。

进一步地，所述OLED器件层还包括与所述阳极同层设置的多个阳极走线；所述多个阳极走线与所述多个阳极块一一对应设置，且每个阳极走线的一端与其对应的阳极块连接，另一端与所述薄膜晶体管的漏极连接。

进一步地，所述OLED器件层包括发光区和非发光区；所述阳极位于所述发光区，所述多个阳极走线位于所述非发光区。

进一步地，所述显示面板还包括设于所述阵列基板与所述OLED器件层之间的平坦层；所述平坦层中开设有过孔，所述多个阳极走线通过所述过孔与所述薄膜晶体管的漏极连接。

进一步地，所述OLED器件层还包括依次设于所述阳极上的发光层和阴极；每个阳极走线上设有其对应的阳极块与所述阴极短路时的切断点。

本申请实施例还提供了一种显示面板的制作方法，包括：

形成阵列基板，所述阵列基板包括薄膜晶体管；在所述阵列基板上形成OLED器件层，所述OLED器件层包括与所述薄膜晶体管对应设置的阳极，所述阳极包括多个相互间隔设置的阳极块，多个阳极块分别与所述薄膜晶体管的漏极电性连接。

进一步地，所述OLED器件层还包括与所述阳极同层设置的多个阳极走线；所述多个阳极走线与所述多个阳极块一一对应设置，且每个阳极走线的一端与其对应的阳极块连接，另一端与所述薄膜晶体管的漏极连接。

进一步地，所述OLED器件层包括发光区和非发光区；所述阳极位于所述发光区，所述多个阳极走线位于所述非发光区。

进一步地，所述方法还包括：

在所述阵列基板与所述OLED器件层之间形成平坦层；在所述平坦层中开设过孔，使所述多个阳极走线通过所述过孔与所述薄膜晶体管的漏极连接。

进一步地，所述OLED器件层还包括依次设于所述阳极上的发光层和阴极。

所述方法还包括：

在所述多个阳极块中的任一阳极块与所述阴极短路时，切断所述任一阳极块对应的阳极走线。

本申请的有益效果为：将阳极设置为多个相互间隔的阳极块，且多个阳极块分别与薄膜晶体管的漏极电性连接，以在阳极块与阴极之间出现一个或多个短路点时，通过断开该阳极块与薄膜晶体管之间的电性连接实现修复，仅使该阳极块对应的区域为暗区，且该暗区面积极小，不影响整体显示效果，同时降低修复工作量和修复难度，提高修复成功率，进而提高显示面板的良率。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本申请实施例提供的显示面板的截面示意图；

图2为本申请实施例提供的显示面板中阳极层的结构示意图；

图3为本申请实施例提供的显示面板中阴阳极发生短路时的阳极层示意图；

图4为本申请实施例提供的显示面板修复后的阳极层示意图；

图5为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图。

具体实施方式

这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本申请的示例性实施例的目的。但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。另外，术语“包括”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

这里所使用的术语仅仅是为了描述具体实施例而不意图限制示例性实施例。除非上下文明确地另有所指，否则这里所使用的单数形式“一个”、“一项”还意图包括复数。还应当理解的是，这里所使用的术语“包括”和/或“包含”规定所陈述的特征、整数、步骤、操作、单元和/或组件的存在，而不排除存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。

下面结合附图和实施例对本申请作进一步说明。

如图1所示，本申请实施例提供了一种显示面板，包括阵列基板1以及设于阵列基板1上的OLED器件层2。阵列基板1包括依次设置的衬底11、第一金属层12、栅极保护层13、有源层14、蚀刻阻挡层15和第二金属层16。其中，衬底11可以为玻璃基板。第一金属层12包括多个栅极17和金属走线(图中未示出)，第二金属层16包括多个源极18、多个漏极19和金属走线(图中未示出)，以使阵列基板1形成多个相互间隔设置的薄膜晶体管10，每个薄膜晶体管10分别包括一个栅极17、一个源极18和一个漏极19。

OLED器件层2包括依次设置的阳极层21、像素界定层22、发光层23和阴极24。其中，阳极层21包括与多个薄膜晶体管10一一对应设置的多个阳极24，像素界定层22中开设有与多个阳极26一一对应的像素开口，发光层23包括与多个像素开口一一对应设置的多个发光结构25，且每个发光结构25设于其对应的像素开口中的阳极26上，阴极24为公共电极，覆盖在像素界定层22以及每个像素开口中的发光结构25上，以形成多个子像素。发光结构25不同，构成的子像素也不同，多个子像素可以包括白色子像素W、红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B中的至少一个。每个发光结构25通过其上方的透明阴极24射出光线，以形成OLED器件层2的发光区A，即像素开口中的阳极26、发光结构25和阴极24位于发光区A，OLED器件层2的其他区域为非发光区C。

结合图2所示，阳极26包括多个相互间隔设置的阳极块261。在每个阳极26中，阳极26分为多个阳极块261，且相邻阳极块261之间具有间隙，该间隙极小，只要能保证多个阳极块261相互绝缘即可，阳极块261的形状可以为矩形、三角形、不规则多边形等各种形状，阳极块261之间的形状和大小可以相同，也可以不同，只要能保证不影响显示效果即可，在此不做具体限定。

阳极26中的多个阳极块261分别与阳极26对应的薄膜晶体管10的漏极19电性连接，即一个阳极26中的多个阳极块261与同一个薄膜晶体管10的漏极19电性连接，以保证一个阳极26中的多个阳极块261输入相同的信号，进而保证该子像素的发光亮度相同。

在显示面板的某个位置发生阴阳极短路时，检测该短路位置所属的阳极块261，即检测与阴极24发生短路的阳极块261，断开该阳极块261与薄膜晶体管10的漏极19的电性连接。由于阳极26中的多个阳极块261相互间隔，且分别与薄膜晶体管10电性连接，因此其中一个阳极块261与阴极24发生短路，不会导致其他阳极块261与阴极24短路，断开该阳极块261与薄膜晶体管10的电性连接，不会影响到其他阳极块261与薄膜晶体管10的电性连接。在断开该阳极块261与薄膜晶体管10的电性连接后，该阳极块261对应的区域变为暗区，但该暗区的面积极小，同时其他阳极块261对应的区域正常显示，从而不影响该子像素整体显示效果。

需要说明的是，一个阳极26的阳极块261的数量越多，修复后对该像素的显示效果影响越小，但具有多个短路点时所需要的修复工作量越大，因此在保证显示效果不受影响的前提下，可以尽可能减少阳极块261的数量，以尽可能减少修复工作量。优选地，一个阳极26可以包括四个阳极块261。

本实施例在阴阳极发生短路时，通过牺牲子像素中的一小块发光区，且牺牲的小块发光区不对子像素整体显示效果产生影响，从而实现像素修复，有效降低修复工作量和修复难度，且提高修复成功率。

进一步地，如图2所示，阳极层21还包括与多个阳极块261一一对应设置的多个阳极走线27，即阳极走线27与阳极26同层设置，且阳极26中的每个阳极块261对应一个阳极走线27。阳极走线27的一端与对应的阳极块261电性连接，阳极走线27的另一端与薄膜晶体管10的漏极19电性连接，从而实现阳极块261与薄膜晶体管10的漏极19的电性连接。

需要说明的是，在每个阳极26中，阳极26中的多个阳极块261对应的阳极走线27可以各自单独与薄膜晶体管10的漏极连接，也可以通过公共金属线28与薄膜晶体管10的漏极连接，即一个阳极26对应一个公共金属线28，阳极26中的多个阳极块261对应的阳极走线27均与该阳极26对应的公共金属线28连接，该公共金属线28同时与该阳极26对应的薄膜晶体管10的漏极连接。

每个阳极走线27上设有其对应的阳极块261与阴极24短路时的切断点，该切断点可以位于阳极走线27的任意位置，以便在阳极块261与阴极24发生短路时，能够采用激光对该阳极块261对应的阳极走线27上的切断点进行切割，断开该阳极块261与薄膜晶体管10的连接，以保证其他阳极块261不受影响。

多个阳极走线27位于非发光区C，公共金属线28也位于非发光区C。由于阳极走线27位于非发光区C，在修复时，对非发光区C中的阳极走线27进行切割，能够避免对发光区A中的膜层造成损伤，降低修复难度，也避免了现有技术在切断短路点后阴阳极又重新搭接的情况，提高修复可靠性。

进一步地，显示面板还包括设于所述阵列基板1与所述OLED器件层2之间的平坦层3，即平坦层3位于阵列基板1中的第二金属层16上，OLED器件层2中的阳极层21位于平坦层3上，即薄膜晶体管10的漏极19与对应的阳极26之间设有平坦层3。为了实现阳极26与薄膜晶体管10的漏极19的电性连接，可以在薄膜晶体管10的漏极19上方的平坦层3中开设过孔29。阳极26中的多个阳极块261对应的阳极走线27可以各自单独通过过孔29与薄膜晶体管10的漏极19连接，也可以共同连接公共金属线28后，使公共金属线28通过过孔29与薄膜晶体管10的漏极19连接。

例如，如图3所示，每个子像素中的阳极26包括四个阳极块261，一个红色子像素R中出现阴阳极短路，导致该红色子像素R整体无法发光。通过检测发现短路点D位于该红色子像素R左上角的阳极块261处，使用镭射对该阳极块261对应的阳极走线27上的切断点Q进行切割，断开该阳极块261与薄膜晶体管10的电性连接，仅使该阳极块261所在的区域无法发光，而其他阳极块261所在的区域恢复正常发光，如图4所示，实现修复，以尽可能多的保留子像素中可正常发光的区域，保证子像素整体显示效果不受影响。

综上，本申请实施例能够将阳极26设置为多个相互间隔的阳极块261，且多个阳极块261分别与薄膜晶体管10的漏极19电性连接，以在阳极块261与阴极24之间出现一个或多个短路点时，通过断开该阳极块261与薄膜晶体管10之间的连接实现修复，仅使该阳极块261对应的区域为暗区，且该暗区面积极小，不影响整体显示效果，同时降低修复工作量和修复难度，提高修复成功率，进而提高显示面板的良率。

如图5所示，本申请实施例还提供一种显示面板的制作方法，包括：

501、形成阵列基板，所述阵列基板包括薄膜晶体管。

如图1所示，提供衬底11，依次在衬底11上形成第一金属层12、栅极保护层13、有源层14、蚀刻阻挡层15和第二金属层16，构成阵列基板1。其中，衬底11可以为玻璃基板。第一金属层12包括多个栅极17和金属走线(图中未示出)，第二金属层16包括多个源极18、多个漏极19和金属走线(图中未示出)，以使阵列基板1包括多个相互间隔设置的薄膜晶体管10，每个薄膜晶体管10分别包括一个栅极17、一个源极18和一个漏极19。

502、在所述阵列基板上形成OLED器件层，所述OLED器件层包括与所述薄膜晶体管对应设置的阳极，所述阳极包括多个相互间隔设置的阳极块，多个阳极块分别与所述薄膜晶体管的漏极电性连接。

如图1所示，在阵列基板1上依次形成阳极层21、像素界定层22、发光层23和阴极24，以构成OLED器件层2。其中，阳极层21包括与多个薄膜晶体管10一一对应设置的多个阳极24，像素界定层22中开设有与多个阳极26一一对应的像素开口，发光层23包括与多个像素开口一一对应设置的多个发光结构25，且每个发光结构25设于其对应的像素开口中的阳极26上，阴极24为公共电极，覆盖在像素界定层22以及每个像素开口中的发光结构25上，以使OLED器件层2包括多个子像素。

结合图2所示，阳极26包括多个相互间隔设置的阳极块261。在每个阳极26中，阳极26分为多个阳极块261，且相邻阳极块261之间具有间隙。阳极26中的多个阳极块261分别与阳极26对应的薄膜晶体管10的漏极19电性连接。

阳极层21还包括与多个阳极块261一一对应设置的多个阳极走线27，阳极走线27的一端与对应的阳极块261电性连接，阳极走线27的另一端与薄膜晶体管10的漏极19电性连接，从而实现阳极块261与薄膜晶体管10的漏极19的电性连接。其中，阳极26位于OLED器件层2的发光区A，多个阳极走线27位于OLED器件层2的非发光区C。

进一步地，所述方法还包括：

在所述阵列基板与所述OLED器件层之间形成平坦层；

在所述平坦层中开设过孔，使所述多个阳极走线通过所述过孔与所述薄膜晶体管的漏极连接。

需要说明的是，在形成阵列基板1后，先在阵列基板1上形成平坦层3，再在平坦层3上形成OLED器件层2，使平坦层3位于第二金属层16与阳极层21之间。为了实现阳极26与薄膜晶体管10的漏极19的电性连接，可以在薄膜晶体管10的漏极19上方的平坦层3中开设过孔29。阳极26中的多个阳极块261对应的阳极走线27可以各自单独通过过孔29与薄膜晶体管10的漏极19连接。

进一步地，所述方法还包括：

在所述多个阳极块中的任一阳极块与所述阴极短路时，切断所述任一阳极块对应的阳极走线。

需要说明的是，在显示面板的某个位置发生阴阳极短路时，检测该短路位置所属的阳极块261，即检测与阴极24发生短路的阳极块261，断开该阳极块261与薄膜晶体管10的漏极19的电性连接。在断开该阳极块261与薄膜晶体管10的电性连接后，该阳极块261对应的区域变为暗区，但该暗区的面积极小，同时其他阳极块261对应的区域正常显示，从而不影响该子像素整体显示效果。

本申请实施例能够将阳极设置为多个相互间隔的阳极块，且多个阳极块分别与薄膜晶体管的漏极电性连接，以在阳极块与阴极之间出现一个或多个短路点时，通过断开该阳极块与薄膜晶体管之间的连接实现修复，仅使该阳极块对应的区域为暗区，且该暗区面积极小，不影响整体显示效果，同时降低修复工作量和修复难度，提高修复成功率，进而提高显示面板的良率。

综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板以及设于所述阵列基板上的OLED器件层；所述阵列基板包括薄膜晶体管，所述OLED器件层包括与所述薄膜晶体管对应设置的阳极；

所述阳极包括多个相互间隔设置的阳极块，多个阳极块分别与所述薄膜晶体管的漏极电性连接。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述OLED器件层还包括与所述阳极同层设置的多个阳极走线；

所述多个阳极走线与所述多个阳极块一一对应设置，且每个阳极走线的一端与其对应的阳极块连接，另一端与所述薄膜晶体管的漏极连接。

3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述OLED器件层包括发光区和非发光区；

所述阳极位于所述发光区，所述多个阳极走线位于所述非发光区。

4.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设于所述阵列基板与所述OLED器件层之间的平坦层；

所述平坦层中开设有过孔，所述多个阳极走线通过所述过孔与所述薄膜晶体管的漏极连接。

5.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述OLED器件层还包括依次设于所述阳极上的发光层和阴极；

每个阳极走线上设有其对应的阳极块与所述阴极短路时的切断点。

6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

形成阵列基板，所述阵列基板包括薄膜晶体管；

在所述阵列基板上形成OLED器件层，所述OLED器件层包括与所述薄膜晶体管对应设置的阳极，所述阳极包括多个相互间隔设置的阳极块，多个阳极块分别与所述薄膜晶体管的漏极电性连接。

7.如权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述OLED器件层还包括与所述阳极同层设置的多个阳极走线；

所述多个阳极走线与所述多个阳极块一一对应设置，且每个阳极走线的一端与其对应的阳极块连接，另一端与所述薄膜晶体管的漏极连接。

8.如权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述OLED器件层包括发光区和非发光区；

所述阳极位于所述发光区，所述多个阳极走线位于所述非发光区。

9.如权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：

在所述阵列基板与所述OLED器件层之间形成平坦层；

在所述平坦层中开设过孔，使所述多个阳极走线通过所述过孔与所述薄膜晶体管的漏极连接。

10.如权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述OLED器件层还包括依次设于所述阳极上的发光层和阴极；

所述方法还包括：

在所述多个阳极块中的任一阳极块与所述阴极短路时，切断所述任一阳极块对应的阳极走线。

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