CN112410837A - 一种钛合金tc4上直接电镀镍工艺 - Google Patents

一种钛合金tc4上直接电镀镍工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN112410837A
CN112410837A CN202011160700.9A CN202011160700A CN112410837A CN 112410837 A CN112410837 A CN 112410837A CN 202011160700 A CN202011160700 A CN 202011160700A CN 112410837 A CN112410837 A CN 112410837A
Authority
CN
China
Prior art keywords
titanium alloy
solution
acid
degreasing
mixed solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202011160700.9A
Other languages
English (en)
Inventor
郭昊
徐俊阳
王嘉雨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenyang Fortune Precision Equipment Co Ltd
Original Assignee
Shenyang Fortune Precision Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenyang Fortune Precision Equipment Co Ltd filed Critical Shenyang Fortune Precision Equipment Co Ltd
Priority to CN202011160700.9A priority Critical patent/CN112410837A/zh
Publication of CN112410837A publication Critical patent/CN112410837A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • C25D5/38Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of refractory metals or nickel
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

本发明是一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,包括以下步骤:步骤1)用电解脱脂法对钛合金TC4进行电解脱脂;步骤2)用电解抛光法对钛合金TC4进行电解抛光,抛光液选用高氯酸和乙酸混合溶液,以不锈钢电极作为负极;步骤3)将钛合金TC4放入硝酸和氢氟酸为主要成分,过氧化氢为辅助成分的混合溶液中进行浸蚀,并用去离子水清洗1‑5min;步骤4)将浸蚀后的钛合金TC4放入以二甲基酰胺200ml/L‑400ml/L和氢氟酸80ml/L‑200ml/L的混合溶液中进行活化;步骤5)将活化后的钛合金TC4放在以硫酸镍、氯化镍、硼酸,硫酸钠为电解质的溶液中电镀20‑40min。本发明膜层结合力好,工艺稳定性好,操作方便。

Description

一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺
技术领域
本发明涉及一种材料电镀工艺应用领域,特别是一种应用于航空钛合金TC4上直接电镀镍工艺。
背景技术
钛合金进行电镀的目的,主要是改善其表面存在的固有缺陷,但是钛合金直接电镀镍很容易生成结合力不好的镍层甚至形成不完整的镍层,关键是如何去除表面氧化膜,并保持基体表面的活性,通过选择合适的前处理药水先去除氧化膜再活化表面,应用正确的电镀镍配比溶液就能在钛合金TC4得到结合力优异的电镀镍层。
发明内容
本发明是一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,此工艺镀层结合力好,工艺稳定性好,还可以作为其他镀层的中间镀层。
本发明采用的技术方案是:
一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,包括以下步骤:
步骤1)用电解脱脂法对钛合金TC4进行电解脱脂,脱脂时间为20-40s,脱脂所用的电解质溶液是磷酸三铵40-60%,碳酸钠40-50%。
步骤2)用电解抛光法对钛合金TC4进行电解抛光,抛光液选用1:18-1:20的高氯酸:乙酸溶液体积比,以不锈钢电极作为负极,抛光电压60-70V,时间10-15s。
步骤3)将钛合金TC4放入硝酸和氢氟酸为主要成分、过氧化氢为辅助成分的混合溶液中进行浸蚀5-10min,并用去离子水清洗1-5min。
步骤4)将浸蚀后的钛合金TC4放入以二甲基酰胺200ml/L-400ml/L和氢氟酸80ml/L-200ml/L的混合溶液中进行活化。
步骤5)将活化后的钛合金TC4放在以硫酸镍、氯化镍、硼酸,硫酸钠为电解质的溶液中进行电镀20-40min。
本发明的有益效益是:本发明相较于电镀镍工艺膜层结合力好,工艺稳定性好,而且操作简单方便。最重要的是此工艺生成的镍层不仅可以做为最终镀层,还可以作为中间层为其他表面改性镀层提供优越的结合力。
具体实施方式
一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,包括以下步骤:
步骤1)用电解脱脂法对钛合金TC4进行电解脱脂,脱脂时间为20-40s,脱脂所用的电解质溶液是磷酸三铵40-60%,碳酸钠40-50%
步骤2)用电解抛光法对钛合金TC4进行电解抛光,抛光液选用1:18-1:20的高氯酸:乙酸溶液体积比,以不锈钢电极作为负极,抛光电压60-70V,时间10-15s。
步骤3)将钛合金TC4放入硝酸和氢氟酸为主要成分、过氧化氢为辅助成分的混合溶液中进行浸蚀5-10min,并用去离子水清洗1-5min。
步骤4)将浸蚀后的钛合金TC4放入以二甲基酰胺200ml/L-400ml/L和氢氟酸80ml/L-200ml/L的混合溶液中进行活化。
步骤5)将活化后的钛合金TC4放在以硫酸镍、氯化镍、硼酸,硫酸钠为电解质的溶液中进行电镀20-40min。
所述步骤1)采用的是电解脱脂对钛合金TC4表面进行脱脂20-40s,并用去离子水清洗1-3min。
所述步骤2)采用的是电解抛光液对打磨后的表面进行脱脂清洗1-5min。并用去离子水清洗1-5min。
所述步骤3)采用的硝酸、氢氟酸、过氧化氢在分析纯或分析纯以上,浸蚀时间是5-10min。浸蚀后清洗水的水质超过200KΩ·cm。
所述步骤4)采用的活化溶液是二甲基酰胺200ml/L-400ml/L和氢氟酸80ml/L-200ml/L的混合溶液。
所述步骤5)采用的硫酸镍、氯化镍、硼酸,硫酸钠在分析纯或分析纯以上
采用的所有化学品在分析纯或分析纯以上。

Claims (7)

1.一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1)用电解脱脂法对钛合金TC4进行电解脱脂,脱脂时间为20-40s,温度为40-60度,脱脂所用的电解质溶液是磷酸三铵40-60%,碳酸钠40-50%混合溶液;
步骤2)用电解抛光法对钛合金TC4进行电解抛光,抛光液选用1:18-1:20的高氯酸:乙酸溶液体积比,以不锈钢电极作为负极,抛光电压60-70V,时间10-15s;
步骤3)将钛合金TC4放入硝酸和氢氟酸为主要成分,过氧化氢为辅助成分的混合溶液中进行浸蚀5-10min,并用去离子水清洗1-5min;
步骤4)将浸蚀后的钛合金TC4放入以二甲基酰胺200ml/L-400ml/L和氢氟酸80ml/L-200ml/L的混合溶液中进行活化;
步骤5)将活化后的钛合金TC4放在以硫酸镍、氯化镍、硼酸,硫酸钠为电解质的溶液中电镀20-40min。
2.如权利要求1所述的一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,其特征在于,所述步骤1)采用的是电解脱脂对钛合金TC4表面进行脱脂20-40s,并用去离子水清洗1-3min。
3.如权利要求1所述的一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,其特征在于,所述步骤2)采用的是电解抛光液对打磨后的表面进行脱脂清洗1-5min;并用去离子水清洗1-5min。
4.如权利要求1所述的一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,其特征在于,所述步骤3)采用的硝酸、氢氟酸、过氧化氢在分析纯或分析纯以上,浸蚀的时间是5-10min;浸蚀后清洗水的水质超过200KΩ·cm。
5.如权利要求1所述的一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,其特征在于,所述步骤4)采用的活化溶液是二甲基酰胺200ml/L-400ml/L和氢氟酸80ml/L-200ml/L的混合溶液。
6.如权利要求1所述的一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,其特征在于,所述步骤5)采用的硫酸镍、氯化镍、硼酸,硫酸钠在分析纯或分析纯以上。
7.如权利要求1所述的一种钛合金TC4上直接电镀镍工艺,其特征在于,采用的所有化学品在分析纯或分析纯以上。
CN202011160700.9A 2020-10-27 2020-10-27 一种钛合金tc4上直接电镀镍工艺 Pending CN112410837A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011160700.9A CN112410837A (zh) 2020-10-27 2020-10-27 一种钛合金tc4上直接电镀镍工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011160700.9A CN112410837A (zh) 2020-10-27 2020-10-27 一种钛合金tc4上直接电镀镍工艺

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN112410837A true CN112410837A (zh) 2021-02-26

Family

ID=74841418

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011160700.9A Pending CN112410837A (zh) 2020-10-27 2020-10-27 一种钛合金tc4上直接电镀镍工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112410837A (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1439741A (zh) * 2002-10-23 2003-09-03 沈阳黎明航空发动机(集团)有限责任公司 一种钛合金化学镀厚镍的方法
CN101768747A (zh) * 2009-12-28 2010-07-07 无锡麟龙铝业有限公司 一种在钛合金表面进行表面活化处理的方法
CN104451677A (zh) * 2014-11-26 2015-03-25 华北水利水电大学 一种钛合金油井管接箍镀铜锡合金方法
CN104947162A (zh) * 2015-07-22 2015-09-30 四川华丰企业集团有限公司 一种钛合金表面电镀方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1439741A (zh) * 2002-10-23 2003-09-03 沈阳黎明航空发动机(集团)有限责任公司 一种钛合金化学镀厚镍的方法
CN101768747A (zh) * 2009-12-28 2010-07-07 无锡麟龙铝业有限公司 一种在钛合金表面进行表面活化处理的方法
CN104451677A (zh) * 2014-11-26 2015-03-25 华北水利水电大学 一种钛合金油井管接箍镀铜锡合金方法
CN104947162A (zh) * 2015-07-22 2015-09-30 四川华丰企业集团有限公司 一种钛合金表面电镀方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
吴双成 等: ""电解除油原理与应用"", 《表面工程资讯》 *
邹松华 等: ""TC4钛合金电镀镍工艺及镀层性能"", 《电镀与涂饰》 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110983415B (zh) 一种镁锂合金表面复合氧化处理方法
CN105088309B (zh) 一种压铸铝合金的高效节能阳极氧化处理方法
CN101161866B (zh) 镁及镁合金表面镀层的制备方法
CN102560579B (zh) 一种硅铝合金电镀镍的方法
CN105239133A (zh) 一种钛及钛合金表面阳极氧化着色方法
CN108441918A (zh) 一种铝合金表面处理工艺
CN107904641A (zh) 一种压铸铝合金表面处理工艺
CN112080787B (zh) 一种铝电解电容器用腐蚀箔及其制备方法
WO2023056725A1 (zh) 一种孔长高一致性的腐蚀铝箔的制备方法
CN104818503A (zh) 一种三维网络结构多孔铜全透膜的制备方法
CN103484909A (zh) 一种铁基五金件电镀的前处理方法
CN108625151A (zh) 一种高强度碳纤维的表面处理方法
CN113106516A (zh) 一种通过调控负向电参数提高铝合金微弧氧化膜致密性的方法
CN109628977A (zh) 一种铝合金阳极氧化电解液和阳极氧化工艺
CN111394771B (zh) 一种在铜及其合金表面制备涂层的方法及铜制品
CN111235623A (zh) 钛或钛合金表面电化学刻蚀方法
CN110714219A (zh) 镁合金微弧氧化表面电镀镍的方法
CN103266343B (zh) 金属材料的表面糙化方法
CN112410837A (zh) 一种钛合金tc4上直接电镀镍工艺
CN113046811B (zh) 一种微弧氧化电解液及其应用方法、工件
CN110129855A (zh) 一种铝合金防腐的表面处理方法
CN115261914A (zh) 一种碱性电解水装置的双电极片的表面处理方法
CN105586615A (zh) 一种镁合金表面脉冲预镀镍的方法
CN110468400A (zh) 一种铝合金表面环保钝化方法
CN104218245B (zh) 一种钛/亚氧化钛/铅复合基板的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20210226