CN112271165A - 半导体封装结构及其制造方法和半导体器件 - Google Patents

半导体封装结构及其制造方法和半导体器件 Download PDF

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Abstract

本申请实施例提供一种半导体封装结构,包括电路板、芯片、引脚和塑封体;引脚包括连接部和插针,连接部一端焊接在电路板上,另一端与塑封体顶面齐平,连接部具有安装孔,插针设置于安装孔内并与连接部过盈配合,插针露出塑封体的顶面;塑封体的顶面和连接部的另一端的端面均为研磨粗糙面;或者引脚包括插针,塑封体设置贯穿塑封体的安装孔,插针设于安装孔内,插针一端焊接在电路板上,另一端露出塑封体的顶面,安装孔内填充绝缘树脂,绝缘树脂包裹在插针周围。该半导体封装结构为塑封形态的顶部出PIN封装结构,具有电气路径短,寄生参数小,引脚设置灵活,可靠性高,散热性好等优势。本申请实施例还提供半导体封装结构的制造方法。

Description

半导体封装结构及其制造方法和半导体器件
技术领域
本申请涉及半导体器件技术领域,尤其涉及一种半导体封装结构及其制造方法和半导体器件。
背景技术
目前,半导体封装领域中的功率模组封装结构主要有两类,一类是外壳型顶部出PIN(引脚)封装结构,该类封装结构由于顶部出PIN,具有电气路径短,寄生参数小,出PIN灵活性高的优势,但该结构的外壳内的腔体使用硅胶填充,模块散热能力差,成本高,组装时引脚易产生跪脚问题;另一类是塑封形态+插针焊接的封装结构,该类封装结构为两侧出PIN,具有导热性能好,可靠性高,PIN强度高的优势;但两侧出PIN导致电气路径长,寄生参数大,而且需要焊接到应用端的目标线路板上,不可拆卸。鉴于此,有必要提供一种半导体封装结构,以解决现有封装结构难以同时满足顶部出PIN和高散热性能需求的问题。
发明内容
本申请实施例提供了一种半导体封装结构及其制造方法,该半导体封装结构为塑封形态的顶部出PIN封装结构,具有电气路径短,寄生参数小,引脚位置设置灵活的优势,同时具有良好的散热性能,且封装工艺简单、各部件连接可靠、成本低。
本申请实施例第一方面提供一种半导体封装结构,包括:电路板、设置在所述电路板上的芯片和引脚、以及包覆所述电路板、所述芯片和所述引脚的塑封体;
所述引脚包括连接部和插针,所述连接部一端焊接在所述电路板上,另一端与所述塑封体的顶面齐平,所述连接部具有安装孔,所述插针设置于所述安装孔内并与所述连接部过盈配合,所述插针的一端露出所述塑封体的顶面;所述塑封体的顶面为研磨粗糙面;所述连接部的所述另一端的端面为研磨粗糙面;
或者,所述引脚包括插针,所述塑封体设置有从所述塑封体顶面贯穿至所述电路板的安装孔,所述插针设置于所述安装孔内,所述插针的一端焊接在所述电路板上,另一端露出所述塑封体的顶面,所述安装孔内填充有绝缘树脂,所述绝缘树脂包裹在所述插针周围。
本申请实施例半导体封装结构,为塑封形态的顶部出PIN封装结构,具有电气路径短,寄生参数小的优势,有利于信号传输,且引脚的位置可根据需要灵活设置,引脚的数量即设置密度也可根据需要增大,同时引脚不易弯折变形,不会出现压弯、塌陷和跪脚问题。本申请半导体封装结构还具有良好的散热性能,可以形成良好的散热通道,能够及时将器件内部产生的热量散发至外部,可靠性高,可适用于大功率半导体器件。该半导体封装结构可通过注塑形成塑封体后,研磨塑封体和连接部使安装孔露出,再将插针过盈配合安装于安装孔内,实现塑封形态的顶部出PIN封装结构;或者通过采用特定结构的塑封模具注塑形成具有安装孔的塑封体后,在安装孔内焊接插针,并填充绝缘树脂实现塑封形态的顶部出PIN封装结构。整个封装工艺简单,成本可控。
本申请一些实施方式中,所述连接部包括环绕的侧壁,所述连接部的侧壁一端(即侧壁底部)焊接在所述电路板上。所述侧壁底部与所述电路板之间形成焊接部。侧壁底部为连接部与电路板连接的一端。连接部的侧壁厚度可以根据器件的通流要求进行设定,通流较大则连接部的侧壁厚度可以设置大一些,而通流较小则连接部的侧壁厚度可以设置小一些。
本申请另一些实施方式中,所述连接部包括底座和环绕的侧壁,所述连接部的底座焊接在所述电路板上。所述底座与所述电路板之间形成焊接部。连接部的侧壁厚度可以根据器件的通流要求进行设定,通流较大则连接部的侧壁厚度可以设置大一些,而通流较小则连接部的侧壁厚度可以设置小一些。
本申请实施方式中,所述连接部为导电金属材质。具体地,可以是具有优异导电性能的铜、银、铝等金属。
本申请实施方式中,所述连接部包括连接部本体和设置在连接部本体表面的表面处理层,所述表面处理层为电镀锡层、电镀镍层、化学镍金层或化学镍钯金层。表面处理层的设置可以提高连接部的焊接性能,从而与电路板之间形成更好的连接,同时,表面处理层还可以提高连接部的抗氧化性能。
本申请实施方式中,所述插针位于所述连接部的安装孔内的长度大于或等于1/2插针的总长度。这样可以保证插针与连接部过盈配合的部分的长度大于或等于1/2插针的总长度,提高插针与连接部的连接可靠性。
本申请实施方式中,所述塑封体的研磨粗糙面的粗糙度Ra大于0.1微米;所述连接部的研磨粗糙面的粗糙度Ra大于0.1微米。
本申请实施方式中,所述绝缘树脂包括环氧树脂。环氧树脂具有良好绝缘性能,且易得。
本申请实施方式中,所述绝缘树脂的填充高度大于或等于1/4所述插针的长度。绝缘树脂具有一定填充高度能够更好地包裹住插针,从而有效保证插针的结构稳定性。
本申请实施方式中,所述插针为导电金属材质。具体地,可以是具有优异导电性能的铜、银、铝等金属。插针可以是包括插针本体和设置在插针本体表面的保护层。保护层的材质例如可以是锡。
本申请实施方式中,所述引脚为直线型引脚,不存在弯折部。直线型引脚的电气路径短,寄生参数小,有利于信号传输。
本申请实施方式中,所述引脚为垂直引脚,所述引脚沿垂直于所述电路板表面的方向延伸。垂直引脚电气路径最短,寄生参数最小,有利于信号传输。
本申请实施方式中,所述半导体封装结构包括多个所述引脚,多个所述引脚间隔设置。本申请实施方式中,多个所述引脚均为垂直引脚。
本申请实施方式中,所述半导体封装结构包括多个芯片,多个芯片可以是具有不同功能。
本申请实施方式中,所述半导体封装结构还包括设置在所述电路板上的其他电子元器件。所述其他电子元器件可以包括但不限于是电阻、电容、电感、热感测元件等。其他电子元器件也可以是封装好的各类元器件。
第二方面,本申请实施例提供一种半导体封装结构的制造方法,包括:
将芯片固定在电路板上;
将连接座焊接在所述电路板上;所述连接座具有一封闭的安装孔;或者所述连接座具有一朝一端开口的安装孔,经所述焊接后,所述安装孔被封闭;
将所述芯片与所述电路板进行金属线键合;
采用塑封材料将设置有芯片、连接部的电路板进行塑封,形成塑封体;
对所述塑封体的顶面和所述连接座进行研磨使所述安装孔露出;经研磨后,所述连接座形成连接部,所述连接部被研磨的一端与所述塑封体的顶面齐平;
将插针安装在所述安装孔内,所述插针与所述连接部过盈配合;所述插针一端位于所述安装孔内,另一端露出所述安装孔。
本申请实施例第二方面提供的半导体封装结构的制造方法,可实现塑封形态的顶部出PIN封装,且对塑封模具的形状没有特殊要求,采用普通塑封模具即可,模具易得,对于不同内部结构的半导体器件都可以进行封装,因此塑封模具可以重复使用,可以大大降低封装成本。该封装方法也不受产品厚度限制,可以适用于不同厚度的产品封装,可以是用于封装厚度大于5mm的较大厚度的产品。当需要设置多个引脚时,该方法对多个连接座的平整度也没有特殊的要求,多个连接座允许有一定的高度差,因此该封装方法实用性高。
第三方面,本申请实施例提供一种半导体封装结构的制造方法,包括:
将芯片固定在电路板上,将所述芯片与所述电路板进行金属线键合;
采用塑封模具、塑封材料将固定有芯片的电路板进行塑封,形成塑封体;其中,所述塑封模具包相配合的第一模具和第二模具,所述第一模具对应于预设引脚的位置设有凸起结构;经所述塑封后,所述塑封体在所述预设引脚的位置形成从所述塑封体顶面贯穿至所述电路板的安装孔;
将插针焊接在所述安装孔内,所述插针与所述电路板之间形成焊接部;所述插针一端位于所述安装孔内,另一端露出所述安装孔;
向所述安装孔内注入绝缘树脂,固化后,得到半导体封装结构。
本申请实施例第三方面提供的半导体封装结构的制造方法,可实现塑封形态的顶部出PIN封装,通过设计特定形状结构的塑封模具可以直接注塑成型出用于安装引脚的安装孔,引脚位置可灵活设置,引脚不会受到塑封过程塑封材料的挤压,从而能够保持稳定结构,并通过焊接以及绝缘树脂的包裹与电路板实现可靠连接。
第四方面,本申请实施例还提供一种半导体器件,包括本申请实施例第一方面所述的半导体封装结构。
另外,本申请实施例还提供一种电子设备,该电子设备包括本申请实施例第四方面所述的半导体器件。该电子设备可以是手机、ipad、笔记本电脑、台式电脑、智能穿戴设备、显示器、服务器、仪器仪表等设备。
本申请实施例提供的半导体封装结构,为塑封形态的顶部出PIN封装结构,具有电气路径短、寄生参数小、出PIN灵活性高、导热性能好、可靠性高等优势。而且该半导体封装结构在进行进一步组装时,可采用压接组装,不需要通过回流焊接,可以简化半导体器件的组装工艺,降低成本。该半导体封装结构的封装工艺简单,各部件连接可靠,成本低,采用普通塑封模具、塑封工艺即可实现加工,适于大规模工业化生产。
附图说明
图1是本申请一实施例提供的一种半导体封装结构的示意图;
图2是本申请另一实施例提供的一种半导体封装结构的示意图;
图3是本申请一实施例提供的半导体封装结构的制造方法流程示意图;
图4是本申请另一实施例提供的半导体封装结构的制造方法流程示意图。
具体实施方式
下面结合本申请实施例中的附图对本申请实施例进行描述。
请参见图1和图2,本申请实施例提供一种半导体封装结构100,包括:电路板10、设置在电路板10一侧表面的芯片20、引脚30、以及封装包覆电路板10、芯片20和引脚30的塑封体40;塑封体40包括相对设置的底面和顶面,底面和顶面一般是平行于电路板10表面的,其中,顶面为靠近电路板10设置芯片20的一侧表面,即位于芯片上方的一侧表面;底面为靠近电路板10未设置芯片20的一侧表面,引脚30露出塑封体40的顶面。
本申请一实施方式中,如图1所示,引脚30包括连接部31和插针32,连接部31一端焊接在电路板10上,另一端(即远离电路板10的一端)向远离电路板10表面的方向延伸,并与塑封体40的顶面齐平,连接部31具有安装孔41,插针32设置于安装孔41内并与连接部31过盈配合,插针32的一端露出塑封体40的顶面;塑封体40为可研磨材料,塑封体40的顶面为研磨粗糙面;连接部31的另一端的端面为研磨粗糙面。
该实施方式中,连接部31的具体形状结构不限。本申请一些实施方式中,连接部31具有上下贯通的安装孔41,连接部31包括环绕的侧壁,连接部31的侧壁底部焊接在电路板10上,侧壁底部与电路板10之间形成焊接部50(参见图1)。此时,安装孔41的底部为电路板10或形成在电路板10上的焊接部50。连接部31的侧壁顶部端面即为连接部31的另一端的端面,连接部31的侧壁顶部端面与塑封体40的顶面齐平,且为研磨粗糙面。
本申请另一些实施方式中,连接部31包括底座和由底座向上延伸的环绕的侧壁,连接部31的底座焊接在电路板10上,底座与电路板10之间经焊接形成焊接部。此时,安装孔41的底部即为连接部31的底座。底座的厚度无特殊要求。
本申请实施方式中,连接部31为导电金属材质。本申请实施方式中,插针32为导电金属材质。具体地,连接部31、插针32的材质可以但不限于是具有优异导电性能的铜、银、铝等金属。本申请实施方式中,连接部31的具体形状不限,其横截面形状可以但不限于是圆柱形、椭圆柱形、长方体形、多边体形等规则形状;当然也可以是非规则形状。本申请实施方式中,插针32可以是包括插针本体和设置在插针本体表面的保护层。保护层的材质例如可以是锡。例如,本申请一具体实施方式中,插针32为表面镀锡的铜插针。本申请一些实施方式中,插针32为扁平状,插针32的厚度可以根据需要选择不同规格。插针32的厚度例如可以是0.64mm,也可以是0.8mm。插针32露出塑封体40顶面的长度可以根据需要进行设计。
本申请实施方式中,连接部31的侧壁厚度可以根据半导体器件的通流要求进行具体设定,通流要求较大则连接部31的侧壁厚度可以设置大一些,而通流要求较小则连接部31的侧壁厚度可以设置小一些。
本申请实施方式中,塑封体40为可研磨材料。该塑封体40具有可研磨的特性,通过研磨可以减薄塑封体的厚度(高度),使被塑封体包覆的连接部31露出。连接部31为可研磨金属,通过研磨可以减薄连接部的厚度(高度)。本申请实施方式中,连接部31的另一端的端面和塑封体40的顶面均为研磨粗糙面,且连接部31的另一端的端面与塑封体40的顶面齐平,该研磨粗糙面是通过研磨获得,其粗糙度根据研磨采用的工具(如砂纸)的规格而决定。在一些实施方式中,塑封体40的顶面的研磨粗糙面的粗糙度Ra可以是大于0.1μm;在另一些实施方式中,塑封体40的顶面的研磨粗糙面的粗糙度Ra可以是大于或等于0.2μm,具体例如为0.2μm-0.3μm。在一些实施方式中,连接部31另一端端面的研磨粗糙面的粗糙度Ra可以是大于0.1μm;在另一些实施方式中,连接部31另一端端面的研磨粗糙面的粗糙度Ra可以是大于或等于0.2μm,具体例如为0.2μm-0.3μm。
本申请实施例半导体封装结构100,在进行塑封时,插针还未安装,且安装孔是完全封闭的,因此在注入塑封胶料时不会出现塑封胶料将插针挤压变形的情况,而且塑封胶料也不会进入到安装孔中,在进行插针安装时不需要对安装孔进行除胶处理。因此,本申请实施例的半导体封装结构不仅实现了插针的可靠连接,而且可保持插针的形状结构稳定,避免弯折、跪脚等问题出现。
本申请实施方式中,可对连接部31进行适当表面处理,经表面处理后,连接部31包括连接部本体和设置在连接部本体表面的表面处理层,该表面处理层可以但不限于是电镀锡层、电镀镍层、化学镍金层或化学镍钯金层。表面处理层的厚度可以是0.03μm-25μm。具体地,一些实施方式中,表面处理层的厚度为0.1μm-20μm。另一些实施方式中,表面处理层的厚度为0.5μm-15μm。在其他一些实施方式中,表面处理层的厚度为1μm-5μm。表面处理层的设置可以提高连接部的焊接性能,从而与电路板之间形成更好的连接,同时,表面处理层还可以提高连接部的抗氧化性能,有效防止连接部在常规环境保存和封装工艺过程中被氧化。而通过设置适合厚度的表面处理层,可以兼顾到焊接性能和抗氧化性能的提高,又不会提高表面处理层的镀制成本。
该实施方式中,插针32与连接部31的安装孔41是相配合的。插针32可以是如图1所示,不插入到安装孔41的最底部,即插针32位于安装孔41内的一端与电路板10或连接部31的底座之间留有一定距离或间隙。插针32也可以是插入到安装孔41的最底部,即插针32位于安装孔41内的一端与电路板10或电路板10上的焊接部相抵接。为了保证插针32的安装可靠性,实现稳固连接,本申请实施方式中,插针32位于安装孔41内的长度大于或等于1/2插针32的总长度。因此,安装孔41的高度(即长度)需要设置为大于或等于1/2插针32总长度。具体地,本申请一些实施方式中,插针32位于安装孔41内的长度为1/2插针32的总长度。本申请另一些实施方式中,插针32位于安装孔41内的长度为2/3插针32的总长度。本申请其他一些实施方式中,插针32位于安装孔41内的长度为3/4插针32的总长度。可以理解地,插针32位于安装孔41内的长度越长,则与连接部31通过过盈配合的接触面越大,因此可以实现更稳固可靠的连接,有效防止插针32脱落。
本申请另一实施方式中,如图2所示,引脚30包括插针32,塑封体40设置有从塑封体40顶面贯穿至电路板10的安装孔42,插针32设置于安装孔42内,插针32的一端焊接在电路板10上,与电路板10之间形成焊接部51,另一端露出塑封体10的顶面,安装孔42内填充有绝缘树脂33,绝缘树脂33包裹在插针32周围。该实施方式中,插针32为导电金属材质。具体地,插针32的材质可以但不限于是具有优异导电性能的铜、银、铝等金属。本申请实施方式中,插针32可以是包括插针本体和设置在插针本体表面的保护层。保护层的材质例如可以是锡。例如,本申请一具体实施方式中,插针32为表面镀锡的铜插针。本申请一些实施方式中,插针32为扁平状,插针32的厚度可以根据需要选择不同规格。插针32的厚度例如可以是0.64mm,也可以是0.8mm。插针32露出塑封体40顶面的长度可以根据需要进行设计。
本申请实施方式中,在安装孔42中填充绝缘树脂33,绝缘树脂33能够将插针32牢牢固定,防止插针32脱落,并能保护插针32在后续使用过程中不被外界损坏。本申请实施方式中,绝缘树脂33包括但不限于是环氧树脂。具体地,绝缘树脂33可以是一种或多种环氧树脂构成的树脂组合物。环氧树脂种类多,可获得性高,有利于控制封装成本。本申请中,用于填充安装孔42的环氧树脂为液态型环氧树脂。
本申请实施方式中,绝缘树脂33的填充高度可以是小于或等于安装孔42的高度(即长度),即绝缘树脂33的上表面可以是低于塑封体40的顶面,也可以是与塑封体40的顶面齐平。为了给插针32提供更稳固的支撑,防止插针32弯折变形,同时提高插针32的连接可靠性,安装孔42中的绝缘树脂33的填充高度大于或等于1/4插针的长度。同时本申请一些实施方式中,绝缘树脂33的填充高度大于或等于1/2插针的长度。本申请另一些实施方式中,绝缘树脂33的填充高度大于或等于2/3插针的长度。本申请其他一些实施方式中,绝缘树脂33的填充高度大于或等于3/4插针的长度。可以理解地,绝缘树脂33的填充高度越高,插针32被包裹得越好,可以实现更稳固可靠的连接,从而有效防止插针脱落。
本申请实施例上述提供的半导体封装结构100,均为顶面出PIN(引脚)结构,相对于现有技术的侧面出PIN(引脚)结构,本申请的顶面出PIN(引脚)结构具有电气路径短,寄生参数小的优势,有利于信号传输,而且引脚的位置可根据需要灵活设置,引脚的数量即设置密度也可根据需要增大,扩大了产品的设计自由度,可匹配更为复杂的内部电路设计,实现多功能引脚布置。本申请实施例的半导体封装结构100可以保证引脚不易弯折变形,保护插针不压弯、塌陷。而且本申请实施例的半导体封装结构100,将半导体封装结构100进行进一步组装时,只需要将半导体封装结构100整体通过设置插针的一面压接到目标线路板上,进行机械连接即可,不需要通过回流焊接,可以简化半导体器件的组装工艺,降低成本。而且由于本申请的引脚连接稳定可靠,在压接过程中不易出现弯折变形。本申请半导体封装结构采用塑封体进行封装,塑封体具有良好的散热性能,可以形成良好的散热通道,能够及时将器件内部产生的热量散发至外部,可适用于大功率半导体器件。
本申请实施方式中,引脚30,即管脚,是从集成电路的内部电路引出的用于与外围电路连接的接线,引脚构成芯片与外部进行连接的接口。本申请实施方式中,引脚通过焊接的方式与电路板实现电气连接,引脚与电路板的连接面通常较小,采用焊接的方式可以增加连接强度,避免引脚脱落风险。引脚的具体焊接方式不限,可以是锡膏焊接、焊片焊接或激光焊接。
本申请实施方式中,引脚30为直线型引脚,不存在弯折部。直线型引脚电气路径最短,寄生参数最低,有利于信号传输。本申请一些实施方式中,引脚30为垂直引脚,即引脚30沿垂直于电路板10表面的方向延伸。当引脚包括连接座和插针时,连接座的侧壁与电路板表面垂直,插针也与电路板的表面垂直。当引脚包括插针时,插针与电路板的表面垂直。将引脚设置为垂直引脚,结构更稳定。
本申请实施方式中,半导体封装结构100可以是包括多个引脚30,引脚30的具体设置数量,分布密度可根据通流需求进行设计。多个引脚30间隔设置在电路板10上。多个引脚30中,引脚与引脚之间的间隔距离无特殊要求,例如可以是>0.8mm。
本申请实施方式中,塑封体40的材质可以是环氧树脂。具体地,塑封体40的材质为固态型环氧树脂,是通过将固态型环氧树脂液化后,注塑成型获得。塑封体40具有良好的散热性能,可以形成良好的散热通道;同时塑封体可以为芯片等电子元器件提供机械支撑,并保护芯片等电子元器件免受外界物理或化学损伤。
本申请实施方式中,如图1和图2所示,半导体封装结构100还包括金属键合线60,芯片与引脚、芯片与芯片之间可以通过金属键合线60实现电气连接。
本申请实施方式中,电路板10包括相对设置的第一表面和第二表面,芯片20、引脚30等设置在电路板10的第一表面,即具有电路图案的一侧表面,电路板10的第二表面(即未设置芯片20的一侧)露出塑封体40,即电路板10的第二表面不被塑封体40包覆,裸露在塑封体40外。
本申请实施方式中,如图1和图2所示,电路板10包括基板11和设置在基板上的金属层12、13,基板11的材质不限,可以是陶瓷、有机树脂、金属框架等。本申请一具体实施方式中,电路板11为双面覆铜陶瓷基板,双面覆铜陶瓷基板包括陶瓷基板和设置在陶瓷基板两面的烧结铜板,陶瓷基板一面的铜板被图案化形成电路图案,形成电路图案的一侧12与芯片20电气连接。本申请实施方式中,芯片20与电路板10之间的电气连接可以采用不同的方式来实现,具体地,如芯片与电路板之间采用银胶或焊接的方式实现电连接,其中,通过焊接方式将芯片与电路板电连接,能够增加芯片与电路板之间的连接强度,且精度高,便于器件小型化后部件的连接。芯片可以是通过表面贴装工艺,经回流焊接固定在电路板上。电路板的厚度规格可以根据实际需要进行选择,本申请不特殊限定。
本申请实施方式中,电路板10的第二表面可以进一步设置散热部件,以实现散热功能。具体地,散热部件可以但不限于为散热板、散热片等,散热部件可以通过焊接的方式与电路板10的第二表面实现连接。
本申请实施方式中,电路板10作为承载部件承载芯片20,并在承载芯片20时实现电连接,芯片20设置在电路板10上并与电路板10层叠。本申请实施方式中,芯片20可以是具有不同功能的芯片,具体可根据不同功能需要进行选择。在一些实施方式中,芯片20可以是功率放大器芯片。在另一些实施方式中,芯片20可以是射频微波毫米波芯片。在其他一些实施方式中,芯片20也可以是IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor,绝缘栅双极型晶体管)等。本申请实施方式中,根据实际功能需要,半导体封装结构100可以是包括多个芯片20。多个芯片可以是具有不同功能的芯片。
本申请实施方式中,芯片20的正面即背离电路板10的一面为有源面,包含功能晶体管和相关电路,背面即靠近电路板10的一面为一整层金属层,作为电路的参考地或散热面,金属层可以是包括金、银、铜层等。芯片与电路板之间电连接,通过芯片背面的金属层与电路板上的焊盘导电连通。金属键合线则连接芯片正面信号源和电路板上的电路走线。
本申请实施方式中,根据实际功能需要,半导体封装结构100还可以包括设置在电路板10上的其他电子元器件,其他电子元器件可以包括但不限于是电阻、电容、电感、热感测元件等。其他电子元器件也可以是封装好的各类器件。
本申请实施例提供一种半导体封装结构的制造方法,其制备流程示意图如图3所示,包括:
S11、提供电路板10;该电路板可以是双面覆铜板;电路板包括相对设置的第一表面和第二表面,第一表面的铜板图案化,形成电路图案。
S12、在电路板的第一表面进行锡膏印刷;锡膏印刷的位置可根据芯片、引脚及其他电子元器件的设置位置进行设定。
S13、将芯片20、连接座3焊接在电路板10的第一表面上;连接座的材质为导电金属,可以但不限于是具有优异导电性能的铜、银、铝等金属。
本申请一些实施方式中,连接座3具有一封闭的安装孔,包括相对设置的底座和顶壁,以及环绕的侧壁,底座、顶壁和环绕的侧壁一同限定出封闭的安装孔。连接座3的底座焊接在电路板10上。
本申请另一些实施方式中,连接座3具有一朝一端开口的安装孔,包括相对设置的顶壁以及环绕的侧壁,顶壁和环绕的侧壁一同限定出一端开口的安装孔。连接座3的侧壁底部(即开口的一侧)焊接在电路板上,经焊接回流后,电路板与连接座限定出一封闭的安装孔,即连接座3具有的朝一端开口的安装孔经焊接回流后被封闭。
本申请实施方式中,连接座的具体外形不限,其横截面形状可以但不限于是圆柱形、椭圆柱形、长方体形、多边体形等规则形状;当然也可以是非规则形状。
当然,在其他实施方式中,芯片也可以不采用回流焊接的方式固定在电路板上,例如可以是通过银胶固定。
S14、将芯片与电路板进行金属线键合,形成金属键合线60;当有多个芯片时,芯片与芯片之间也可进行金属线键合;金属线键合根据本领域常规方式进行操作即可,金属线键合可以使内部芯片、其他电子元器件等与电路板、引脚实现电气连接。
S15、采用塑封材料将设置有芯片、连接座的电路板进行塑封,形成塑封体40;塑封体40将芯片、连接座完全包覆在内。其中,电路板的第二表面裸露在塑封体外,即电路板的第二表面与塑封体的底面齐平。一般地,塑封体40超出电路板的边缘一定宽度,从而能更好地保护包裹在塑封体内的内部电子元器件和电路。
本申实施方式中,塑封过程采用的塑封模具可以是普通常规塑封模具,塑封模具限定出塑封腔。本申请的塑封材料可以是半导体封装领域常用的各种塑封材料,例如可以是环氧树脂。具体地,塑封过程可以是将固态型环氧树脂液化后,注入塑封腔内,待液化后的环氧树脂固化后得到塑封体。
S16、对塑封体40顶面和连接座顶壁进行研磨使连接座封闭的安装孔41露出;经研磨后,塑封体40的厚度减薄,顶面形成研磨粗糙面,粗糙度Ra可以是大于0.1微米;连接座3的顶壁被研磨去除,形成连接部31,连接部31被研磨的一端也形成研磨粗糙面,粗糙度Ra可以是大于0.1微米,连接部31被研磨的一端与塑封体40的顶面齐平,即连接部31的研磨粗糙面与塑封体40的研磨粗糙面齐平,这样有利于控制实施研磨操作,也有利于后续进行进一步组装。
本申请实施方式中,研磨可采用砂纸、砂轮、自动研磨机等研磨工具,研磨工具的规格、研磨参数可以根据研磨去除的塑封体的厚度而定。例如,砂纸的规格可以是400目、800目,1200目、2400目等。
S17、将插针32安装在安装孔41内,插针32与连接部31过盈配合;插针32一端位于安装孔内,另一端露出安装孔,即露出塑封体40的顶面,得到半导体封装结构。
本申请实施例图1所示的半导体封装结构可以参照上述S11-S17的制造方法制备得到。该制造方法对塑封模具的要求低,采用领域内普通塑封模具即可,成本低,且可以实现塑封形态的顶部出PIN封装结构,引脚的电气路径短,寄生参数小,同时可获得良好散热性能;且引脚不易产生跪脚、弯折变形等问题。
本申请实施例还提供一种半导体封装结构的制造方法,其制备流程示意图如图4所示,包括:
S21、提供电路板10;该电路板可以是双面覆铜板;电路板包括相对设置的第一表面和第二表面,第一表面的铜板图案化,形成电路图案。
在电路板的第一表面进行锡膏印刷,将芯片20焊接在电路板10的第一表面上;再将芯片与电路板进行金属线键合;
S22、采用塑封模具、塑封材料将固定有芯片的电路板进行塑封,形成塑封体40;
其中,塑封模具包括相配合的第一模具43和第二模具(图中未示出),第一模具43对应于预设引脚的位置设有凸起结构431;经塑封后,塑封体40在预设引脚的位置形成从塑封体顶面贯穿至电路板的安装孔42;凸起结构的尺寸与安装孔的尺寸一致。
本申请实施方式中,第一模具43与第二模具配合连接以限定出注塑腔,注塑腔的尺寸形状决定了最终成型的塑封体的尺寸形状。一般地,第一模具上开设有注胶口,通过该注胶口注入塑封材料。塑封材料可以是半导体封装领域常用的各种塑封材料,例如可以是环氧树脂。具体地,塑封过程可以是将固态型环氧树脂液化后,注入塑封腔内,待液化后的环氧树脂固化后得到塑封体。
S23、在安装孔42内点锡膏;
S24、将插针32焊接在安装孔42内,插针与电路板之间形成焊接部;插针一端位于安装孔内,另一端露出安装孔,也即露出塑封体40的顶面;
S25、向安装孔内注入绝缘树脂33,固化后,得到半导体封装结构。
绝缘树脂具体可以但不限于是环氧树脂。绝缘树脂可以是填满安装孔,也可以是部分填充安装孔,即绝缘树脂的上表面可以是与塑封体40的顶面齐平,也可以是低于塑封体40的顶面。本申请中,用于填充安装孔的环氧树脂为液态型环氧树脂。而注塑形成塑封体40的环氧树脂为固态型环氧树脂,是不同体系的环氧树脂,两者成型后可形成明显的分界。
本申请实施例图2所示的半导体封装结构可以采用上述S21-S25的制造方法制备得到。该制造方法可实现塑封形态的顶部出PIN封装,通过设计特定形状结构的塑封模具可以直接注塑成型出用于安装引脚的安装孔,引脚位置可灵活设置,引脚不会受到塑封过程塑封材料的挤压,从而能够保持稳定结构,并通过焊接以及绝缘树脂的包裹与电路板实现可靠连接。
本申请实施例还提供一种半导体器件,包括本申请实施例上述的半导体封装结构。该半导体器件可以是功率半导体器件,即电力电子器件(Power Electronic Device),是用于电力设备的电能变换和控制电路方面的大功率电子器件(通常指电流为数十至数千安,电压为数百伏以上)。
本申请实施例还提供一种电子设备,其包括本申请实施例上述的半导体器件,该电子设备可以是包括计算机领域的笔记本、平板电脑(ipad)、台式电脑、服务器、显示器以及各种外设;也可以包括网络通信领域的手机、电话以及其它各种终端和局端设备;也可以包括消费电子领域的智能穿戴设备、传统黑白家电和各种数码产品;还可以包括工业控制领域中的工业个人电脑、汽车、各类仪器仪表和控制设备等。

Claims (18)

1.一种半导体封装结构,其特征在于,包括:电路板、设置在所述电路板上的芯片和引脚、以及包覆所述电路板、所述芯片和所述引脚的塑封体;
所述引脚包括连接部和插针,所述连接部一端焊接在所述电路板上,另一端与所述塑封体的顶面齐平,所述连接部具有安装孔,所述插针设置于所述安装孔内并与所述连接部过盈配合,所述插针的一端露出所述塑封体的顶面;所述塑封体的顶面为研磨粗糙面;所述连接部的所述另一端的端面为研磨粗糙面;
或者,所述引脚包括插针,所述塑封体设置有从所述塑封体顶面贯穿至所述电路板的安装孔,所述插针设置于所述安装孔内,所述插针的一端焊接在所述电路板上,另一端露出所述塑封体的顶面,所述安装孔内填充有绝缘树脂,所述绝缘树脂包裹在所述插针周围。
2.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,所述连接部包括环绕的侧壁,所述连接部的侧壁一端焊接在所述电路板上。
3.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,所述连接部包括底座和环绕的侧壁,所述连接部的底座焊接在所述电路板上。
4.如权利要求1-3任一项所述的半导体封装结构,其特征在于,所述连接部为导电金属材质。
5.如权利要求1-4任一项所述的半导体封装结构,其特征在于,所述连接部包括连接部本体和设置在连接部本体表面的表面处理层,所述表面处理层为电镀锡层、电镀镍层、化学镍金层或化学镍钯金层。
6.如权利要求1-5任一项所述的半导体封装结构,其特征在于,所述插针位于所述连接部的安装孔内的长度大于或等于1/2插针的总长度。
7.如权利要求1-6任一项所述的半导体封装结构,其特征在于,所述塑封体的研磨粗糙面的粗糙度Ra大于0.1微米;所述连接部的研磨粗糙面的粗糙度Ra大于0.1微米。
8.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,所述绝缘树脂包括环氧树脂。
9.如权利要求1或8所述的半导体封装结构,其特征在于,所述绝缘树脂的填充高度大于或等于1/4所述插针的长度。
10.如权利要求1-9任一项所述的半导体封装结构,其特征在于,所述插针为导电金属材质。
11.如权利要求1-10任一项所述的半导体封装结构,其特征在于,所述引脚为直线型引脚,不存在弯折部。
12.如权利要求11所述的半导体封装结构,其特征在于,所述引脚为垂直引脚,所述引脚沿垂直于所述电路板表面的方向延伸。
13.如权利要求1-12任一项所述的半导体封装结构,其特征在于,所述半导体封装结构包括多个所述引脚,多个所述引脚间隔设置。
14.如权利要求1-13任一项所述的半导体封装结构,其特征在于,所述半导体封装结构还包括设置在所述电路板上的其他电子元器件。
15.一种半导体封装结构的制造方法,其特征在于,包括:
将芯片固定在电路板上;
将连接座焊接在所述电路板上;所述连接座具有一封闭的安装孔;或者所述连接部具有一朝一端开口的安装孔,经所述焊接后,所述安装孔被封闭;
将所述芯片与所述电路板进行金属线键合;
采用塑封材料将设置有芯片、连接座的电路板进行塑封,形成塑封体;
对所述塑封体的顶面和所述连接座进行研磨使所述安装孔露出;经研磨后,所述连接座形成连接部,所述连接部被研磨的一端与所述塑封体的顶面齐平;
将插针安装在所述安装孔内,所述插针与所述连接部过盈配合;所述插针一端位于所述安装孔内,另一端露出所述安装孔。
16.一种半导体封装结构的制造方法,其特征在于,包括:
将芯片固定在电路板上,将所述芯片与所述电路板进行金属线键合;
采用塑封模具、塑封材料将固定有芯片的电路板进行塑封,形成塑封体;其中,所述塑封模具包括第一模具和第二模具,所述第一模具对应于预设引脚的位置设有凸起结构;经所述塑封后,所述塑封体在所述预设引脚的位置形成从所述塑封体顶面贯穿至所述电路板的安装孔;
将插针焊接在所述安装孔内,所述插针与所述电路板之间形成焊接部;所述插针一端位于所述安装孔内,另一端露出所述安装孔;
向所述安装孔内注入绝缘树脂,固化后,得到半导体封装结构。
17.一种半导体器件,其特征在于,包括如权利要求1-14任一项所述的半导体封装结构。
18.一种电子设备,其特征在于,包括如权利要求17所述的半导体器件。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114040563A (zh) * 2021-11-05 2022-02-11 上海杰瑞兆新信息科技有限公司 一种高散热性能的电子产品的封装结构及其封装方法
WO2022063283A1 (zh) * 2020-09-28 2022-03-31 华为技术有限公司 半导体封装结构及其制造方法和半导体器件
CN115623665A (zh) * 2022-10-21 2023-01-17 苏州悉智科技有限公司 功率模块封装结构及其制造方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115062575B (zh) * 2022-06-10 2023-08-29 扬州虹扬科技发展有限公司 一种三相整流桥塑封模注胶口位置优化方法及系统
US20240112977A1 (en) * 2022-09-29 2024-04-04 Littelfuse, Inc. Isolated power packaging with flexible connectivity

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080185708A1 (en) * 2007-02-05 2008-08-07 Bridge Semiconductor Corporation Stackable semiconductor package having metal pin within through hole of package
US20100127389A1 (en) * 2008-11-26 2010-05-27 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor module
US20100133684A1 (en) * 2008-11-28 2010-06-03 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor module and manufacturing method thereof
US20150145123A1 (en) * 2013-11-25 2015-05-28 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Power semiconductor module and method of manufacturing the same
CN109545759A (zh) * 2018-12-24 2019-03-29 芜湖启迪半导体有限公司 一种功率模块结构及其制造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103489792B (zh) * 2013-08-06 2016-02-03 江苏长电科技股份有限公司 先封后蚀三维系统级芯片倒装封装结构及工艺方法
CN111769090A (zh) * 2020-07-21 2020-10-13 无锡利普思半导体有限公司 塑封功率模块、塑封模具及塑封方法
CN112271165A (zh) * 2020-09-28 2021-01-26 华为技术有限公司 半导体封装结构及其制造方法和半导体器件

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080185708A1 (en) * 2007-02-05 2008-08-07 Bridge Semiconductor Corporation Stackable semiconductor package having metal pin within through hole of package
US20100127389A1 (en) * 2008-11-26 2010-05-27 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor module
US20100133684A1 (en) * 2008-11-28 2010-06-03 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor module and manufacturing method thereof
US20150145123A1 (en) * 2013-11-25 2015-05-28 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Power semiconductor module and method of manufacturing the same
CN109545759A (zh) * 2018-12-24 2019-03-29 芜湖启迪半导体有限公司 一种功率模块结构及其制造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022063283A1 (zh) * 2020-09-28 2022-03-31 华为技术有限公司 半导体封装结构及其制造方法和半导体器件
CN114040563A (zh) * 2021-11-05 2022-02-11 上海杰瑞兆新信息科技有限公司 一种高散热性能的电子产品的封装结构及其封装方法
CN115623665A (zh) * 2022-10-21 2023-01-17 苏州悉智科技有限公司 功率模块封装结构及其制造方法

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