CN112201646A - 一种led芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法 - Google Patents

一种led芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112201646A
CN112201646A CN202011041118.0A CN202011041118A CN112201646A CN 112201646 A CN112201646 A CN 112201646A CN 202011041118 A CN202011041118 A CN 202011041118A CN 112201646 A CN112201646 A CN 112201646A
Authority
CN
China
Prior art keywords
electrode
led chip
led
driving circuit
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202011041118.0A
Other languages
English (en)
Inventor
申凤仪
申广
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Rewo Micro Semiconductor Technology Co.,Ltd.
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to CN202011041118.0A priority Critical patent/CN112201646A/zh
Publication of CN112201646A publication Critical patent/CN112201646A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/30Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
    • H01L22/34Circuits for electrically characterising or monitoring manufacturing processes, e. g. whole test die, wafers filled with test structures, on-board-devices incorporated on each die, process control monitors or pad structures thereof, devices in scribe line
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/10Measuring as part of the manufacturing process
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/10Measuring as part of the manufacturing process
    • H01L22/14Measuring as part of the manufacturing process for electrical parameters, e.g. resistance, deep-levels, CV, diffusions by electrical means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/30Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
    • H01L22/32Additional lead-in metallisation on a device or substrate, e.g. additional pads or pad portions, lines in the scribe line, sacrificed conductors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Led Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

本发明涉及一种LED芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法。LED芯片测试驱动电路包括若干P电极层、若干N电极层、若干P电极电路及若干N电极电路,用于将LED芯片阵列中同列芯片的P电极电连接并引出统一接线端以及同行LED芯片的N电极电连接并引出统一接线端。本发明通过在完成LED芯片制作的LED晶圆上直接制作LED芯片测试驱动电路,可通过外接无源选址驱动扫描电信号、以无源选址驱动模式快速逐点测试LED晶圆上的LED芯片,不需要点测机,可节约巨额的设备投资,极大的降低芯片测试成本,同时大幅度提高芯片测试能力、芯片测试速度,进而可大幅度降低芯片生产成本、提高芯片生产效率。

Description

一种LED芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法
技术领域
本发明涉及LED芯片技术领域,特别是一种LED芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法。
背景技术
目前,现有技术中LED芯片测试主要采用探针台,将钨质探针压在芯片的电极上,完成探针与芯片的电气连接,加电进行光电性能测试。目前一张4寸LED晶圆上的芯片根据芯片尺寸的不同,芯片数量在几百至几十万粒不等,每个芯片都需要加电测量光、电参数,当前LED芯片测试采用的探针机械运动物理接触芯片电极测试方法,主流探针测试设备的测试能力为10万粒芯片/台机/小时,测试效率低,每台设备价格约在30万元人民币,一般每个芯片厂需购置几百到几千台点测机设备,芯片测试设备成本高,导致LED芯片生产效率低、生产成本高。
发明内容
本发明的主要目的是克服现有技术的缺点,提供一种可极大的提升芯片测试效率、降低芯片测试成本,进而大幅度降低芯片生产成本、提高芯片生产效率的LED芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法。
本发明采用如下技术方案:
一种LED芯片测试驱动电路,设置于LED晶圆上,LED晶圆上分布有制作完成的LED芯片阵列,LED芯片测试电路包括若干P电极层、若干N电极层、若干P电极电路及若干N电极电路,P电极层复合于各LED芯片的P电极上并与P电极电连接,N电极层复合于各LED芯片的N电极上并与N电极电连接,P电极电路与LED芯片阵列中同一列的LED芯片对应的若干P电极层电连接、用于将整列LED芯片的P电极电连接并引出统一接线端,N电极电路与LED芯片阵列中同一行的LED芯片对应的若干N电极层电连接、用于将整行LED芯片的N电极电连接并引出统一接线端,P电极电路与N电极电路之间绝缘设置。
进一步地,所述P电极层与P电极电路一体成型,N电极层与N电极电路一体成型。
进一步地,所述P电极电路与N电极电路之间通过设置绝缘层或形成一定间隙绝缘设置。
一种LED芯片测试驱动电路制作方法,依次包括以下步骤:
①在完成LED芯片制作的LED晶圆上通过涂覆感光胶、曝光、显影工艺,显影出LED芯片的P电极和P电极电路区域;
②在步骤①得到的产品表面镀膜第一金属层,并去除显影区域以外部分的第一金属层;
③去除步骤②得到的产品上的感光胶;
④在步骤③得到的产品表面通过涂覆感光胶、曝光、显影工艺,显影出LED芯片的N电极和N电极电路区域;
⑤在步骤④得到的产品表面镀膜第二金属层,并去除显影区域以外部分的第二金属层;即完成LED芯片测试驱动电路的制作。
进一步地,所述步骤①中,先在完成LED芯片制作的LED晶圆上涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片P电极对应区域曝光,然后显影露出LED芯片P电极;再次涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片P电极对应区域和P电极电路区域曝光,然后显影露出LED芯片P电极和P电极电路区域。
进一步地,所述步骤④中,先在步骤③得到的产品表面涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片N电极对应区域曝光,然后显影露出LED芯片N电极;然后再次涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片N电极对应区域和N电极电路区域曝光,然后显影露出LED芯片N电极和N电极电路区域。
进一步地,所述镀膜第一金属层、镀膜第二金属层采用蒸镀镀膜或溅射镀膜工艺。
进一步地,所述步骤③中,通过将步骤②得到的产品置入去胶剂中去除感光胶。
进一步地,对于P电极、N电极位于同侧的LED芯片,在步骤⑤工艺前,在步骤④得到的产品的P电极电路与N电极电路交叉处设置绝缘隔层。
一种LED芯片测试方法,包括有如下步骤:
a.在完成LED芯片制作的LED晶圆上通过上述的LED芯片测试驱动电路制作方法制作LED芯片测试驱动电路;
b.通过LED芯片测试驱动电路外接无源选址驱动扫描电信号、以无源选址驱动模式逐点测试LED晶圆上的待测试LED芯片,即将LED芯片阵列中每一列的LED芯片的P电极通过统一接线端连接到列扫描线,将LED芯片阵列中每一行的LED芯片的N电极通过统一接线端连接到行扫描线,一列扫描线、一行扫描线同时选通,对应LED芯片阵列中一LED芯片的光、电性能测试,逐点扫描即可实现LED芯片阵列中所有LED芯片的测试;
c.测试完成后,将LED芯片测试驱动电路从LED晶圆上去除。
由上述对本发明的描述可知,与现有技术相比,本发明的有益效果是:
本发明通过在完成LED芯片制作的LED晶圆上直接制作LED芯片测试驱动电路,可通过外接无源选址驱动扫描电信号、以无源选址驱动模式快速逐点测试LED晶圆上的LED芯片,不采用机械探针接触芯片电极,不需要点测机,可以节约巨额的点测机设备投资,根据芯片尺寸不同,芯片点测成本每个晶圆下降为5-30元不等,同时,芯片测试能力可达到几十万粒芯片/分钟,芯片测试速度可达到当前点测机设备的百倍以上,可极大的提升芯片测试效率、降低芯片测试成本,进而大幅度降低芯片生产成本、提高芯片生产效率。
附图说明
图1是本发明实施例1的LED晶圆及LED芯片测试驱动电路的俯视结构示意图;
图2是本发明实施例2的LED晶圆及LED芯片测试驱动电路的俯视结构透视图。
图中:1.LED晶圆,2.P电极层,3.N电极层,4.P电极电路,5.N电极电路,6.LED芯片。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本发明作进一步的描述。
实施例1
参照图1,本发明的一种LED芯片测试驱动电路,设置于LED晶圆1上,LED晶圆1上分布有制作完成的正装结构的LED芯片阵列,LED芯片测试电路包括若干P电极层2、若干N电极层3、若干P电极电路4及若干N电极电路5,P电极层2复合于各LED芯片6的P电极上并与P电极电连接,N电极层3复合于各LED芯片6的N电极上并与N电极电连接,P电极电路4与LED芯片阵列中同一列的LED芯片6对应的若干P电极层2电连接、用于将整列LED芯片6的P电极电连接并引出统一接线端,N电极电路5与LED芯片阵列中同一行的LED芯片6对应的若干N电极层3电连接、用于将整行LED芯片6的N电极电连接并引出统一接线端,P电极电路4与N电极电路5之间通过设置绝缘层绝缘设置。P电极层2与P电极电路4一体成型,N电极层3与N电极电路5一体成型。
本发明的一种LED芯片测试驱动电路制作方法,依次包括以下步骤:
①先在完成LED芯片6制作的LED晶圆1上涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片6的P电极对应区域曝光,然后显影露出LED芯片P电极;
再次涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片6的P电极对应区域和P电极电路4区域曝光,然后显影露出LED芯片P电极和P电极电路4区域;
②在步骤①得到的产品表面采用蒸镀镀膜工艺镀膜第一金属层,并去除显影区域以外部分的第一金属层,剩余一体成型的P电极层2和P电极电路4;
③将步骤②得到的产品置入去胶剂中去除感光胶;
④先在步骤③得到的产品表面涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片6的N电极对应区域曝光,然后显影露出LED芯片N电极;
然后再次涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片6的N电极对应区域和N电极电路5区域曝光,然后显影露出LED芯片N电极和N电极电路区域;
⑤先在步骤④得到的产品的P电极电路4与N电极电路5交叉处设置绝缘隔层,绝缘隔层可通过模具镀设于P电极电路4表面;然后在步骤④得到的产品表面采用蒸镀镀膜工艺镀膜第二金属层,并去除显影区域以外部分的第二金属层,剩余一体成型的N电极层3和N电极电路5;即完成LED芯片测试驱动电路的制作。
其中,第一金属层、第二金属层可采用铜或铝。感光胶、去胶剂及曝光、显影工艺均采用本领域现有技术中任意可实现对应效果的实施方案。
本发明的一种LED芯片测试方法,包括有如下步骤:
a.在完成LED芯片制作的LED晶圆上通过上述的LED芯片测试驱动电路制作方法制作LED芯片测试驱动电路;
b.通过LED芯片测试驱动电路外接无源选址驱动扫描电信号、以无源选址驱动模式逐点测试LED晶圆上的待测试LED芯片6,即将LED芯片阵列中每一列的LED芯片6的P电极通过统一接线端连接到列扫描线,将LED芯片阵列中每一行的LED芯片6的N电极通过统一接线端连接到行扫描线,当某一特定的第Y列扫描线和第X行扫描线被选通时,LED阵列中与其交叉点(X,Y)对应的LED像素即会被点亮,即实现对该LED芯片6的光、电性能测试,以此方式进行高速逐点扫描即可实现LED芯片阵列中所有LED芯片6的测试;
c.测试完成后,将LED芯片测试驱动电路从LED晶圆1上去除。
本发明的LED芯片测试方法,芯片测试能力可达几十万粒芯片/分钟,根据芯片尺寸不同,芯片点测成本每个LED晶圆下降5-30元不等。
实施例2
参照图2,本实施例与实施例1的区别在于:
本实施例的一种LED芯片测试驱动电路,设置于LED晶圆1上,LED晶圆1上分布有制作完成的垂直结构的LED芯片阵列。在LED晶圆1上首先制作P电极电路4,然后将LED晶圆衬底剥离,再在剥离衬底后的LED晶圆1上制作N电极电路5,P电极电路4和N电极电路5分别设置于剥离衬底后的LED晶圆1的正、反两面。P电极电路4与N电极电路5之间形成一定间隙实现绝缘。
本实施例的一种LED芯片测试驱动电路制作方法,依次包括以下步骤:
①先在完成LED芯片6制作的LED晶圆1上涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片6的P电极对应区域曝光,然后显影露出LED芯片P电极;
再次涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片6的P电极对应区域和P电极电路4区域曝光,然后显影露出LED芯片P电极和P电极电路4区域;
②在步骤①得到的产品表面采用蒸镀镀膜工艺镀膜第一金属层,并去除显影区域以外部分的第一金属层,剩余一体成型的P电极层2和P电极电路4;
③将步骤②得到的产品置入去胶剂中去除感光胶;然后利用激光剥离技术剥离LED晶圆1的衬底;
④先在步骤③得到的产品的远离P电极层2和P电极电路4面的表面涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片6的N电极对应区域曝光,然后显影露出LED芯片N电极;
然后再次涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片6的N电极对应区域和N电极电路5区域曝光,然后显影露出LED芯片N电极和N电极电路区域;
⑤在步骤④得到的产品表面采用蒸镀镀膜工艺镀膜第二金属层,并去除显影区域以外部分的第二金属层,剩余一体成型的N电极层3和N电极电路5;即完成LED芯片测试驱动电路的制作。
实施例3
本实施例与实施例1的区别在于:本实施例的一种LED芯片测试驱动电路制作方法中,镀膜第一金属层、镀膜第二金属层采用溅射镀膜工艺。
上述仅为本发明的三个具体实施方式,但本发明的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动,均应属于侵犯本发明保护范围的行为。

Claims (10)

1.一种LED芯片测试驱动电路,其特征在于:设置于LED晶圆上,LED晶圆上分布有制作完成的LED芯片阵列,LED芯片测试电路包括若干P电极层、若干N电极层、若干P电极电路及若干N电极电路,P电极层复合于各LED芯片的P电极上并与P电极电连接,N电极层复合于各LED芯片的N电极上并与N电极电连接,P电极电路与LED芯片阵列中同一列的LED芯片对应的若干P电极层电连接、用于将整列LED芯片的P电极电连接并引出统一接线端,N电极电路与LED芯片阵列中同一行的LED芯片对应的若干N电极层电连接、用于将整行LED芯片的N电极电连接并引出统一接线端,P电极电路与N电极电路之间绝缘设置。
2.如权利要求1所述的一种LED芯片测试驱动电路,其特征在于:所述P电极层与P电极电路一体成型,N电极层与N电极电路一体成型。
3.如权利要求1所述的一种LED芯片测试驱动电路,其特征在于:所述P电极电路与N电极电路之间通过设置绝缘层或形成一定间隙绝缘设置。
4.一种LED芯片测试驱动电路制作方法,其特征在于:依次包括以下步骤:
①在完成LED芯片制作的LED晶圆上通过涂覆感光胶、曝光、显影工艺,显影出LED芯片的P电极和P电极电路区域;
②在步骤①得到的产品表面镀膜第一金属层,并去除显影区域以外部分的第一金属层;
③去除步骤②得到的产品上的感光胶;
④在步骤③得到的产品表面通过涂覆感光胶、曝光、显影工艺,显影出LED芯片的N电极和N电极电路区域;
⑤在步骤④得到的产品表面镀膜第二金属层,并去除显影区域以外部分的第二金属层;即完成LED芯片测试驱动电路的制作。
5.如权利要求4所述的一种LED芯片测试驱动电路制作方法,其特征在于:所述步骤①中,先在完成LED芯片制作的LED晶圆上涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片P电极对应区域曝光,然后显影露出LED芯片P电极;再次涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片P电极对应区域和P电极电路区域曝光,然后显影露出LED芯片P电极和P电极电路区域。
6.如权利要求4所述的一种LED芯片测试驱动电路制作方法,其特征在于:所述步骤④中,先在步骤③得到的产品表面涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片N电极对应区域曝光,然后显影露出LED芯片N电极;然后再次涂覆感光胶,使用光罩将LED芯片N电极对应区域和N电极电路区域曝光,然后显影露出LED芯片N电极和N电极电路区域。
7.如权利要求4所述的一种LED芯片测试驱动电路制作方法,其特征在于:所述镀膜第一金属层、镀膜第二金属层采用蒸镀镀膜或溅射镀膜工艺。
8.如权利要求4所述的一种LED芯片测试驱动电路制作方法,其特征在于:所述步骤③中,通过将步骤②得到的产品置入去胶剂中去除感光胶。
9.如权利要求4所述的一种LED芯片测试驱动电路制作方法,其特征在于:对于P电极、N电极位于同侧的LED芯片,在步骤⑤工艺前,在步骤④得到的产品的P电极电路与N电极电路交叉处设置绝缘隔层。
10.一种LED芯片测试方法,其特征在于:包括有如下步骤:
a.在完成LED芯片制作的LED晶圆上通过权利要求4至9任一所述的LED芯片测试驱动电路制作方法制作LED芯片测试驱动电路;
b.通过LED芯片测试驱动电路外接无源选址驱动扫描电信号、以无源选址驱动模式逐点测试LED晶圆上的待测试LED芯片,即将LED芯片阵列中每一列的LED芯片的P电极通过统一接线端连接到列扫描线,将LED芯片阵列中每一行的LED芯片的N电极通过统一接线端连接到行扫描线,一列扫描线、一行扫描线同时选通,对应LED芯片阵列中一LED芯片的光、电性能测试,逐点扫描即可实现LED芯片阵列中所有LED芯片的测试;
c.测试完成后,将LED芯片测试驱动电路从LED晶圆上去除。
CN202011041118.0A 2020-09-28 2020-09-28 一种led芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法 Pending CN112201646A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011041118.0A CN112201646A (zh) 2020-09-28 2020-09-28 一种led芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011041118.0A CN112201646A (zh) 2020-09-28 2020-09-28 一种led芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN112201646A true CN112201646A (zh) 2021-01-08

Family

ID=74007720

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011041118.0A Pending CN112201646A (zh) 2020-09-28 2020-09-28 一种led芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112201646A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113763877A (zh) * 2021-08-26 2021-12-07 南京观海微电子有限公司 一种硅基oled显示矩阵和驱动电路分开的制作方法
CN115241359A (zh) * 2022-08-12 2022-10-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 半导体器件及其制作方法、显示面板

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5929845A (en) * 1996-09-03 1999-07-27 Motorola, Inc. Image scanner and display apparatus
US20070252005A1 (en) * 2006-05-01 2007-11-01 Konicek Jeffrey C Active matrix emissive display and optical scanner system, methods and applications
CN202332837U (zh) * 2011-09-09 2012-07-11 贵州大学 倒装阵列led芯片
CN103579461A (zh) * 2013-11-08 2014-02-12 中国科学院半导体研究所 制备晶圆级全彩led显示阵列的方法
CN104465485A (zh) * 2014-12-04 2015-03-25 中国科学院半导体研究所 一种制备小间距led全彩显示阵列的方法
CN205452353U (zh) * 2016-04-12 2016-08-10 中山大学 一种大面积电极led阵列
CN110491895A (zh) * 2019-07-23 2019-11-22 北京工业大学 NP电极共平面倒装Micro-LED微显示阵列及制作方法
CN111108613A (zh) * 2017-09-13 2020-05-05 夏普株式会社 Led单元、图像显示元件及其制造方法
CN112086546A (zh) * 2020-09-28 2020-12-15 申广 一种led产品封装结构及封装方法
CN212967737U (zh) * 2020-09-28 2021-04-13 申广 一种led产品封装结构

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5929845A (en) * 1996-09-03 1999-07-27 Motorola, Inc. Image scanner and display apparatus
US20070252005A1 (en) * 2006-05-01 2007-11-01 Konicek Jeffrey C Active matrix emissive display and optical scanner system, methods and applications
CN202332837U (zh) * 2011-09-09 2012-07-11 贵州大学 倒装阵列led芯片
CN103579461A (zh) * 2013-11-08 2014-02-12 中国科学院半导体研究所 制备晶圆级全彩led显示阵列的方法
CN104465485A (zh) * 2014-12-04 2015-03-25 中国科学院半导体研究所 一种制备小间距led全彩显示阵列的方法
CN205452353U (zh) * 2016-04-12 2016-08-10 中山大学 一种大面积电极led阵列
CN111108613A (zh) * 2017-09-13 2020-05-05 夏普株式会社 Led单元、图像显示元件及其制造方法
US20200259055A1 (en) * 2017-09-13 2020-08-13 Sharp Kabushiki Kaisha Led unit, image display element, and method of manufacturing the same
CN110491895A (zh) * 2019-07-23 2019-11-22 北京工业大学 NP电极共平面倒装Micro-LED微显示阵列及制作方法
CN112086546A (zh) * 2020-09-28 2020-12-15 申广 一种led产品封装结构及封装方法
CN212967737U (zh) * 2020-09-28 2021-04-13 申广 一种led产品封装结构

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113763877A (zh) * 2021-08-26 2021-12-07 南京观海微电子有限公司 一种硅基oled显示矩阵和驱动电路分开的制作方法
CN115241359A (zh) * 2022-08-12 2022-10-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 半导体器件及其制作方法、显示面板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6218203B1 (en) Method of producing a contact structure
US6420884B1 (en) Contact structure formed by photolithography process
KR100508419B1 (ko) 마이크로 제조 프로세스에 의해 형성된 접점 구조물
US20010026166A1 (en) Probe contactor and production method thereof
CN100576531C (zh) 半导体封装及其制造方法
CN112201646A (zh) 一种led芯片测试驱动电路、制作方法及芯片测试方法
CN100565231C (zh) 测试设备
KR20090012242A (ko) 전자 부품을 구비한 프로브 구조
CN101154609B (zh) 凸块测试单元、装置及测试方法
JPH11265916A (ja) 半導体ウェーハの構造及び半導体チップの製造方法
CN111398773A (zh) 可测试的微器件排列结构及其制作方法、测试方法
US6249114B1 (en) Electronic component continuity inspection method and apparatus
US20130029500A1 (en) Connector and fabrication method thereof
CN101358999B (zh) 探针组合体
CN1397804A (zh) 具有接触块的接触结构
CN101017182A (zh) 晶片级老化和测试
CN1604309A (zh) 生产多芯片模块的方法和多芯片模块
JPH10132855A (ja) Ic検査用プローブカード
US6432291B1 (en) Simultaneous electroplating of both sides of a dual-sided substrate
CN217034159U (zh) 一种新型半导体光电器件测试板
CN217034160U (zh) 一种集成扫描式半导体电路测试板
CN215910593U (zh) 一种适于场效应管老炼试验的老炼板
CN113945864B (zh) 治具、检测系统、基板检测方法
CN112858875B (zh) 一种pcb板caf测试模块设计方法
CN104299959A (zh) 倒装芯片的测试结构、倒装芯片和倒装芯片的制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20220823

Address after: 1104-E21, 11th Floor, Life Insurance Building, No. 1001, Fuzhong 1st Road, Fuzhong Community, Lianhua Street, Futian District, Shenzhen, Guangdong 518000

Applicant after: Shenzhen Rewo Micro Semiconductor Technology Co.,Ltd.

Address before: 116000 3-3-1, 48 Heishijiao street, Shahekou District, Dalian City, Liaoning Province

Applicant before: Shen Guang

RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20210108