CN112198767A - 曝光机 - Google Patents

曝光机 Download PDF

Info

Publication number
CN112198767A
CN112198767A CN202011125345.1A CN202011125345A CN112198767A CN 112198767 A CN112198767 A CN 112198767A CN 202011125345 A CN202011125345 A CN 202011125345A CN 112198767 A CN112198767 A CN 112198767A
Authority
CN
China
Prior art keywords
exposure
exposure machine
baffle
barrier strips
barrier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202011125345.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112198767B (zh
Inventor
王虎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
Original Assignee
TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd filed Critical TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
Priority to CN202011125345.1A priority Critical patent/CN112198767B/zh
Publication of CN112198767A publication Critical patent/CN112198767A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112198767B publication Critical patent/CN112198767B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本申请提出了一种曝光机,其包括用于承载待曝光的目标基板的载台,位于该载台上的光源组件、位于该载台与该光源组件之间的挡板组件;该挡板组件包括至少一层叠设置的挡板构件,任一该挡板构件至少包括沿第一方向设置的两个挡板,任一该挡板包括至少两个滑动连接的挡条,该挡板上的挡条形成该曝光机的目标曝光图案。本申请通过将曝光机中的至少一个挡板设置成由多个可移动的挡条构成,使得该挡条能够形成非规则的曝光图案,满足现有曝光工艺中对曝光图案的个性化需求。

Description

曝光机
技术领域
本申请涉及显示领域,特别涉及一种曝光机。
背景技术
在显示领域中,光刻工艺过程中需要使用带有图形的掩模板及曝光机对待曝光的基板进行曝光,成膜后的基板经曝光、刻蚀等工艺,形成具有一定图案的器件或者紫外掩模玻璃板(UV Mask Glass)。
现有曝光机一般包括前后左右四块挡板,其通过移动该挡板机构控制光照射区域的面积。在现有曝光机的挡板机构实现遮挡功能时,任一挡板的边界为同时进退以及同时遮挡,其实现的曝光区域为规则的矩形。而在实际的曝光过程中,部分边界区域需要被遮光或者部分边界区域需要被曝光,而现有技术中的曝光机无法满足目前的曝光需求,其需要额外增加一道曝光工艺,导致制程的复杂以及成本的增加。
因此,亟需一种曝光机以解决上述技术问题。
发明内容
本申请提供一种曝光机,以解决现有曝光机无法形成非规则曝光图案的技术问题。
为解决上述问题,本申请提供的技术方案如下:
本申请提出了一种曝光机,其包括:
载台,用于承载待曝光的目标基板;
光源组件,位于所述载台上,以及用于提供曝光光源;
挡板组件,位于所述载台与所述光源组件之间,所述挡板组件包括至少一层叠设置的挡板构件,任一所述挡板构件至少包括沿第一方向设置的两个挡板,任一所述挡板包括至少两个挡条,任一所述挡条在所述第一方向上移动,所述挡板上的挡条形成所述曝光机的目标曝光图案。
在本申请的曝光机中,所述挡板组件包括第一挡板构件,所述第一挡板构件包括沿第一方向设置的第一挡板和第三挡板、以及沿第二方向设置的第二挡板和第四挡板,所述第一挡板和所述第三挡板在所述第一方向上移动,所述第二挡板和所述第四挡板在所述第二方向上移动;
所述第一挡板包括至少两个第一挡条,所述第二挡板包括至少两个第二挡条,所述第三挡板包括至少两个第三挡条,所述第四挡板包括至少两个第四挡条,所述第一挡条和所述第三挡条在所述第一方向上移动,所述第二挡条和所述第四挡条在所述第二方向上移动;
至少两个所述第一挡条、至少两个所述第二挡条、至少两个所述第三挡条、及至少两个所述第四挡条形成所述曝光机的第一曝光图案。
在本申请的曝光机中,所述挡板组件还包括位于所述第一挡板构件一侧的第二挡板构件,所述第二挡板构件包括沿第三方向设置的两个挡板以及沿第四方向设置的两个挡板,所述第二挡板构件上的挡板形成所述曝光机的第二曝光图案,所述第一曝光图案与所述第二曝光图案的叠加形成所述目标曝光图案。
在本申请的曝光机中,所述第一曝光图案的中心与所述第二曝光图案的中心重合。
在本申请的曝光机中,所述第一挡板构件以所述第一曝光图案的中心轴旋转X,所述第一挡板构件与所述第二挡板构件重合。
在本申请的曝光机中,相邻两个所述挡条具有重叠部分。
在本申请的曝光机中,相邻两个所述挡条错位设置;或者,所述挡条呈T字型,相邻两个所述挡条搭接设置。
在本申请的曝光机中,所述曝光机还包括传动组件,所述传动组件包括至少一第一滚轮、位于所述第一滚轮上的第一齿轮、及与所述第一齿轮啮合的第一齿条,所述第一齿条与所述挡条固定连接。
在本申请的曝光机中,所述第一齿轮的分度圆直径与所述第一滚轮的直径相等。
在本申请的曝光机中,所述第一齿轮包括多个位于相邻两个轮齿上的齿槽,部分所述齿槽凹陷于所述第一滚轮内。
有益效果:本申请通过将曝光机中的至少一个挡板设置成由多个可移动的挡条构成,使得所述挡条能够形成非规则的曝光图案,满足现有曝光工艺中对曝光图案的个性化需求。
附图说明
下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请曝光机的结构简图;
图2为本申请曝光机中挡板组件的第一种结构图;
图3为本申请曝光机中挡板组件的第二种结构图;
图4为本申请曝光机中挡板组件的第三种结构图;
图5为本申请曝光机中挡板组件的第四种结构图;
图6为本申请曝光机中挡板的第一种结构图;
图7为本申请曝光机中挡板的第二种结构图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接或可以相互通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本申请。此外,本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
现有曝光机一般包括前后左右四块挡板,其实现的曝光区域一般为规则的矩形。而在实际的曝光过程中,部分边界区域需要被遮光或者部分边界区域需要被曝光,而现有技术中的曝光机无法满足目前的曝光需求。因此本申请提出了一种曝光机以解决上述技术问题。
请参阅图1~图7,本申请提出了一种曝光机100,其包括:
载台10,用于承载待曝光的目标基板20;
光源组件30,位于所述载台10上,以及用于提供曝光光源;
挡板组件40,位于所述载台10与所述光源组件30之间,所述挡板组件40包括至少一层叠设置的挡板构件,任一所述挡板构件至少包括沿第一方向X设置的两个挡板,任一所述挡板包括至少两个滑动连接的挡条,所述挡板上的挡条形成所述曝光机100的目标曝光图案70。
本申请通过将曝光机100中的至少一个挡板设置成由多个可移动的挡条构成,使得所述挡条能够形成非规则的曝光图案,满足现有曝光工艺中对曝光图案的个性化需求。
现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
在本申请的显示面板中,所述挡板组件40包括第一挡板构件41,所述第一挡板构件41包括沿第一方向X设置的第一挡板411和第三挡板413、以及沿第二方向Y设置的第二挡板412和第四挡板414,所述第一挡板411和所述第三挡板413可以在所述第一方向X上移动,所述第二挡板412和所述第四挡板414可以在所述第二方向Y上移动。
所述第一挡板411包括至少两个滑动连接的第一挡条4110,所述第二挡板412包括至少两个滑动连接的第二挡条4120,所述第三挡板413包括至少滑动连接的两个第三挡条4130,所述第四挡板414包括至少两个滑动连接的第四挡条4140,所述第一挡条4110和所述第三挡条可以在所述第一方向X上移动,所述第二挡条4120和所述第四挡条4140可以在所述第二方向Y上移动;
至少两个所述第一挡条4110、至少两个所述第二挡条4120、至少两个所述第三挡条4130、及至少两个所述第四挡条4140形成所述曝光机100的第一曝光图案410。
请参阅图2,本申请的第一挡板构件41包括四个挡板,任一所述挡板包括4个沿第一方向X或者第二方向Y设置的4个挡条。请参阅图3,四个挡板中的16个所述挡条所形成的图案为本申请的第一曝光图案4100。
在图2~图3的实施例中,由于所述第一挡板411、所述第二挡板412、所述第三挡板413、及所述第四挡板414位于同一平面上,因此为了保证曝光图案的封闭性,位于外围的挡条需要彼此连接以及固定。
在本实施例中,所述第一方向X可以为水平方向,所述第二方向Y可以为竖直方向。
在上述实施例的基础上,沿第一方向X设置的第一挡板411和所述第三挡板413作为第一整体51、以及沿所述第二方向Y设置的第二挡板412和第四挡板414作为第二整体52可以单独设置。图4以第一挡板411和第三挡板413的所述第一整体51为例进行说明,位于所述挡条外围还设置有两个封闭条,所述第一挡条4110及所述第三挡条4130在两个所述封闭条内移动。而沿所述第二方向Y设置的第二挡板412和第四挡板414的所述第二整体52可以位于所述第一整体51的上方或者下方,所述第一整体51与所述第二整体52垂直设置。
在本申请的曝光机100中,所述挡板组件40还可以包括位于所述第一挡板构件41一侧的第二挡板构件42,所述第二挡板构件42包括沿第三方向M设置的两个挡板以及沿第四方向N设置的两个挡板,所述第二挡板构件42上的挡板形成所述曝光机100的第二曝光图案420,所述第一曝光图案410与所述第二曝光图案420的叠加形成所述目标曝光图案70。
在本申请的曝光机100中,所述第一曝光图案410的中心与所述第二曝光图案420的中心重合。
在本申请的曝光机100中,所述第一挡板构件41以所述第一曝光图案410的中心轴旋转X,所述第一挡板构件41与所述第二挡板构件42重合。
请参阅图5,所述第二挡板构件42的结构可以与所述第一挡板构件41相同。例如,所述第一挡板构件41的四个挡板形成的第一曝光图案410为第一正方形,所述第二挡板构件42的四个挡板形成的第二曝光图案420同样为第二正方形,上述第一正方形与第二正方形的中心重合。
在本实施例中,所述第三方向M与所述第一方向X及所述第二方向Y的夹角为45°,所述第四方向N与所述第一方向X及所述第二方向Y的夹角为45°。请参阅图5,所述第一曝光图案410与所述第二曝光图案420的叠加形成作为正八边形的所述目标曝光图案70。
在本申请的曝光机100中,所述挡板组件40还可以包括三个及三个以上的挡板构件,多个所述挡板构件的叠加图案其可以满足现有曝光工艺中对曝光图案的个性化需求。
在本申请的曝光机100中,相邻两个所述挡条具有重叠部分。下面以第一挡板411中的第一挡条4110为例进行说明。
请参阅图6,相邻两个所述第一挡条4110错位设置。任一第一挡板411包括异层设置的多个第一挡条4110,相邻两个第一挡条4110间隔及错位设置。或者,请参阅图7,所述第一挡条4110呈T字型,相邻两个所述第一挡条4110搭接设置。图6~图7中的实施例主要为了避免边缘漏光发生衍射或者反射等。
请参阅图1,所述曝光机100还可以包括位于所述挡板组件40与所述光源组件30之间的掩膜版50、以及位于所述掩摸版50与所述挡板组件40之间的支撑构件60。
在本申请的曝光机中,所述曝光机还包括用于驱动上述挡条移动的传动组件(未画出)。所述传动组件可以包括至少一第一滚轮、位于所述第一滚轮上的第一齿轮、及与所述第一齿轮啮合的第一齿条,所述第一齿条与所述挡条固定连接。
在本实施例中,驱动力驱动所述第一滚轮转动,由于所述第一滚轮与所述第一齿轮同轴转动,因此所述第一齿轮跟随所述第一滚轮转动。其次,所述第一齿轮与所述第一齿条啮合,所述第一齿轮带动所述第一齿条运动在某一方向上移动。最后,由于所述第一齿条与所述挡条固定连接,因此所述第一齿条的运动驱动所述挡条的运动。
在本实施例中,所述第一齿轮的分度圆直径与所述第一滚轮的直径相等。由于所述第一齿轮与所述第一滚轮是同轴转动,因此在第一滚轮运动时,第一滚轮所转过的角度与第一齿轮相同。因此为了保证第一滚轮所转动的距离与所述挡条的运动距离相等,本申请将所述第一齿轮的分度圆直径与所述第一滚轮的直径设置成相等,即只要控制好第一滚轮所转动的距离就可以控制挡条的移动距离。
在本实施例中,所述第一齿轮包括多个位于相邻两个轮齿上的齿槽,部分所述齿槽凹陷于所述第一滚轮内。齿条与对应的齿轮进行配合时为齿条的轮齿与齿轮的齿轮进行配合,而在所述第一滚轮的横轴方向上,齿条或/和齿轮可能出现在一定的松动,导致齿轮与齿条的摩擦力增加,加剧了齿轮与齿条的磨损。而本申请通过将所述第一齿轮上的齿槽凹陷于所述第一滚轮内,使得齿条上的轮齿与齿轮的齿槽进行配合时,由于所述第一滚轮的横向阻挡,因此其不会出现横向的松动,保证了齿条与齿轮配合的稳定性。
本申请提出了一种曝光机,其包括用于承载待曝光的目标基板的载台、,位于所述载台上的光源组件、位于所述载台与所述光源组件之间的挡板组件;所述挡板组件包括至少一层叠设置的挡板构件,任一所述挡板构件至少包括沿第一方向设置的两个挡板,任一所述挡板包括至少两个挡条,任一所述挡条在所述第一方向上移动,所述挡板上的挡条形成所述曝光机的目标曝光图案。本申请通过将曝光机中的至少一个挡板设置成由多个可移动的挡条构成,使得所述挡条能够形成非规则的曝光图案,满足现有曝光工艺中对曝光图案的个性化需求。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种曝光机进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种曝光机,其特征在于,包括:
载台,用于承载待曝光的目标基板;
光源组件,位于所述载台上,以及用于提供曝光光源;
挡板组件,位于所述载台与所述光源组件之间,所述挡板组件包括至少一层叠设置的挡板构件,任一所述挡板构件至少包括沿第一方向设置的两个挡板,任一所述挡板包括至少两个滑动连接的挡条,所述挡板上的挡条形成所述曝光机的目标曝光图案。
2.根据权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述挡板组件包括第一挡板构件,所述第一挡板构件包括沿第一方向设置的第一挡板和第三挡板、以及沿第二方向设置的第二挡板和第四挡板;
所述第一挡板包括至少两个滑动连接的第一挡条,所述第二挡板包括至少两个滑动连接的第二挡条,所述第三挡板包括至少两个滑动连接的第三挡条,所述第四挡板包括至少两个滑动连接的第四挡条;
至少两个所述第一挡条、至少两个所述第二挡条、至少两个所述第三挡条、及至少两个所述第四挡条形成所述曝光机的第一曝光图案。
3.根据权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述挡板组件还包括位于所述第一挡板构件一侧的第二挡板构件,所述第二挡板构件包括沿第三方向设置的两个挡板以及沿第四方向设置的两个挡板,所述第二挡板构件上的挡板形成所述曝光机的第二曝光图案,所述第一曝光图案与所述第二曝光图案的叠加形成所述目标曝光图案。
4.根据权利要求3所述的曝光机,其特征在于,所述第一曝光图案的中心与所述第二曝光图案的中心重合。
5.根据权利要求4所述的曝光机,其特征在于,所述第一挡板构件以所述第一曝光图案的中心轴旋转X,所述第一挡板构件与所述第二挡板构件重合。
6.根据权利要求1所述的曝光机,其特征在于,相邻两个所述挡条具有重叠部分。
7.根据权利要求6所述的曝光机,其特征在于,相邻两个所述挡条错位设置;或者,所述挡条呈T字型,相邻两个所述挡条搭接设置。
8.根据权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述曝光机还包括传动组件,所述传动组件包括至少一第一滚轮、位于所述第一滚轮上的第一齿轮、及与所述第一齿轮啮合的第一齿条,所述第一齿条与所述挡条固定连接。
9.根据权利要求8所述的曝光机,其特征在于,所述第一齿轮的分度圆直径与所述第一滚轮的直径相等。
10.根据权利要求8所述的曝光机,其特征在于,所述第一齿轮包括多个位于相邻两个轮齿上的齿槽,部分所述齿槽凹陷于所述第一滚轮内。
CN202011125345.1A 2020-10-20 2020-10-20 曝光机 Active CN112198767B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011125345.1A CN112198767B (zh) 2020-10-20 2020-10-20 曝光机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011125345.1A CN112198767B (zh) 2020-10-20 2020-10-20 曝光机

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112198767A true CN112198767A (zh) 2021-01-08
CN112198767B CN112198767B (zh) 2022-11-08

Family

ID=74009775

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011125345.1A Active CN112198767B (zh) 2020-10-20 2020-10-20 曝光机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112198767B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114859667A (zh) * 2022-03-24 2022-08-05 江苏友迪激光科技有限公司 一种挡板装置和曝光机

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0614124A2 (en) * 1993-02-01 1994-09-07 Nikon Corporation Exposure apparatus
KR20020038299A (ko) * 2000-11-17 2002-05-23 박종섭 스텝퍼 마스킹 브레이드 구조
CN1445613A (zh) * 2002-03-18 2003-10-01 Asml荷兰有限公司 光刻装置和器件的制作方法
US20100149509A1 (en) * 2008-09-18 2010-06-17 Nikon Corporation Optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing electronic device
CN206400261U (zh) * 2017-01-09 2017-08-11 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板遮光器

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0614124A2 (en) * 1993-02-01 1994-09-07 Nikon Corporation Exposure apparatus
KR20020038299A (ko) * 2000-11-17 2002-05-23 박종섭 스텝퍼 마스킹 브레이드 구조
CN1445613A (zh) * 2002-03-18 2003-10-01 Asml荷兰有限公司 光刻装置和器件的制作方法
US20100149509A1 (en) * 2008-09-18 2010-06-17 Nikon Corporation Optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing electronic device
CN206400261U (zh) * 2017-01-09 2017-08-11 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板遮光器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114859667A (zh) * 2022-03-24 2022-08-05 江苏友迪激光科技有限公司 一种挡板装置和曝光机

Also Published As

Publication number Publication date
CN112198767B (zh) 2022-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5606589A (en) Air cross grids for mammography and methods for their manufacture and use
WO2015122083A1 (ja) 光学素子及びその製造方法,該光学素子を有する表示装置,電子機器,及び照明装置
CN112198767B (zh) 曝光机
JP2006267524A (ja) 液晶パネル、液晶表示装置および液晶パネルの製造方法
US8804075B2 (en) Color filter and color filter manufacturing method
US8697319B2 (en) Exposure method, color filter manufacturing method, and exposure device
US20170038637A1 (en) Display device and color filter substrate
US20100014043A1 (en) Liquid crystal display element
KR20050105570A (ko) 패턴드 스페이서를 구비한 액정표시장치용 컬러필터 기판및 그 제조방법
KR101564925B1 (ko) 컬러필터 기판 및 이의 제조 방법
JP5165760B2 (ja) カラーフィルタ基板及び液晶表示装置
TWI468748B (zh) 彩色濾光片、液晶顯示裝置、彩色濾光片之製造方法
JP2011242705A (ja) 表示装置、および表示装置の製造方法
US20120094220A1 (en) Photo mask, photolithography method, substrate production method and display panel production method
CN101059575A (zh) 彩色滤光片及其制作方法与液晶显示装置及其制造方法
JP5292859B2 (ja) カラーフィルタ形成基板と液晶パネル
CN102736398B (zh) 光掩模用基板、光掩模以及图案转印方法
JP2005173016A (ja) 液晶表示装置用基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法
JP4693347B2 (ja) 露光用シャッター、露光装置、露光方法、及び基板製造方法
JP5418129B2 (ja) カラーフィルタおよびカラーフィルタ製造方法
JP4561291B2 (ja) 露光方法
JP2010256684A (ja) 露光装置、及びカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ
CN114200772A (zh) 光掩模板
JP2009216762A (ja) フォトマスク及びカラーフィルタの製造方法
JP2011123263A (ja) 近接露光装置及び近接露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant