CN112171071A - 一种镭雕方法、镭雕装置、电子设备和镭雕系统 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种镭雕方法、装置、电子设备和镭雕系统，该方法包括：获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离；其中，距离传感器设置在镭雕激光头上；根据第一距离和移动信息，确定控制信息；根据控制信息控制镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量；其中，目标能量与基材对应。本申请在镭雕激光头上设置距离传感器来采集基材表面与镭雕激光头的第一距离，然后根据第一距离和移动信息确定控制信息，通过第一距离调整控制信息，并根据控制信息控制镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量，最终实现所有基材表面的激光能量一致，实现镭雕色差的均一性，镭雕效率高。

Description

一种镭雕方法、镭雕装置、电子设备和镭雕系统

技术领域

本申请涉及镭雕技术领域，特别涉及一种镭雕方法、镭雕装置、电子设备和镭雕系统。

背景技术

色差管控是三维镭雕过程中重点管控项目，由于基材表面有一定弧度，镭雕过程中需要根据表面弧度的变化，对应调整镭雕设备的激光功率，以补偿激光失焦导致的基材表面激光能量不足，导致不同位置镭雕产生色产差。因此镭雕功率的调整能否匹配基材表面弧度的变化，显得非常重要。

相关技术通过分字段法改善镭雕色差，即在基材表面人为的划分几个字区域，每个区域设置独立镭雕功率，然后进行镭雕实验，根据实际的镭雕结果调整每个区域的镭雕功率。此方法虽然最终可以实现镭雕色差的均一，但是过程中需要不断调整各字块的镭雕功率，甚至调整镭雕字块的数量，效率低下。

因此，如何提供一种解决上述技术问题的方案是本领域技术人员目前需要解决的问题。

发明内容

本申请的目的是提供一种镭雕方法、镭雕装置、电子设备和镭雕系统，能够提高镭雕效率。其具体方案如下：

本申请提供了一种镭雕方法，包括：

获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离；其中，所述距离传感器设置在所述镭雕激光头上；

根据所述第一距离和移动信息，确定控制信息；

根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量；其中，所述目标能量与基材对应。

优选地，当所述移动信息为所述镭雕激光头相对于基材水平移动时，所述根据所述第一距离和移动信息，确定控制信息，包括：

将所述第一距离与预设功率信息进行匹配，得到目标功率；其中，所述预设功率信息是基材表面与镭雕激光头的距离和所述镭雕激光头的功率的对应关系信息；

将所述目标功率确定为所述控制信息；

对应的，所述根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量，包括：

将所述镭雕激光头的功率设置为所述目标功率，控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为所述目标能量。

优选地，所述将所述第一距离与预设功率信息进行匹配，得到目标功率，包括：

从预设功率信息集中确定所述基材对应的所述预设功率信息；

根据所述第一距离与所述预设功率信息，得到所述目标功率。

优选地，所述预设功率信息的设置过程包括：

在所述镭雕激光头相对于基材水平移动时，当所述基材表面与所述镭雕激光头之间的垂直距离为测试距离时，调节所述镭雕激光头的功率；

控制所述镭雕激光头在测试功率下发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为所述目标能量；

记录所述测试距离和对应的测试功率；

对所有的所述测试距离与其对应的所述测试功率进行拟合，得到关系式，并将所述关系式确定为所述预设功率信息。

优选地，所述根据所述第一距离与所述预设功率信息，得到所述目标功率，包括：

根据所述第一距离得到所述基材表面与所述激光束的激光焦点之间的第二距离；

根据所述第二距离与所述预设功率信息，得到所述目标功率。

优选地，当所述移动信息为所述镭雕激光头相对于所述基材水平移动的同时还垂直移动时，所述根据所述第一距离和移动信息，确定控制信息，包括：

根据所述第一距离确定垂直移动距离；

将所述垂直移动距离确定为所述控制信息；

对应的，所述根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量，包括：

根据所述垂直移动距离移动所述镭雕激光头或所述基材；

控制移动后的所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为所述目标能量。

优选地，所述距离传感器为高度传感器。

本申请提供了一种镭雕装置，包括：

获取模块，用于获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离；其中，所述距离传感器设置在所述镭雕激光头上；

确定模块，用于根据所述第一距离和移动信息，确定控制信息；

控制模块，用于根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量；其中，所述目标能量与基材对应。

本申请提供了一种电子设备，包括：

存储器，用于存储计算机程序；

处理器，用于执行所述计算机程序时实现如上所述镭雕方法的步骤。

本申请提供了一种镭雕系统，包括：

基材；

镭雕激光器，包括镭雕激光头；

设置在所述镭雕激光头上的距离传感器；

如上所述的电子设备。

本申请提供一种镭雕方法，包括：获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离；其中，所述距离传感器设置在所述镭雕激光头上；根据所述第一距离和移动信息，确定控制信息；根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量；其中，所述目标能量与基材对应。

可见，本申请在镭雕激光头上设置距离传感器来采集基材表面与镭雕激光头的第一距离，然后根据第一距离和移动信息确定控制信息，能够通过第一距离进行控制信息的调整，并根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量，最终实现所有基材表面的激光能量一致，实现镭雕色差的均一性，镭雕效率高。

本申请同时还提供了一种镭雕装置、电子设备和镭雕系统，均具有上述有益效果，在此不再赘述。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例所提供的一种镭雕方法的流程图；

图2为本申请实施例提供的一种激光焦点位于基材表面的示意图；

图3为本申请实施例提供的一种激光焦点不位于基材表面的示意图；

图4为本申请实施例提供的一种不同位置激光的示意图；

图5为本申请实施例提供的一种预设功率信息对应的趋势图；

图6为本申请实施例所提供的一种镭雕装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

相关技术通过分字段法改善镭雕色差，即在基材表面人为的划分几个字区域，每个区域设置独立镭雕功率，然后进行镭雕实验，根据实际的镭雕结果调整每个区域的镭雕功率。此方法虽然最终可以实现镭雕色差的均一，但是过程中需要不断调整各字块的镭雕功率，甚至调整镭雕字块的数量，效率低下。

基于上述技术问题，本实施例提供一种镭雕方法，具体请参考图1，图1为本申请实施例所提供的一种镭雕方法的流程图，具体包括：

S101、获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离；其中，距离传感器设置在镭雕激光头上；

其中，基材表面一般具有一定的弧度，当镭雕激光头水平移动时，镭雕激光头发射的激光束的激光焦点与基材的距离会发生变化，请参考图2和图3，图2为本申请实施例提供的一种激光焦点位于基材表面的示意图，图3为本申请实施例提供的一种激光焦点不位于基材表面的示意图。可见，随着镭雕激光头与基材在水平方向相对移动时，如果功率不变，此时基材表面的激光能量会发生变化，出现色差。

在镭雕过程中，获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离。本实施例不对距离传感器进行限定，可以是红外传感器，还可以是激光传感器，还可以是高度传感器，只要是能够采集第一距离即可，用户可自定义设置。其中，基材表面一般具有一定的弧度，不同位置的基材表面与镭雕激光头的距离不同，基材表面为与镭雕激光头垂直对应的表面。距离传感器采集基材表面与镭雕激光头的第一距离，然后发送第一距离至电子设备，以便电子设备获取第一距离。

S102、根据第一距离和移动信息，确定控制信息；

其中，不同的移动信息对应的控制信息不同。

其中，当移动信息为镭雕激光头相对于基材水平移动时，控制信息为镭雕激光头的目标功率。具体的，包括基材固定不动且镭雕激光头水平移动、基材水平移动且镭雕激光头固定不动。

当移动信息为镭雕激光头相对于基材水平移动的同时还垂直移动时，控制信息镭雕激光头或基材的垂直移动距离。具体的，包括：基材固定不动时，镭雕激光头水平移动的同时垂直方向也移动；镭雕激光头固定不动时，基材水平移动的同时垂直方向移动；镭雕激光头水平方向移动，基材垂直方向移动；镭雕激光头垂直方向移动，基材水平方向移动。可以理解的是，此时，镭雕激光头发射的功率固定不变，相当于调整激光束的激光焦点与基材的距离。

S103、根据控制信息控制镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量；其中，目标能量与基材对应。

根据控制信息控制镭雕激光头发射对应的激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量；其中，在镭雕过程中，目标能量与基材对应，基材a对应目标能量a，基材b对应目标能量b，基材c对应目标能量c。

基于上述技术方案，本实施例在镭雕激光头上设置距离传感器来采集基材表面与镭雕激光头的第一距离，然后根据第一距离和移动信息确定控制信息，通过第一距离调整控制信息，并根据控制信息控制镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量，最终实现所有基材表面的激光能量一致，实现镭雕色差的均一性，镭雕效率高。

在一种可实现的实施方式中，为了在减少镭雕色差的同时，提高镭雕效率，本实施例中，当移动信息为镭雕激光头相对于基材水平移动时；

根据第一距离和移动信息，确定控制信息，包括：将第一距离与预设功率信息进行匹配，得到目标功率；其中，预设功率信息是基材表面与镭雕激光头的距离和镭雕激光头的功率的对应关系信息；将目标功率确定为控制信息；

对应的，根据控制信息控制镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量，包括：将镭雕激光头的功率设置为目标功率，控制镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量。

本实施例中中的镭雕激光头相对于基材水平移动为镭雕激光头固定，基材水平运动；或者镭雕激光头水平运动，基材固定的情况。本实施例第一距离和移动信息确定目标功率，也就是说不通的第一距离对应的目标功率不同。例如，第一距离a，对应目标功率a；第一距离b，对应目标功率b；第一距离c，对应目标功率c。也就是说，本实施例中根据第一距离的大小调整目标功率的大小，控制镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量。实现镭雕颜色的均一性，提高了镭雕效率。可见，本实施例在传统镭雕激光头上增设距离传感器，通过距离传感器计算出的第一距离，然后自动调整激光功率，补偿因激光脱焦造成的镭雕能量不足，最终实现镭雕色差的均一性。

进一步的，将第一距离与预设功率信息进行匹配，得到目标功率，包括：从预设功率信息集中确定基材对应的预设功率信息；根据第一距离与预设功率信息，得到目标功率。

其中，不同的基材对应的激光能量不同，因此，不同的基材对应的预设功率信息不同。系统内存储有多种基材对应的预设功率从信息集，本实施例从预设功率信息集中确定与基材对应的预设功率信息。可见，本实施例提供的技术方案可以应用多种基材，适用性高。

进一步的，预设功率信息的设置过程包括：在镭雕激光头相对于基材水平移动时，当基材表面与镭雕激光头之间的垂直距离为测试距离时，调节镭雕激光头的功率；控制镭雕激光头在测试功率下发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量；记录测试距离和对应的测试功率；对所有的测试距离与其对应的测试功率进行拟合，得到关系式，并将关系式确定为预设功率信息。

本实施例中控制镭雕激光头和基材相对水平移动，然后获取基材表面和镭雕激光头之间的垂直距离为测试距离时，调节镭雕激光头的功率，得到测试功率，实现在测试功率下发射激光束后，基材表面的激光能量为固定值，该固定值为目标能量，实现了在该基材表面的镭雕，记录下所有的测试距离和对应的测试功率，可以是形成表格的形式，将该表格作为预设功率信息；当然还可以是进行数据拟合得到关系式，然后将该关系式确定为预设功率信息，以便在实际应用中，将第一距离信息带入关系式，得到目标功率。其中，以表格的形式时，在实际应用中将第一距离与表格中的数据进行匹配，匹配成功后，则得到对应的目标功率，若匹配失败，则将与该第一距离最近的两个距离值对应的功率的平均值作为目标功率，具体本实施例不再进行赘述。

进一步的，根据第一距离与预设功率信息，得到目标功率，包括：根据第一距离得到基材表面与激光束的激光焦点之间的第二距离；根据第二距离与预设功率信息，得到目标功率。其中，第二距离为激光束的激光焦点与基材表面之间的距离。对应的预设功率信息为激光焦点与基材表面之间的距离和功率的对应关系信息。具体的请参考上述实施例，本实施例不再进行赘述。

综上可知，本实施例在传统镭雕激光头上增设距离传感器，通过距离传感器计算出基材表面和镭雕激光头或者激光焦点之间第一距离，并通过此第一距离自动调整激光功率，补偿因激光脱焦造成的镭雕能量不足，最终实现镭雕色差的均一性。

在另一种可实现的实施方式中，当移动信息为镭雕激光头相对于基材水平移动的同时还垂直移动时；

根据第一距离和移动信息，确定控制信息，包括：根据第一距离确定垂直移动距离；将垂直移动距离确定为控制信息；

对应的，根据控制信息控制镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量，包括：根据垂直移动距离移动镭雕激光头或基材；控制移动后的镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量。

其中，垂直移动距离与镭雕激光头的功率相关，只要使最终在基材表面的激光能量是目标能量即可。优选地，当移动垂直移动距离后，激光束的激光焦点在基材表面，此时节省量。请参考图4，图4为本申请实施例提供的一种不同位置激光的示意图。可以设置在第一功率下，激光焦点在基材表面的激光能量为目标能量，此时，在镭雕过程中，只需要按照垂直移动距离移动镭雕激光头，保证激光焦点在基材上即可保证镭雕色差的均一性。可以设置在第二功率下，距离激光焦点负距离时(负距离可以是-4mm或者-6mm)，只要按照垂直移动距离移动镭雕激光头，保证在基材在负距离的位置得到激光能量，该激光能量为目标能量。可以设置在第三功率下，距离激光焦点正距离时(正距离可以是+4mm或者+6mm)，只要按照垂直移动距离移动镭雕激光头，保证在基材在正距离的位置得到激光能量，该激光能量为目标能量。

本实施例中通过上下移动镭雕激光头，保证激光焦点设置在基材表面上，或者在整个镭雕过程中在基材表面上的激光能量均相等，补偿因激光脱焦造成的镭雕能量不足，最终实现镭雕色差的均一性。

基于上述任一实施例，本实施例提供一种具体的镭雕方法，本实施例在传统镭雕激光头上增加距离传感器，通过距离传感器计算出基材表面和激光焦点之间差值，并通过此差值自动调整激光功率，补偿因激光脱焦造成的镭雕能量不足，最终实现镭雕色差的均一性。

具体实现步骤如下：

1、通过调节激光的功率，实现激光不同位置达到相同的能量，记录激光位置和激光功率的匹配关系，进行拟合，得到关系式，该关系式对应图5所示的趋势图，图5为本申请实施例提供的一种预设功率信息对应的趋势图。横坐标为基材表面到激光焦点的距离，纵坐标为功率大小。通过此趋势图，如果在激光的任意位置想得到相同的能量，那么激光的功率应达到的值。

2、在激光镭雕的过程，根据距离传感器采集的第一距离，自动计算基材表面到激光焦点的距离；并根据步骤1拟合得到的关系式，得到的基材表面对应的发射的激光的目标功率。例如距离感应器计算得到，基材表面到激光焦点的距离为4mm，镭雕设备会自动匹配到功率14w(提高镭雕功率弥补基材不在焦点造成的能量损失)。

3、在基材不同位置即不同的基材表面，镭雕设备自动匹配目标功率，实现到达基材表面不同位置的激光能量相同，实现镭雕颜色的均一。

下面对本申请实施例提供的一种镭雕装置进行介绍，下文描述的镭雕装置与上文描述的镭雕方法可相互对应参照，参考图6，图6为本申请实施例所提供的一种镭雕装置的结构示意图，包括：

获取模块501，用于获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离；其中，距离传感器设置在镭雕激光头上；

确定模块502，用于根据第一距离和移动信息，确定控制信息；

控制模块503，用于根据控制信息控制镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量；其中，目标能量与基材对应。

优选的，当移动信息为镭雕激光头相对于基材水平移动时，确定模块502，包括：

匹配单元，用于将第一距离与预设功率信息进行匹配，得到目标功率；其中，预设功率信息是基材表面与镭雕激光头的距离和镭雕激光头的功率的对应关系信息；

确定单元，用于将目标功率确定为控制信息；

对应的，控制模块503，包括：

第一控制单元，用于将镭雕激光头的功率设置为目标功率，控制镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量。

优选的，匹配单元，包括：

确定子单元，用于从预设功率信息集中确定基材对应的预设功率信息；

目标功率获取子单元，用于根据第一距离与预设功率信息，得到目标功率。

优选的，还包括：

调节模块，用于在镭雕激光头相对于基材水平移动时，当基材表面与镭雕激光头之间的垂直距离为测试距离时，调节镭雕激光头的功率；

控制激光发射模块，用于控制镭雕激光头在测试功率下发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量；

记录模块，用于记录测试距离和对应的测试功率；

预设功率信息确定模块，用于对所有的测试距离与其对应的测试功率进行拟合，得到关系式，并将关系式确定为预设功率信息。

优选的，目标功率获取子单元，包括：

第二距离获得子单元，用于根据第一距离得到基材表面与激光束的激光焦点之间的第二距离；

目标功率获取子单元，用于根据第二距离与预设功率信息，得到目标功率。

优选的，当移动信息为镭雕激光头相对于基材水平移动的同时还垂直移动时，确定模块502，包括：

第一确定单元，用于根据第一距离确定垂直移动距离；

控制信息确定单元，用于将垂直移动距离确定为控制信息；

对应的，控制模块503，包括：

移动单元，用于根据垂直移动距离移动镭雕激光头或基材；

控制单元，用于控制移动后的镭雕激光头发射激光束，使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量。

优选的，距离传感器为高度传感器。

由于装置部分的实施例与方法部分的实施例相互对应，因此装置部分的实施例请参见方法部分的实施例的描述，这里暂不赘述。

下面对本申请实施例提供的一种电子设备进行介绍，下文描述的电子设备与上文描述的镭雕方法可相互对应参照。

本实施例提供一种电子设备，包括：

存储器，用于存储计算机程序；

处理器，用于执行计算机程序时实现如上述镭雕方法的步骤。

由于电子设备部分的实施例与镭雕方法部分的实施例相互对应，因此电子设备部分的实施例请参见镭雕方法部分的实施例的描述，这里暂不赘述。

下面对本申请实施例提供的一种镭雕系统进行介绍，下文描述的镭雕系统与上文描述的方法可相互对应参照。

本实施例提供一种镭雕系统，包括：

基材；

镭雕激光器，包括镭雕激光头；

设置在镭雕激光头上的距离传感器；

如上的电子设备。

由于镭雕系统部分的实施例与方法部分的实施例相互对应，因此镭雕系统部分的实施例请参见方法部分的实施例的描述，这里暂不赘述。

说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。

专业人员还可以进一步意识到，结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤，能够以电子硬件、计算机软件或者二者的结合来实现，为了清楚地说明硬件和软件的可互换性，在上述说明中已经按照功能一般性地描述了各示例的组成及步骤。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行，取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本申请的范围。

结合本文中所公开的实施例描述的方法或算法的步骤可以直接用硬件、处理器执行的软件模块，或者二者的结合来实施。软件模块可以置于随机存储器(RAM)、内存、只读存储器(ROM)、电可编程ROM、电可擦除可编程ROM、寄存器、硬盘、可移动磁盘、CD-ROM、或技术领域内所公知的任意其它形式的存储介质中。

以上对本申请所提供的一种镭雕方法、镭雕装置、电子设备和镭雕系统进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以对本申请进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本申请权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.一种镭雕方法，其特征在于，包括：

获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离；其中，所述距离传感器设置在所述镭雕激光头上；

根据所述第一距离和移动信息，确定控制信息；

根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量；其中，所述目标能量与基材对应。

2.根据权利要求1所述的镭雕方法，其特征在于，当所述移动信息为所述镭雕激光头相对于基材水平移动时，所述根据所述第一距离和移动信息，确定控制信息，包括：

将所述第一距离与预设功率信息进行匹配，得到目标功率；其中，所述预设功率信息是基材表面与镭雕激光头的距离和所述镭雕激光头的功率的对应关系信息；

将所述目标功率确定为所述控制信息；

对应的，所述根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量，包括：

将所述镭雕激光头的功率设置为所述目标功率，控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为所述目标能量。

3.根据权利要求2所述的镭雕方法，其特征在于，所述将所述第一距离与预设功率信息进行匹配，得到目标功率，包括：

从预设功率信息集中确定所述基材对应的所述预设功率信息；

根据所述第一距离与所述预设功率信息，得到所述目标功率。

4.根据权利要求3所述的镭雕方法，其特征在于，所述预设功率信息的设置过程包括：

在所述镭雕激光头相对于基材水平移动时，当所述基材表面与所述镭雕激光头之间的垂直距离为测试距离时，调节所述镭雕激光头的功率；

控制所述镭雕激光头在测试功率下发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为所述目标能量；

记录所述测试距离和对应的测试功率；

对所有的所述测试距离与其对应的所述测试功率进行拟合，得到关系式，并将所述关系式确定为所述预设功率信息。

5.根据权利要求3所述的镭雕方法，其特征在于，所述根据所述第一距离与所述预设功率信息，得到所述目标功率，包括：

根据所述第一距离得到所述基材表面与所述激光束的激光焦点之间的第二距离；

根据所述第二距离与所述预设功率信息，得到所述目标功率。

6.根据权利要求1所述的镭雕方法，其特征在于，当所述移动信息为所述镭雕激光头相对于所述基材水平移动的同时还垂直移动时，所述根据所述第一距离和移动信息，确定控制信息，包括：

根据所述第一距离确定垂直移动距离；

将所述垂直移动距离确定为所述控制信息；

对应的，所述根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量，包括：

根据所述垂直移动距离移动所述镭雕激光头或所述基材；

控制移动后的所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为所述目标能量。

7.根据权利要求1所述的镭雕方法，其特征在于，所述距离传感器为高度传感器。

8.一种镭雕装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离；其中，所述距离传感器设置在所述镭雕激光头上；

确定模块，用于根据所述第一距离和移动信息，确定控制信息；

控制模块，用于根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束，使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量；其中，所述目标能量与基材对应。

9.一种电子设备，其特征在于，包括：

存储器，用于存储计算机程序；

处理器，用于执行所述计算机程序时实现如权利要求1至7任一项所述镭雕方法的步骤。

10.一种镭雕系统，其特征在于，包括：

基材；

镭雕激光器，包括镭雕激光头；

设置在所述镭雕激光头上的距离传感器；

如权利要求9所述的电子设备。

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