CN211490109U - 一种激光三维蚀刻系统 - Google Patents

一种激光三维蚀刻系统 Download PDF

Info

Publication number
CN211490109U
CN211490109U CN201922347753.0U CN201922347753U CN211490109U CN 211490109 U CN211490109 U CN 211490109U CN 201922347753 U CN201922347753 U CN 201922347753U CN 211490109 U CN211490109 U CN 211490109U
Authority
CN
China
Prior art keywords
laser
etching
dimensional
electric control
computer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201922347753.0U
Other languages
English (en)
Inventor
齐飞
杜伟光
丁维书
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan Jiaming Laser Ltd By Share Ltd
Original Assignee
Wuhan Jiaming Laser Ltd By Share Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan Jiaming Laser Ltd By Share Ltd filed Critical Wuhan Jiaming Laser Ltd By Share Ltd
Priority to CN201922347753.0U priority Critical patent/CN211490109U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN211490109U publication Critical patent/CN211490109U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种激光三维蚀刻系统,包括计算机,用于控制光纤激光器、电控扩束镜、激光测距系统、同轴合束器、X‑Y振镜系统,同时用于蚀刻图形的处理。能自动生成蚀刻轨迹的三维数据,并完成三维蚀刻,能极大降低工件摆放时的精度要求,能极大降低对蚀刻目标的一致性要求。

Description

一种激光三维蚀刻系统
技术领域
本实用新型属于激光蚀刻领域,尤其涉及一种激光三维蚀刻系统。
背景技术
现有的激光三维蚀刻系统需要对工件的三维数字化模型进行处理,并且对工件摆放位置、工件一致性有很高精度的要求。而在工件摆放位置稍微移动或工件稍有不一致后,蚀刻效果就不好。
发明内容
为了克服上述现有技术的不足之处,本实用新型提供一种激光三维蚀刻系统,能自动生成蚀刻轨迹的三维数据,并完成三维蚀刻,能极大降低工件摆放时的精度要求,能极大降低对蚀刻目标的一致性要求。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:一种激光三维蚀刻系统,包括:
计算机,用于控制光纤激光器、电控扩束镜、激光测距系统、同轴合束器、X-Y振镜系统,同时用于蚀刻图形的处理;
光纤激光器,用于激光蚀刻的激光器,与电控扩束镜固定连接;
电控扩束镜,用于控制蚀刻激光焦距,与同轴合束器固定连接;
激光测距系统,用于测量工件与该系统的距离;
同轴合束器,用于将蚀刻激光和测距激光同轴合束,与X-Y振镜系统固定连接;
X-Y振镜系统,由上至下,呈90°依次布置的激光反射镜片;
其中,计算机分别与光纤激光器、电控扩束镜、激光测距系统、X-Y振镜系统连接。
本实用新型的有益效果是:该系统不需要三维蚀刻中对工件三维数据,极大降低工件摆放位置的精度要求;极大降低三维激光蚀刻对工件一致性的要求。
附图说明
图1为本实用新型的结构框图。
图2为本实用新型的结构示意图。
图3为本实用新型中数据采集的示意图。
图4为本实用新型激光蚀刻时的示意图。
其中:1、光纤激光器,2、电控扩束镜,3激光测距系统,4、同轴合束器,5、X-Y振镜系统(X),6、X-Y振镜系统(Y),7、工件。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步说明。
如图1、2所示的一种激光三维蚀刻系统,包括:
计算机,用于控制光纤激光器1、电控扩束镜2、激光测距系统3、同轴合束器4、X-Y振镜系统,同时用于蚀刻图形的处理;
光纤激光器1,用于激光蚀刻的激光器,与电控扩束镜2固定连接;
电控扩束镜2,用于控制蚀刻激光焦距,与同轴合束器固定连接;
激光测距系统3,用于测量工件7与该系统的距离;
同轴合束器4,用于将蚀刻激光和测距激光同轴合束,与X-Y振镜系统固定连接;
X-Y振镜系统,由上至下,呈90°依次布置的激光反射镜片,即X-Y振镜系统(X)5和X-Y振镜系统(Y)6;
其中,计算机分别与光纤激光器1、电控扩束镜2、激光测距系统3、X-Y振镜系统连接。
如图3、4所示的一种激光三维蚀刻方法,包括以下步骤:
1)通过计算机对蚀刻图形进行计算处理,并获得蚀刻平面的轨迹数据;
2)通过计算机确定X-Y振镜系统的运动控制程序;
3)通过计算机控制X-Y振镜系统完成平面轨迹运动,并启动高速激光测距系统开始采集轨迹上的距离数据;
4)通过计算机采集蚀刻二维轨迹上的实际距离数据;
5)通过计算机转换轨迹上的距离数据为高度数据并融合蚀刻二维轨迹和生成三维蚀刻轨迹并进行显示;
6)得到三维蚀刻轨迹后,通过计算机确定电控扩束镜的运动程序;
7)通过计算机确定X-Y振镜系统的运动控制程序;
8)通过计算机确定光纤激光器在蚀刻轨迹中的出光程序;
9)通过计算机控制光纤激光器、电控扩束镜、X-Y振镜系统完成对工件7三维蚀刻任务。
在上述技术方案中,步骤1、2中蚀刻图形处理为计算蚀刻轨迹的二维数据,确定X-Y振镜系统的运动控制程序。
在上述技术方案中,步骤3、4中对二维蚀刻轨迹进行距离数据的采集。
在上述技术方案中,步骤5中数据处理转换距离数据为高度数据并融合二维轨迹,确定三维蚀刻轨迹。
在上述技术方案中,步骤6、7、8、9中,通过计算机确定电控扩束镜的运动程序;确定X-Y振镜系统的运动控制程序;计算机控制光纤激光器、电控扩束镜、X-Y振镜系统完成对工件三维蚀刻任务。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (1)

1.一种激光三维蚀刻系统,其特征是:包括:
计算机,用于控制光纤激光器、电控扩束镜、激光测距系统、同轴合束器、X-Y振镜系统,同时用于蚀刻图形的处理;
光纤激光器,用于激光蚀刻的激光器,与电控扩束镜固定连接;
电控扩束镜,用于控制蚀刻激光焦距,与同轴合束器固定连接;
激光测距系统,用于测量工件与该系统的距离;
同轴合束器,用于将蚀刻激光和测距激光同轴合束,与X-Y振镜系统固定连接;
X-Y振镜系统,由上至下,呈90°依次布置的激光反射镜片;
其中,计算机分别与光纤激光器、电控扩束镜、激光测距系统、X-Y振镜系统连接。
CN201922347753.0U 2019-12-24 2019-12-24 一种激光三维蚀刻系统 Active CN211490109U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201922347753.0U CN211490109U (zh) 2019-12-24 2019-12-24 一种激光三维蚀刻系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201922347753.0U CN211490109U (zh) 2019-12-24 2019-12-24 一种激光三维蚀刻系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN211490109U true CN211490109U (zh) 2020-09-15

Family

ID=72418976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201922347753.0U Active CN211490109U (zh) 2019-12-24 2019-12-24 一种激光三维蚀刻系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN211490109U (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111098035A (zh) * 2019-12-24 2020-05-05 武汉嘉铭激光股份有限公司 一种激光三维蚀刻系统及蚀刻方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111098035A (zh) * 2019-12-24 2020-05-05 武汉嘉铭激光股份有限公司 一种激光三维蚀刻系统及蚀刻方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106271044B (zh) 激光打标机以及ccd同轴光路定位方法
CN103801838B (zh) 一种变线宽激光振镜扫描快速刻蚀方法
CN109702319B (zh) 用于大幅面激光加工的图形在线拼接方法
CN102151984A (zh) 一种适用于复杂曲面的激光加工方法及装置
CN105345256B (zh) 自动对中激光切割头
CN109240156A (zh) 一种针对激光雷达振镜伺服电机的控制系统及方法
CN101856773A (zh) 一种激光加工初始位置的对焦定位方法及激光加工装置
CN203124969U (zh) 基于自适应光学的激光微细加工设备
CN108127206B (zh) 一种激光钎焊工艺移植方法及可移植数据的激光钎焊装置
CN109332886B (zh) 一种无限幅面的激光加工方法及装置
CN101298116B (zh) 一种用于激光材料加工的非同轴定位方法
CN110449783B (zh) 一种机器人焊接装置及焊缝轨迹的获取方法
CN211490109U (zh) 一种激光三维蚀刻系统
CN109097797A (zh) 基于激光局部电镀的金属增材制造装置及方法
CN107945159B (zh) 一种光纤几何参数和衰减系数集成测试的自动化控制系统
CN105880828A (zh) 一种延迟振镜动作的激光打标系统及激光打标方法
CN201693290U (zh) 一种激光加工装置
CN113427133A (zh) 基于三维视觉在线测量引导自动加工的激光装备及方法
CN103100797A (zh) 基于自适应光学的激光微细加工设备和方法
CN113333942A (zh) 一种具备激光焦点自动对焦功能的加工头及其加工方法
CN205129178U (zh) 自动对中激光切割头
CN201371316Y (zh) 一种多功能激光加工系统
CN202438789U (zh) 一种振镜式三维激光模具型腔曲面蚀纹机
CN211102140U (zh) 一种激光自动对焦定位装置
CN111098035A (zh) 一种激光三维蚀刻系统及蚀刻方法

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant