CN112162424A - 显示装置及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示装置，包括一显示面板以及设置在所述显示面板上的一显示盖板，其中，所述显示盖板包括一基层，所述基层上设置有多个孔，一硬涂层设置于所述基层上，覆盖所述孔以及所述基层。在保持正常的出光性能的前提下，通过在所述基层上设置所述孔，可以增强所述基层与所述硬涂层的粘附力，从而提高所述显示盖板的硬度。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示装置及其制备方法。
背景技术
在显示技术领域中，各种终端产品层出不穷，为了兼顾柔性和硬度的要求，三星电子首次在产品Galaxy Z上使用超薄玻璃，但是三星在后续的机型可能会用到S-PEN，这会对柔性盖板的硬度提出更高的要求。
在相关技术中通常采用透明塑料膜加硬涂层的方案，但这种方案无法带来较好的使用体验，另外还有采用可弯折玻璃的方案以提升用户体验，但是可弯折玻璃需要将厚度做到很薄，由于玻璃本身脆性较大，随着玻璃厚度的下降和弯折性的提升，相关技术中可弯折玻璃的抗冲击性能也直线下降，屏幕在受到冲击时，容易产生破裂，不仅不抗摔，同时破碎的玻璃还有很大的安全隐患。
因此，现有技术存在缺陷，急需改进。
发明内容
本申请的目的在于提供一种显示装置及其制备方法，以解决现有技术中屏幕在受到冲击时，容易产生破裂的问题。
为了解决上述问题，本申请提供一种显示装置，包括一显示面板以及设置在所述显示面板上的一显示盖板，其中，所述显示盖板包括一基层，所述基层上设置有多个孔，一硬涂层设置于所述基层上，覆盖所述孔以及所述基层。
在一些实施例中，所述基层为超薄玻璃板。
在一些实施例中，所述孔的直径小于1纳米。
在一些实施例中，所述显示盖板的厚度在50微米至180微米之间。
在一些实施例中，所述硬涂层的硬度在4H至6H之间。
在一些实施例中，所述硬涂层的材料为透明无机物或硅氧烷。
在一些实施例中，所述显示面板包括一彩膜基板以及一阵列基板，其特征在于，所述彩膜基板与所述显示盖板接触。
在一些实施例中，所述彩膜基板包括色阻层以及围绕所述色阻层的黑色矩阵层；所述阵列基板包括设置于衬底上的发光层以及一触控金属层；其中，所述发光层与所述色组层对应设置；所述触控金属层在所述彩膜基板上的正投影正好落在所述黑色矩阵层内。
本申请还提供一种所述显示装置的制备方法，其特征在于，包括步骤：提供一显示面板；提供一基层，在所述基层表面用激光进行打孔，形成多个孔；在所述基层形成有多个所述孔的一侧表面沉积一硬涂层，以形成所述显示盖板；将所述显示面板与所述显示盖板对位贴合。
在一些实施例中，对所述基层表面用激光进行打孔前，所述显示装置的制备方法还包括步骤：对所述基层进行离子交换，使所述基层的表面得到化学强化。
综上，本申请公开了一种显示装置，包括一显示面板以及设置在所述显示面板上的一显示盖板，其中，所述显示盖板包括一基层，所述基层上设置有多个孔，一硬涂层设置于所述基层上，覆盖所述孔以及所述基层。在保持正常的出光性能的前提下，通过在所述基层上设置所述孔，可以增强所述基层与所述硬涂层的粘附力，从而提高所述显示盖板的硬度。
所述显示面板使用内置触控(DOT)和去偏光技术(POL-less)以达到降低面板厚度的目的。具体地，通过所述彩膜基板代替偏光片，为了增加光透过率，将所述发光层与所述色组层对应设置；并且所述触控金属层在所述彩膜基板上的正投影正好落在所述黑色矩阵层内，还可以遮挡住触控金属层中金属走线，从而提升所述显示面板的显示效果。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其他有益效果显而易见。
图1为本申请实施例所提供的一种显示装置的结构示意图。
图2为本申请实施例所提供的一种显示装置的制备流程示意图。
图3为本申请实施例所提供的一种显示装置的结构示意图。
图4为本申请实施例所提供的一种显示装置的制备流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
具体的，请参阅图1，图1为本申请实施例所提供的一种显示装置的结构示意图。本申请提供一种显示装置10，包括一显示面板200以及设置在所述显示面板200上的一显示盖板100，其特征在于，所述显示盖板100包括一基层110，所述基层110上设置有多个孔120，一硬涂层130设置于所述基层110上，覆盖所述孔120以及所述基层110。优选地，所述孔120阵列分布于所述基层110上，以使得所述硬涂层130与所述基层110之间的粘附力更强，并且均匀附着与所述基层110上。
在本申请中，优选地，所述基层110为超薄玻璃板(UTG)，定义所述超薄玻璃板(UTG)是将常规的玻璃盖板在成型时做到0.2mm以下时，使玻璃具备可以弯折的性能，适合用来作为折叠屏的盖板材料。本领域技术人员可以理解的是，所述基层110的厚度小于0.2mm，即复合所述超薄玻璃板(UTG)的定义即可，具体地，根据实际情况而定，本申请并不限定。
在本申请中，所述孔120的直径小于1nm，即所述孔120属于次纳米级别，优选地，所述孔的尺寸在0.1nm至1nm之间，例如：0.2nm、0.3nm、0.4nm、0.5nm、0.6nm、0.7nm、0.8nm、0.9nm等，但不限于此。本领域技术人员可以理解的是，所述孔120的尺寸不能过大，所述孔120的尺寸过大，会导致显示盖板100的透过率以及清晰度受到影响；所述孔120的尺寸也不能过小，所述孔120的尺寸过小，会降低所述硬涂层130与所述基层120之间的粘附力。
在本申请中，优选地，所述显示盖板100的厚度(所述显示盖板100的厚度为所述显示盖板100靠近所述显示面板200的一侧与所述所述显示盖板100远离所述显示面板200的一侧之间的垂直距离)在50um至180um之间。例如：60um、70um、80um、90um、100um、110um、120um、130um、140um、150um、160um、170um等，但不限于此。需要注意的是，本申请并不限定所述孔120的深度，应根据所述显示盖板100的厚度来合理选择，例如：当所述显示盖板100的厚度为100um，所述孔的深度可以是50um、60um、70um、80um、90um、100um等。优选地，所述所述孔120为盲孔，即所述孔120的深度小于所述显示盖板100的厚度。本领域技术人员可以理解的是，所述孔120还可以是通孔，并不以图1所示为限。
在本申请中，所述硬涂层130的硬度在4H至6H之间。优选地，所述硬涂层130的材料为透明无机物或硅氧烷。本领域技术人员可以理解的是，所述硬涂层130的材料还可以是其他材料，只要满足本申请所需硬度即可。
本申请还提供上述显示装置10的制备方法，具体请参阅图2，图2为本申请实施例所提供的一种显示装置10的制备流程示意图。本申请提供的所述显示装置10的制备方法，包括步骤：
步骤S1：提供一显示面板200；
步骤S2：提供一基层110，在所述基层110表面用激光进行打孔，形成多个孔120；
步骤S3：在所述基层110形成有多个所述孔120的一侧表面沉积一硬涂层130，以形成所述显示盖板100；
步骤S4：将所述显示面板200与所述显示盖板100对位贴合。
在一些实施例中，对所述基层110表面用激光进行打孔前，所述的显示装置10的制备方法，还包括步骤：对所述基层110进行离子交换，使所述基层110的表面得到化学强化。
在一些实施例中，对所述基层110形成有多个所述孔120的一侧表面沉积一硬涂层130后，所述的显示装置10的制备方法，还包括步骤：对所述显示盖板100进行离子交换，使所述显示盖板100的表面得到化学强化。
本领域技术人员可以理解的是，在本申请的所述显示装置中，所述显示面板200可以是已知的显示面板，并具有本领域中已知显示面板的常规结构。
作为一个非限定性的示范例，本申请提供的显示装置具体结构如图3所示。其中，所述显示面板200为一常规的TFT-LCD显示面板，并且，为了达到更好地减薄效果，在图3所示的显示面板200中采用了内置触控(DOT)和去偏光技术(POL-less)。本领域技术人员可以理解的是，所述去偏光技术是使用彩膜替代偏光片。因此，图3所示的显示面板200中仅设有彩膜基板210，并且所述触控金属层2219设置于所述彩膜基板210的下方。本领域技术人员可以理解的是，在其他实施例中，所述触控金属层2219也可以设置于所述彩膜基板210的上方。
此外，所述显示面板200也可以是OLED显示面板，并且在OLED显示面板与所述显示盖板100之间可以设置一常规的触控层，本文在此不再赘述。
具体地，请参阅图3，所述显示面板200包括一彩膜基板210以及一阵列基板220，所述彩膜基板210与所述显示盖板100接触。
所述彩膜基板210包括色阻层2101以及围绕所述色阻层2101的黑色矩阵层2102。所述阵列基板220包括依次形成在一衬底2201上的第一缓冲层2202、有源层2203、栅极绝缘层2204、第一栅极2205、第一间绝缘层2206、第二栅极2207、第二间绝缘层2208、源极/漏极2209、第一平坦层2210、阳极2211以及像素限定层2212。在所述像素限定层2212上设置有凹陷部2213，发光层2214设置于所述凹陷部2213内，一薄膜封装层2215覆盖所述发光层2214以及所述像素限定层2212，一第二平坦层2216覆盖所述薄膜封装层2215。在所述第二平坦层2216上还设置有一第二缓冲层2217，一绝缘层2218设置于所述第二缓冲层2217上。所述绝缘层2218上设置有一触控金属层2219，所述触控金属层2219与所述彩膜基板210接触，其中，所述发光层2214与所述色组层2101对应设置，即所述凹陷部2213在所述彩膜基板210上的正投影正好落在所述色组层2101内；所述触控金属层2219在所述彩膜基板210上的正投影正好落在所述黑色矩阵层2102内。
本领域技术人员可以理解的是，所述发光层2214可以是与所述薄膜封装层2215一样整面沉积于所述像素限定层2212上，此时，所述凹陷部2213内为有效发光区，所述薄膜封装层2215整面设置，可以延长水汽渗透的路径，提升封装效果。
其中，所述衬底可为聚酰亚胺(PI)、聚醚酰亚胺(PEI)，聚苯硫醚(PPS)，聚芳酯(PAR)等一种或几种的组合，所述衬底可以是透明的，也可以是非透明的。所述阵列基板层220可以使用非晶硅(a-Si)、低温多晶硅(LTPS)、氧化物半导体、碳纳米管(CNT)、石墨烯等作为有源层。其他膜层的材料均属于本领域常规材料，本申请不再赘述。
本申请提供的显示装置10可以是可穿戴设备如智能手环、智能手表、VR等设备、可折叠以及可卷曲OLED等柔性OLED显示及照明、电子书、电子报纸、手机、电脑和电视机等，本文不再赘述。
本领域技术人员可以理解的是，图3所示的显示面板200可以通过本领域常规的制程获得。因此，请参阅图4，本申请还提供如图4所示的显示装置10的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：
提供一衬底2201；
在所述衬底2201上沉积一第一缓冲层2202；
在所述第一缓冲层2203上沉积一有源层2203，并图案化形成相应图案；
在所述第一有源层2203上沉积一栅极绝缘层2204，覆盖所述第一缓冲层2203以及所述有源层2203；
在所述栅极绝缘层2204上沉积一第一栅极层，并图案化形成第一栅极2205；
在所述第一栅极2205上沉积一第一间绝缘层2206，覆盖所述栅极绝缘层2204以及所述第一栅极2205；
在所述第一间绝缘层2206上沉积一第二栅极层，并图案化形成第二栅极2207；
在所述第二栅极2207上沉积一第二间绝缘层2208，覆盖所述第一间绝缘层2206以及所述第二栅极2207；
在所述第二间绝缘层2208上沉积一源极/漏极金属层，并图案化形成源极/漏极2209；
在所述源极/漏极2209上沉积一第一平坦层2210，覆盖所述第二间绝缘层2208以及所述源极/漏极2209；
在所述第一平坦层2210上沉积一阳极层，并图案化形成阳极2211；
在所述阳极2211上沉积一像素限定层2212，并形成所述凹陷部2213；
在所述凹陷部2213内沉积发光层2214；
在所述发光层2214上沉积一薄膜封装层2215，覆盖所述像素限定层2212以及所述发光层2214；
在所述薄膜封装层2215上沉积一第二平坦层2216；
在所述第二平坦层2216上沉积一第二缓冲层2217；
在所述第二缓冲层2217上沉积一绝缘层2218；
在所述绝缘层2218上沉积一触控金属层2219；
提供一彩膜基板210；
将所述彩膜基板与所述触空金属层2219对位贴合；
提供一基层110；
在所述基层110表面用激光进行打孔，形成多个孔120；
在所述基层110形成有多个所述孔120的一侧表面沉积一硬涂层130，以形成所述显示盖板100。
其中，还包括对所述栅极绝缘层2204、第一间绝缘层2206以及第二间绝缘层2208进行图案化处理，形成过孔，以连通所述有源层2204与所述源极/漏极2209；对所述第一平坦层2210进行图案化处理，形成过孔，以连通所述源极/漏极2209以及所述阳极2211。
在一些实施例中，所述显示面板200包括至少2层衬底2201，每两层衬底之间设置有缓冲材料。
综上，本申请公开了一种显示装置10，包括一显示面板200以及设置在所述显示面板200上的一显示盖板100，其中，所述显示盖板100包括一基层110，所述基层110上设置有多个孔120，一硬涂层130设置于所述基层110上，覆盖所述孔120以及所述基层110。在保持正常的出光性能的前提下，通过在所述基层110上设置所述孔120，可以增强所述基层110与所述硬涂层130的粘附力，从而提高所述显示盖板100的硬度。
所述显示面板200使用内置触控(DOT)和去偏光技术(POL-less)以达到降低面板厚度的目的。具体地，通过所述彩膜基板210代替偏光片，为了增加光透过率，将所述发光层2214与所述色组层2101对应设置；并且所述触控金属层2219在所述彩膜基板210上的正投影正好落在所述黑色矩阵层2102内，还可以遮挡住触控金属层2102中金属走线，从而提升所述显示面板200的显示效果。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种显示装置10及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种显示装置，包括一显示面板以及设置在所述显示面板上的一显示盖板，其特征在于，所述显示盖板包括一基层，所述基层上设置有多个孔，一硬涂层设置于所述基层上，覆盖所述孔以及所述基层。
2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述基层为超薄玻璃板。
3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述孔的直径小于1纳米。
4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示盖板的厚度在50微米至180微米之间。
5.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述硬涂层的硬度在4H至6H之间。
6.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述硬涂层的材料为透明无机物或硅氧烷。
7.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示面板包括一彩膜基板以及一阵列基板，其特征在于，所述彩膜基板与所述显示盖板接触。
8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述彩膜基板包括色阻层以及围绕所述色阻层的黑色矩阵层；所述阵列基板包括设置于衬底上的发光层以及一触控金属层；其中，
所述发光层与所述色组层对应设置；
所述触控金属层在所述彩膜基板上的正投影正好落在所述黑色矩阵层内。
9.一种如权利要求1所述的显示装置的制备方法，其特征在于，包括步骤：
提供一显示面板；
提供一基层，在所述基层表面用激光进行打孔，形成多个孔；
在所述基层形成有多个所述孔的一侧表面沉积一硬涂层，以形成所述显示盖板；
将所述显示面板与所述显示盖板对位贴合。
10.如权利要求9所述的显示装置的制备方法，其特征在于，对所述基层表面用激光进行打孔前，包括步骤：
对所述基层进行离子交换，使所述基层的表面得到化学强化。
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|---|---|---|---|
| CN202011100594.5A CN112162424A (zh) | 2020-10-15 | 2020-10-15 | 显示装置及其制备方法 |
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2020
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