CN112103319A - 显示面板、显示装置及显示面板的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板、显示装置及显示面板的制造方法。该显示面板包括多个显示单元、多个连接单元和多个镂空单元，各显示单元之间设置镂空单元，各显示单元通过连接单元互相连接，连接单元包括依次设置的基板、第一有机层、金属层、第二有机层。根据本申请实施例提供的技术方案，通过减薄或去掉连接单元的无机层，能够解决现有拉伸显示面板中因无机层的裂痕带来的金属层引线断裂的问题。
Description
技术领域
本公开一般涉及显示技术领域，尤其涉及显示面板、显示装置及显示面板的制造方法。
背景技术
当前可弯曲、可折叠的OLED柔性显示装置备受关注，特别是，可改变形状的可拉伸显示装置是未来显示技术的一个发展方向。
在显示器件中的无机封装层虽具有一定的弯折性，但可拉伸量都是及其有限的。直接进行拉伸，则用于封装的无机层、有机层、及衬底、电路等将发生破碎或者不可逆的变形。
通过基板镂空释放拉伸时的应变量，是制作拉伸显示的一种方法，通过镂空基板虽然可以将拉伸时应力集中在连接单元上方，但应力集中位置的无机层会先产生裂痕，并且裂痕随着拉伸量的增加而不断扩大，最终会导致金属引线断裂，导致器件失效。因此如何避免拉伸引起金属引线断裂问题，是亟待需要解决的技术问题。
发明内容
本发明人的主要目的在于提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制造方法，以实现拉伸引发的拉伸显示面板的金属引线断裂问题。
第一方面，提供一种显示面板，包括多个显示单元、多个连接单元和多个镂空单元，各显示单元之间设置镂空单元，各显示单元通过连接单元互相连接，连接单元包括依次设置的基板、第一有机层、金属层、第二有机层。
在一些实施例中，连接单元的第二有机层上设置有第一无机层；
显示单元包括依次设置的基板、背板、电致发光器件层、第一无机层；
连接单元的第一无机层的厚度小于显示单元的第一无机层的厚度。
在一些实施例中，背板包括依次设置的阻隔层、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、第一栅极层、第二栅极绝缘层、第二栅极层、介电层；
连接单元的第一有机层的表面高度不高于显示单元的介电层的表面高度；
连接单元第一有机层的表面为过渡面，过渡面从连接单元第一有机层的表面平缓上升至显示单元的介电层的表面相等的高度。
在一些实施例中，背板包括依次设置的基板、阻隔层、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、第一栅极层、第二栅极绝缘层、第二栅极层、介电层；
连接单元的第一有机层的表面高度不高于显示单元的介电层的表面高度；
连接单元第一有机层的表面为过渡面，过渡面从连接单元第一有机层的表面平缓上升并延伸至显示单元的介电层的部分表面的上方。
在一些实施例中，显示单元的电致发光器件层与第一无机层之间设置有附加无机层，附加无机层的表面设置有多个凹陷。
在一些实施例中，连接单元的第一无机层和显示单元的第一无机层采用相同的材料，为氧化硅、或为氮化硅、或为氮氧化硅。
在一些实施例中，连接单元的第一有机层和第二有机层的材料为如下几种聚合物的一种或多种的混合物：聚甲基丙烯酸甲酯和聚苯乙烯的聚合物、苯酚基团的聚合物及衍生物，亚克力聚合物、对二甲苯的聚合物、芳醚的聚合物、酰胺的聚合物、氟化物的聚合物、乙烯醇的聚合物。
第二方面、提供一种显示装置，包括本申请各实施例所提供的显示面板。
第三方面、提供一种显示面板的制造方法，显示面板包括显示区域、连接区域和镂空区域，方法包括如下步骤：
依次形成基板、背板；
刻蚀镂空区域和连接区域的背板；
在镂空区域和连接区域形成第一有机层，第一有机层的高度不高于介电层的高度；
在显示区域和连接区域形成金属层；
在镂空区域和连接区域形成第二有机层；
在显示区域形成附加无机层；
在显示区域形成电致发光器件层；
整层形成第一无机层；
在连接区域刻蚀部分或全部的第一无机层，使得连接区域的第一无机层变薄；
刻蚀镂空区域的包括基板的各膜层。
第四方面、提供一种显示面板的制造方法，显示面板包括显示区域、连接区域和镂空区域，方法包括如下步骤：
依次形成基板、背板；
刻蚀镂空区域和连接区域的背板；
在镂空区域和连接区域形成第一有机层，第一有机层的高度不高于介电层的高度；
在显示区域和连接区域形成金属层；
在镂空区域和连接区域形成第二有机层；
在显示区域形成附加无机层；
刻蚀镂空区域包括基板的各膜层；
在显示区域形成电致发光器件层；
在显示区域和连接区域形成第一无机层；
刻蚀连接区域的部分或全部的第一无机层，使得连接区域的第一无机层变薄。
根据本申请实施例提供的技术方案，通过减薄或去掉连接单元的无机层，能够解决现有拉伸显示面板中因无机层的裂痕带来的金属层引线断裂的问题。进一步的，根据本申请的某些实施例，通过将连接单元第一有机层的表面设置成平滑的过渡面，还能解决连接单元的第一有几层与显示单元的介电层之间的阶梯式段差带来的金属走线容易断裂的问题，获得稳定的显示的效果。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1示出了根据本申请实施例的显示面板的示例性结构框图；
图2示出了图1沿A-A'线的横截面的示意图；
图3示出了图1沿A-A'线的横截面的另一示意图；
图4示出了图1沿A-A'线的横截面的又一示意图；
图5示出了根据本申请实施例的显示面板的制造方法的示例性流程图；
图6至图15示出了根据图5中显示面板的制造方法的的具体示例性示意图；
图16示出了根据本申请另一实施例的显示面板的制造方法的示例性流程图；
图17至图19示出了根据图16中显示面板的制造方法的的具体示例性示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
请参考图1，示出了根据本申请实施例的显示面板的示例性结构框图。
如图1所示，显示面板包括多个显示单元11、多个连接单元13和多个镂空单元12，各显示单元11之间设置镂空单元12，各显示单元11通过连接单元13互相连接。数据信号、扫描信号等，通过连接单元传输到对应显示单元。其中，显示单元和连接单元中均包括无机层。
显示面板中无机层虽具有一定的弯折性，可拉伸量极其有限，如果直接进行拉伸，则用于封装的无机层、有机层、及衬底、电路引线等会发生破碎或者不可逆的变形。
镂空单元可以释放一定的拉伸的应变量，但存在其局限性。例如，通过镂空单元将拉伸时的应力集中在连接单元上，应力集中位置的无机层将会产生裂痕，裂痕随着拉伸量的增加而不断扩大最终导致金属引线的断裂，从而引起器件失效。尤其是连接单元与显示单元的连接处15，较容易发生金属引线断裂的现象。因此如何防止无机层裂痕引发的金属引线断裂，可拉伸显示装置亟需解决的技术问题。
为了解决上述技术问题，并申请提供如下显示面板。
图2示出了图1沿A-A'线的横截面的示意图。显示面板包括连接区域D1、镂空区域D2、显示区域D3。其中，连接单元13包括依次设置的基板101、第一有机层202、金属层203、第二有机层204。
无机层是引发金属引线断裂的影响因素，因此，通过去掉连接单元的无机层改善了无机层带来的金属引线断裂的问题。
图3示出了图1沿A-A'线的横截面的另一示意图。在一些实施例中，连接单元13的第二有机层204上设置有第一无机层205；
显示单元11包括依次设置的基板101、背板21、电致发光器件层22、第一无机层116；
连接单元13的第一无机层205的厚度小于显示单元11的第一无机层116的厚度。
需要说明的是，其中连接单元13的第一无机层205和显示单元11的第一无机层116可以采用相同材料相同工艺制造，本申请为了说明的便利以不同标号进行区分。在连接单元13设置薄层的第一无机层205，不仅可以提高封装效果，还可以改善无机层裂痕带来的金属引线断裂的问题。
在一些实施例中，背板21包括依次设置的阻隔层102、缓冲层103、有源层104、第一栅极绝缘层105、第一栅极层106、第二栅极绝缘层107、第二栅极层108、介电层109；
连接单元的第一有机层202的表面高度不高于显示单元的介电层109的表面高度；
连接单元第一有机层的表面为过渡面202-1，过渡面202-1从连接单元第一有机层的表面平缓上升至显示单元的介电层的表面相等的高度。
如图2或图3所示，在连接单元13与显示单元11的连接处为了防止连接单元13第一无机层205与显示单元11介电层109之间的段差引起的金属层203的断裂，将第一无机层205的表面设置为过渡面202-1，该过渡面202-1平缓上升在连接单元13与显示单元11的连接处与介电层109的表面高度相等，从而消除了第一无机层205与介电层109之间的阶梯式的段差引起的金属层203断裂问题。
另外，连接单元的第一有机层202的表面高度不高于显示单元的介电层109的表面高度，能够适当增加第二有机层的厚度，使得金属层203获得更好的保护。
如图4所示，在一些实施例中，背板21包括依次设置的阻隔层102、缓冲层103、有源层104、第一栅极绝缘层105、第一栅极层106、第二栅极绝缘层107、第二栅极层108、介电层109；
连接单元的第一有机层202的表面高度不高于显示单元的介电层109的表面高度；
连接单元13第一有机层202的表面为过渡面202-1，过渡面202-1从连接单元第一有机层202的表面平缓上升并延伸至显示单元的介电层109的部分表面的上方。
此时，过渡面202-1的高度高于介电层109的高度，金属层203从第一有机层202通过过渡面202-1平缓过渡到介电层109，消除了第一无机层205与介电层109之间的阶梯式的段差。延伸至介电层109的部分表面过渡面202-1的覆盖范围可根据需要进行设定，这里不做限定。
在一些实施例中，显示单元的电致发光器件层22与第一无机层116之间设置有附加无机层113，附加无机层113的表面设置有多个凹陷113-1。凹陷113-1的设置，增加了附加无机层113与第一无机层的之间的接触面积，提高了封装的信赖度，从而改善了封装质量。附加无机层113课采用氮化硅材料。
在一些实施例中，连接单元的第一无机层116和显示单元的第一无机层205采用相同的材料，为氧化硅、或为氮化硅、或为氮氧化硅。其工艺过程详见显示面板的制作方法的相关内容。
连接单元的第一有机层202和第二有机层204的材料为如下几种聚合物的一种或多种的混合物：聚甲基丙烯酸甲酯和聚苯乙烯的聚合物、苯酚基团的聚合物及衍生物，亚克力聚合物、对二甲苯的聚合物、芳醚的聚合物、酰胺的聚合物、氟化物的聚合物、乙烯醇的聚合物。
本申请提供一种显示装置，该显示装置包括本申请各实施例所提供的显示面板。
本申请还提供一种显示面板的制造方法。
图5示出了显示面板的制造方法的示例性流程图。显示面板包括显示区域、连接区域和镂空区域，方法包括如下步骤：
步骤S101：依次形成基板、背板；
步骤S102：刻蚀镂空区域和连接区域的背板；
步骤S103：在镂空区域和连接区域形成第一有机层，第一有机层的高度不高于介电层的高度；
步骤S104：在显示区域和连接区域形成金属层；
步骤S105：在镂空区域和连接区域形成第二有机层；
步骤S106：在显示区域形成附加无机层；
步骤S107：在显示区域形成电致发光器件层；
步骤S108：整层形成第一无机层；
步骤S109：在连接区域刻蚀部分或全部的第一无机层，使得连接区域的第一无机层变薄；
步骤S110：刻蚀镂空区域的包括基板的各膜层。
下面以图3的显示面板的制造方法为例，结合图6至图15进行详细说明。可以理解的是，图2和图4的显示面板的制造方法与图3的显示面板采用相同的制造方法制造。
步骤S101，如图6所示，依次形成基板101、背板21，该背板包括：阻隔层102、缓冲层103、有源层104、第一栅极绝缘层105、第一栅极层106、第二栅极绝缘层107、第二栅极层108、介电层109。可以理解的是，背板的结构不局限于此，可以根据需要采用其他结构，这里不做限定。
步骤S102，如图7所示，刻蚀镂空区域D2和连接区域D1的背板，保留显示区域D3的背板。需要说明的是，背板的刻蚀通过一次刻蚀实现，或者通过多次刻蚀实现。这里不做限定，根据背板的结构特点进行刻蚀的次数的设定。
步骤S103，如图8所示，在镂空区域D2和连接区域D1形成第一有机层202，第一有机层202的高度不高于介电层109的高度。
步骤S104，如图9和10所示，在显示区域和连接区域图案化形成金属层115和金属层203。其中，图9给出制造金属层至有源层之间的过孔119的制造步骤。该金属层115或金属层203的材料可以为Ti(钛)、Al(铝)、Mo(钼)、Ag(银)等导电金属；或者ITO(铟锡氧化物)、IZO(铟锌氧化物)、ZnO(氧化锌)、In2O3(氧化铟)、IGO(铟镓氧化物)、AZO(偶氮化合物)等导电氧化物；或者混有导电颗粒的橡胶等具有高延展性的导电材料，碳纳米管等。需要说明的是，显示区域的金属层115和连接区域的金属层203可同时形成，为了结构说明的便利以不同的标号进行区分。
步骤S105，如图11所示，在镂空区域和连接区域形成第二有机层204。该第二有机层204的材料可与第一有机层202的材料相同或不同，这里不做限定，可根据需求进行选择。
步骤S106，如图12所示，在显示区域形成附加无机层113。图案化形成附加无机层113时，可保留连接单元的附加无机层113或者去除连接单元的附加无机层113。本实施例中的连接单元无附加无机层113。
步骤S107，如图13所示，在显示区域形成电致发光器件层22，电致发光器件层包括平坦层111、像素定义层117、第一电极112、发光层113、第二电极114。
步骤S108，如图14所示，整层形成第一无机层116。第一无机层116用于封装显示面板。可以理解的是，显示区域的第一无机层116上还可以设置有机层、第二无机层来进一步提高封装效果。
步骤S109，如图15所示，在连接区域刻蚀部分或全部的第一无机层，使得连接区域的第一无机层变薄。205为连接单元上方减薄的116无机封装层。拉伸时205的减薄可以减小205断裂对其下方203金属层的影响，提高拉伸率。
步骤S110，如图3所示，通过刻蚀镂空区域的包括基板的各膜层，形成图3的显示面板。或者在步骤S109中，刻蚀掉全部的第一无机层后，通过步骤S110的刻蚀镂空区域的包括基板的各膜层，形成图2的显示面板。
本申请还提供一种显示面板的另一种制造方法。
图16示出了显示面板的制造方法的示例性流程图。显示面板包括显示区域、连接区域和镂空区域，方法包括如下步骤：
步骤S201：依次形成基板、背板；
步骤S202：刻蚀镂空区域和连接区域的背板；
步骤S203：在镂空区域和连接区域形成第一有机层，第一有机层的高度不高于介电层的高度；
步骤S204：在显示区域和连接区域形成金属层；
步骤S205：在镂空区域和连接区域形成第二有机层；
步骤S206：在显示区域形成附加无机层；
步骤S207：刻蚀镂空区域包括基板的各膜层；
步骤S208：在显示区域形成电致发光器件层；
步骤S209：在显示区域和连接区域形成第一无机层；
步骤S210：刻蚀连接区域的部分或全部的第一无机层，使得连接区域的第一无机层变薄。
下面以图3的显示面板为例，结合图6至图12、以及图17至图19进行详细说明。
步骤S201，如图6所示，依次形成基板101、背板21，该背板包括：阻隔层102、缓冲层103、有源层104、第一栅极绝缘层105、第一栅极层106、第二栅极绝缘层107、第二栅极层108、介电层109。可以理解的是，背板的结构不局限于此，可以根据需要采用其他结构，这里不做限定。
步骤S202，如图7所示，刻蚀镂空区域D2和连接区域D1的背板，保留显示区域D3的背板。需要说明的是，背板的刻蚀可一次刻蚀，或者分多次刻蚀。这里不做限定，根据背板的结构特点进行刻蚀的次数。
步骤S203，如图8所示，在镂空区域D2和连接区域D1形成第一有机层202，第一有机层202的高度不高于介电层109的高度。
步骤S204，如图9和10所示，在显示区域和连接区域图案化形成金属层115和金属层203。其中，图9给出制造金属层至有源层之间的过孔119的步骤。该金属层115和金属层203的材料可以为Ti、Al(铝)、Mo(钼)、Ag(银)等导电金属；或者ITO(铟锡氧化物)、IZO、ZnO(氧化锌)、In2O3(氧化铟)、IGO、AZO(偶氮化合物)等导电氧化物；或者混有导电颗粒的橡胶等具有高延展性的导电材料，碳纳米管等。需要说明的是，显示区域的金属层115和连接区域的金属层203可同时形成，为了结构说明的便利以不同的标号进行区域的区分。
步骤S205，如图11所示，在镂空区域和连接区域形成第二有机层204。该第二有机层204的材料可与第一有机层202的材料相同或不同，这里不做限定，可根据需求进行选择。
步骤S206，如图12所示，在显示区域形成附加无机层113。图案化形成附加无机层113时，可保留连接单元的附加无机层113或者去除连接单元的附加无机层。
步骤S207，如图17所示，刻蚀镂空区域包括基板的各膜层。
步骤S208，如图18所示，在显示区域形成电致发光器件层。电致发光器件层包括平坦层111、像素定义层117、第一电极112、发光层113、第二电极114。
步骤S209，如图19所示，在显示区域和连接区域形成第一无机层。可以理解的是，显示区域的第一无机层116上还可以设置有机层、第二无机层来进一步提高封装效果。
步骤S210，如图3所示，通过刻蚀连接区域的部分或全部的第一无机层，使得连接区域的第一无机层变薄。形成图3的显示面板。或者在步骤S210中，刻蚀掉全部的第一无机层后形成图2的显示面板。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，包括多个显示单元、多个连接单元和多个镂空单元，各显示单元之间设置镂空单元，各显示单元通过连接单元互相连接，所述连接单元包括依次设置的基板、第一有机层、金属层、第二有机层。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述连接单元的第二有机层上设置有第一无机层；
所述显示单元包括依次设置的基板、背板、电致发光器件层、第一无机层；
所述连接单元的第一无机层的厚度小于所述显示单元的第一无机层的厚度。
3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述背板包括依次设置的阻隔层、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、第一栅极层、第二栅极绝缘层、第二栅极层、介电层；
所述连接单元的第一有机层的表面高度不高于所述显示单元的介电层的表面高度；
所述连接单元第一有机层的表面为过渡面，所述过渡面从所述连接单元第一有机层的表面平缓上升至所述显示单元的介电层的表面相等的高度。
4.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述背板包括依次设置的基板、阻隔层、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、第一栅极层、第二栅极绝缘层、第二栅极层、介电层；
所述连接单元的第一有机层的表面高度不高于所述显示单元的介电层的表面高度；
所述连接单元第一有机层的表面为过渡面，所述过渡面从所述连接单元第一有机层的表面平缓上升并延伸至所述显示单元的介电层的部分表面的上方。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示单元的电致发光器件层与第一无机层之间设置有附加无机层，所述附加无机层的表面设置有多个凹陷。
6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述连接单元的第一无机层和所述显示单元的第一无机层采用相同的材料，为氧化硅、或为氮化硅、或为氮氧化硅。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，连接单元的所述第一有机层和第二有机层的材料为如下几种聚合物的一种或多种的混合物：聚甲基丙烯酸甲酯和聚苯乙烯的聚合物、苯酚基团的聚合物及衍生物，亚克力聚合物、对二甲苯的聚合物、芳醚的聚合物、酰胺的聚合物、氟化物的聚合物、乙烯醇的聚合物。
8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至7任一所述的显示面板。
9.一种显示面板的制造方法，所述显示面板包括显示区域、连接区域和镂空区域，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
依次形成基板、背板；
刻蚀所述镂空区域和所述连接区域的所述背板；
在所述镂空区域和所述连接区域形成第一有机层，所述第一有机层的高度不高于所述介电层的高度；
在所述显示区域和所述连接区域形成金属层；
在所述镂空区域和所述连接区域形成第二有机层；
在所述显示区域形成附加无机层；
在所述显示区域形成电致发光器件层；
整层形成第一无机层；
在所述连接区域刻蚀部分或全部的所述第一无机层，使得所述连接区域的所述第一无机层变薄；
刻蚀镂空区域的包括基板的各膜层。
10.一种显示面板的制造方法，所述显示面板包括显示区域、连接区域和镂空区域，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
依次形成基板、背板；
刻蚀所述镂空区域和所述连接区域的背板；
在所述镂空区域和所述连接区域形成第一有机层，所述第一有机层的高度不高于所述介电层的高度；
在所述显示区域和所述连接区域形成金属层；
在所述镂空区域和所述连接区域形成第二有机层；
在所述显示区域形成附加无机层；
刻蚀镂空区域包括基板的各膜层；
在所述显示区域形成电致发光器件层；
在所述显示区域和所述连接区域形成第一无机层；
刻蚀所述连接区域的部分或全部的所述第一无机层，使得所述连接区域的所述第一无机层变薄。
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