CN112099140B - 出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备 - Google Patents

出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备 Download PDF

Info

Publication number
CN112099140B
CN112099140B CN202011181683.7A CN202011181683A CN112099140B CN 112099140 B CN112099140 B CN 112099140B CN 202011181683 A CN202011181683 A CN 202011181683A CN 112099140 B CN112099140 B CN 112099140B
Authority
CN
China
Prior art keywords
refractive index
diffraction grating
grating
coupling
brightness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202011181683.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112099140A (zh
Inventor
彭旭
赵东峰
董立超
杜凯凯
刘宝山
刘艺
朱春霖
艾立夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Goertek Optical Technology Co Ltd
Original Assignee
Goertek Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Goertek Inc filed Critical Goertek Inc
Priority to CN202011181683.7A priority Critical patent/CN112099140B/zh
Publication of CN112099140A publication Critical patent/CN112099140A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112099140B publication Critical patent/CN112099140B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/124—Geodesic lenses or integrated gratings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/01—Head-up displays
    • G02B27/017—Head mounted
    • G02B27/0172—Head mounted characterised by optical features
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1847—Manufacturing methods
    • G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams

Abstract

本发明提供了一种出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备，包括玻璃基底、耦出光栅和耦入光栅，所述耦出光栅为折射率渐变光栅，通过不同耦出区域的折射率渐变光栅的折射率变化提高耦出光线亮度的均匀性。上述衍射光波导及方法、头戴显示设备在不改变光栅设计参数的前提下，使光波导耦出光线亮度均匀。

Description

出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备
技术领域
本发明涉及光学成像技术领域，更为具体地，涉及一种出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备。
背景技术
现有的衍射光波导结构光路，较多运用到的是表面浮雕光栅(Surfacereliefgrating，SRG)。表面浮雕光栅通常在基底上划刻光栅结构或者采用光刻的方式压印光栅结构，分为一维光栅和二维光栅。但是二者都是均匀光栅，光栅常数和光栅深度都是相同的，由于其自身的特性，在耦出耦出区域的光线能量会沿着光线在光波导内部的传播方向(扩瞳方向)越来越低，导致出射的光线亮度不均匀，人眼就会看到一个明暗不同的图案，如图1所示，衍射光波导10耦出区域图像沿扩瞳方向亮度变化明显，图中上方圆点表示图像，明暗代表出射光线亮度大小。
目前，改善这种亮度不均匀性的方法主要有两种：一是改变光栅深度，使不同耦出区域的深度不同。但是这种光栅难以设计，并且很难加工，没有量产的可行性；二是改变光栅周期，但是这种方法的改善效果有限。
发明内容
鉴于上述问题，本发明的目的是提供一种提高出射亮度均匀性的出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备。
根据本发明的一个方面，提供一种出射亮度均匀的衍射光波导，包括玻璃基底、耦出光栅和耦入光栅，所述耦出光栅为折射率渐变光栅，通过不同耦出区域的折射率渐变光栅的折射率变化提高耦出光线亮度的均匀性。
优选地，所述折射率渐变光栅通过相变材料获得，将相变材料作为光刻材料涂覆在玻璃基底上，利用光刻方式在相变材料上压印衍射光栅，使得衍射光栅的折射率随温度变化发生渐变。
进一步，优选地，所述相变材料包括Ge2Sb2Te5。
根据本发明的另一个方面，提供一种头戴显示设备，上述衍射光波导。
根据本发明的第三个方面，提供一种出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法，包括：
采用相变材料作为光刻材料，涂覆在玻璃基底上，形成相变材料薄膜；
利用光刻的方式，在相变材料薄膜上压印衍射光栅；
使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化。
优选地，所述使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化的步骤包括：
通过加热方式使得衍射光栅的折射率随温度按照耦出区域亮度变化阶梯变化。
进一步，优选地，所述加热方式包括：
通过制热板加热的方式，使得制热板加热衍射光栅，使得衍射光栅沿扩瞳方向温度从高到低，从而使得衍射光栅的折射率沿扩瞳方向从小到大，衍射光栅的折射率越小，耦出光栅亮度越小。
优选地，所述使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化的步骤包括：
通过激光照射方式使得衍射光栅的折射率随温度按照耦出区域亮度变化阶梯变化。
优选地，所述使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化的步骤包括：
通过电激励的方式使得衍射光栅的折射率随温度按照耦出区域亮度变化阶梯变化。
根据本发明的第四个方面，提供一种出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法，包括：
获得相变材料；
将所述相变材料涂覆在玻璃基底上，形成相变材料薄膜；
利用光刻的方式，在相变材料薄膜上压印衍射光栅，此时衍射光栅的折射率均匀；
获得衍射光栅的折射率随温度变化的第一曲线，相变材料随着温度的不同在非晶态和晶态之间变化，相变材料的折射率也随着温度的变化而变化，从而衍射光栅的折射率也随着温度的变化而变化，所述第一曲线通过曲线拟合的方式预先通过实验获得；
获得压印衍射光栅后衍射光波导的耦出区域的亮度变化的第二曲线；
通过第二曲线获得使得出射光线亮度均匀的沿扩瞳方向不同耦出区域的折射率变化的第三曲线；
通过第三曲线和第一曲线，获得不同耦出区域的温度变化的第四曲线；
通过第四曲线采用用通过加热方式、激光照射方式或/和电激励方式控制衍射光栅的不同耦出区域的温度，获得折射率渐变光栅。
上述出射亮度均匀的衍射光波导及其制造方法、头戴显示设备改变衍射波导中耦出区域的衍射光栅的折射率，使其在扩瞳方向产生折射率梯度变化，从而使耦出区域的光线亮度均匀，具有价格低廉、工艺难度低、适合量产的特点。
为了实现上述以及相关目的，本发明的一个或多个方面包括后面将详细说明特别指出的特征。下面的说明以及附图详细说明了本发明的某些示例性方面。然而，这些方面指示的仅仅是可使用本发明的原理的各种方式中的一些方式。此外，本发明旨在包括所有这些方面以及它们的等同物。
附图说明
通过参考以下结合附图的说明内容，并且随着对本发明的更全面理解，本发明的其它目的及结果将更加明白及易于理解。在附图中：
图1是衍射光波导不同耦出区域的图像亮度示意图；
图2是本发明所述出射亮度均匀的衍射光波导的示意图；
图3是本发明所述出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法的流程示意图；
图4是本发明所述出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法的一个实施例的示意图；
图5是本发明所述出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法的另一个实施例的示意图；
图6是本发明所述出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法的第三个实施例的示意图；
图7是使得衍射光波导出射光线亮度均匀的沿扩瞳方向的折射率变化图；
图8是本发明所述衍射光波导的不同耦出区域的图像的亮度示意图。
在所有附图中相同的标号指示相似或相应的特征或功能。
具体实施方式
以下将结合附图对本发明的具体实施例进行详细描述。
图2是本发明所述出射亮度均匀的衍射光波导的示意图，如图2所示，所述衍射光波导10包括包括玻璃基底1、耦出光栅2和耦入光栅(未示出)，所述耦出光栅2为折射率渐变光栅，通过不同耦出区域的折射率渐变光栅的折射率变化提高耦出光线亮度的均匀性。
在一个实施例中，折射率渐变光栅通过相变材料获得，将相变材料作为光刻材料涂覆在玻璃基底上，利用光刻方式在相变材料上压印衍射光栅，使得衍射光栅的折射率随温度变化发生渐变，所述相变材料(PCM)是依靠精确控制温度(热量)，使得材料在晶体和非晶体之间相互转化，相变材料的折射率随温度阶梯变化，从而获得折射率梯度变化的衍射光栅，(如图7所示，沿着扩瞳方向，衍射光栅的折射率呈现梯度变化，且越来越大)，提高耦出区域光线均匀性。
优选地，所述相变材料包括Ge2Sb2Te5(GST)。
本发明还提供一种头戴显示设备，上述各实施例的衍射光波导。
上述衍射光波导及头戴显示设备通过改变衍射波导中耦出区域的衍射光栅的折射率，使其在扩瞳方向产生折射率梯度变化，从而使耦出区域的光线亮度均匀。
图3是本发明所述出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法的流程示意图，如图3所示，所述制造方法包括：
步骤S1，采用相变材料作为光刻材料，涂覆在玻璃基底上，形成相变材料薄膜；
步骤S2，利用光刻的方式，在相变材料薄膜上压印衍射光栅；
步骤S3，使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化，获得折射率渐变光栅。
上述制造方法制造了折射率渐变的衍射光栅，不会改变光栅的设计参数，只需要在压印之后，使衍射光栅的折射率发生梯度变化，可以有效提升耦出区域光线均匀性，并且具有价格低廉、工艺难度低、适合量产的特点。
在一个实施例中，所述使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化的步骤包括：
通过加热方式使得衍射光栅的折射率随温度按照耦出区域亮度变化阶梯变化，具体地，如图4所示，包括：
采用制热板41加热方式，精确控制热板在不同光栅区域的温度(沿着光波导内光线全反射方向即扩瞳方向，加热温度从高到底，从而使得衍射光栅的折射率沿扩瞳方向从小到大，衍射光栅的折射率越小，耦出光栅亮度越小)，使衍射光栅在相应的区域的产生不同的折射率，从而使整个衍射光栅沿着扩瞳方向折射率发生渐变且越来越大，优选地，通过制热板41加热相变材料薄膜，通过加热器(未示出)控制不同耦出区域的制热板的温度，使得不同耦出区域的衍射光栅的折射率随温度不同变化。
在另一个实施例中，所述使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化的步骤包括：
通过激光照射方式使得衍射光栅的折射率随温度按照耦出区域亮度变化阶梯变化，具体地，如图5所示，包括：
控制激光器42的照射时间，使激光器42在不同耦出区域照射时间不同，从而使衍射光栅的折射率渐变，在不同耦出区域的折射率不同，优选地，通过计时器控制不同耦出区域的激光器的照射时间，从而使得衍射光栅的折射率随温度阶梯变化，例如，激光器的照射时间沿扩瞳方向(图中箭头方向)从长到短，使得衍射光栅的温度沿扩瞳方向由高到低，使得衍射光栅的折射率沿扩瞳方向由低到高。
在第三个实施例中，所述使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化的步骤包括：
通过电激励的方式使得衍射光栅的折射率随温度按照耦出区域亮度变化阶梯变化，具体地，如图6所示，包括：
对不同耦出区域所对应的导电膜上施加不同强度的电压值，从而使对应耦出区域的衍射光栅的折射率渐变，优选地，通过电控器43对不同耦出区域的导电膜44上施加不同强度的电压值，使得衍射光栅的折射率变化，例如，导电膜34上施加电压值强度沿扩瞳方向(图中箭头方向)由高到低，使得导电膜的加热温度沿扩瞳方向由高到底，从而使得衍射光栅的温度沿扩瞳方向由高到低，使得衍射光栅的折射率沿扩瞳方向由低到高。
在一个优选实施例中，出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法包括：
获得相变材料，例如，Ge2Sb2Te5；
将所述相变材料涂覆在玻璃基底上，形成相变材料薄膜；
利用光刻的方式，在相变材料薄膜上压印衍射光栅，此时衍射光栅的折射率均匀；
获得衍射光栅的折射率随温度变化的第一曲线，相变材料随着温度的不同在非晶态和晶态之间变化，相变材料的折射率也随着温度的变化而变化，从而衍射光栅的折射率也随着温度的变化而变化，所述第一曲线通过曲线拟合的方式预先通过实验获得；
获得压印衍射光栅后衍射光波导的耦出区域的亮度变化的第二曲线，从图1中可以看出不同耦出区域的亮度不同，通过曲线模拟可以获得第二曲线；
通过第二曲线获得使得出射光线亮度均匀的沿扩瞳方向不同耦出区域的折射率变化的第三曲线，如图7所示；
通过第三曲线和第一曲线，获得不同耦出区域的温度变化的第四曲线；
通过第四曲线采用用通过加热方式、激光照射方式或/和电激励方式控制衍射光栅的不同耦出区域的温度，获得折射率渐变光栅。
采用上述制造方法获得的衍射光波导的不同耦出区域的图像的亮度如图8所示，本发明所述出射亮度均匀的衍射光波导能够极高的提高出射光线均匀性。
本发明出射亮度均匀的衍射光波导及其制造方法、头戴显示设备通过采用相变材料(如Ge2Sb2Te5，GST)作为光刻材料，均匀地涂抹在玻璃基底上面，然后利用光刻的方式，在相变材料上压印光栅。然后通过对其加热、激光照射或者电激励的方式使相变材料发生折射率渐变，从而使得衍射光栅的折射率按照耦出区域的亮度扁豆花，从而使耦出区域的光线变得均匀，能够有效提升出射光线的均匀性，在不用改变光栅的设计参数，有效提升耦出区域光线均匀性，具有价格低廉、工艺难度低、适合量产的特点。
本领域技术人员应当理解，对于上述本发明所提出的出射亮度均匀的衍射光波导的衍射光波导及其制造方法、头戴显示设备，还可以在不脱离本发明内容的基础上做出各种改进。因此，本发明的保护范围应当由所附的权利要求书的内容确定。

Claims (9)

1.一种出射亮度均匀的衍射光波导，包括玻璃基底、耦出光栅和耦入光栅，其特征在于，所述耦出光栅为折射率渐变光栅，通过不同耦出区域的折射率渐变光栅的折射率变化提高耦出光线亮度的均匀性；
其中，所述折射率渐变光栅通过相变材料获得，将相变材料作为光刻材料涂覆在玻璃基底上，利用光刻方式在相变材料上压印衍射光栅，使得衍射光栅的折射率随温度变化发生渐变。
2.根据权利要求1所述的出射亮度均匀的衍射光波导，其特征在于，所述相变材料包括Ge2Sb2Te5。
3.一种头戴显示设备，其特征在于，包括权利要求1或2所述的衍射光波导。
4.一种如权利要求1或2所述出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法，其特征在于，包括：
采用相变材料作为光刻材料，涂覆在玻璃基底上，形成相变材料薄膜；
利用光刻的方式，在相变材料薄膜上压印衍射光栅；
使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化。
5.根据权利要求4所述的出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法，其特征在于，所述使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化的步骤包括：
通过加热方式使得衍射光栅的折射率随温度按照耦出区域亮度变化阶梯变化。
6.根据权利要求5所述的出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法，其特征在于，所述加热方式包括：
通过制热板加热的方式，使得制热板加热衍射光栅，使得衍射光栅沿扩瞳方向温度从高到低，从而使得衍射光栅的折射率沿扩瞳方向从小到大，衍射光栅的折射率越小，耦出光栅亮度越小。
7.根据权利要求4所述的出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法，其特征在于，所述使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化的步骤包括：
通过激光照射方式使得衍射光栅的折射率随温度按照耦出区域亮度变化阶梯变化。
8.根据权利要求4所述的出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法，其特征在于，所述使得衍射光栅的折射率按照耦出区域亮度变化而变化的步骤包括：
通过电激励的方式使得衍射光栅的折射率随温度按照耦出区域亮度变化阶梯变化。
9.一种出射亮度均匀的衍射光波导的制造方法，其特征在于，包括：
获得相变材料；
将所述相变材料涂覆在玻璃基底上，形成相变材料薄膜；
利用光刻的方式，在相变材料薄膜上压印衍射光栅，此时衍射光栅的折射率均匀；
获得衍射光栅的折射率随温度变化的第一曲线，相变材料随着温度的不同在非晶态和晶态之间变化，相变材料的折射率也随着温度的变化而变化，从而衍射光栅的折射率也随着温度的变化而变化，所述第一曲线通过曲线拟合的方式预先通过实验获得；
获得压印衍射光栅后衍射光波导的耦出区域的亮度变化的第二曲线；
通过第二曲线获得使得出射光线亮度均匀的沿扩瞳方向不同耦出区域的折射率变化的第三曲线；
通过第三曲线和第一曲线，获得不同耦出区域的温度变化的第四曲线；
通过第四曲线采用用通过加热方式、激光照射方式或/和电激励方式控制衍射光栅的不同耦出区域的温度，获得折射率渐变光栅。
CN202011181683.7A 2020-10-29 2020-10-29 出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备 Active CN112099140B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011181683.7A CN112099140B (zh) 2020-10-29 2020-10-29 出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011181683.7A CN112099140B (zh) 2020-10-29 2020-10-29 出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112099140A CN112099140A (zh) 2020-12-18
CN112099140B true CN112099140B (zh) 2022-10-14

Family

ID=73784798

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011181683.7A Active CN112099140B (zh) 2020-10-29 2020-10-29 出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112099140B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113376724B (zh) * 2021-06-21 2023-02-17 宁波舜宇奥来技术有限公司 衍射元件的制作方法
CN113721320A (zh) * 2021-09-06 2021-11-30 宁波舜宇奥来技术有限公司 光波导结构和显示装置
CN114280790B (zh) * 2021-12-29 2024-03-26 材料科学姑苏实验室 一种衍射光波导器件及近眼显示设备
CN114280791B (zh) * 2021-12-29 2024-03-05 材料科学姑苏实验室 一种衍射光波导器件及其制备方法
CN114879294B (zh) * 2022-05-16 2023-06-30 深圳市光舟半导体技术有限公司 一种光学扩瞳装置及方法
CN115128801A (zh) * 2022-06-30 2022-09-30 北京灵犀微光科技有限公司 基于电信号控制的光波导显示方法、装置、设备及介质

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108885301A (zh) * 2016-04-04 2018-11-23 阿康尼亚全像有限责任公司 光瞳均衡

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2316760A (en) * 1996-08-23 1998-03-04 Univ Southampton Fabricating optical waveguide gratings
JP2004258442A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Sumitomo Electric Ind Ltd 回折光学素子とその形成方法
CN104280885A (zh) * 2014-09-27 2015-01-14 郑敏 大出瞳全息波导眼镜系统
CN106324865B (zh) * 2016-08-19 2018-12-07 上海交通大学 一种基于相变材料三维集成光开关
CN108761610A (zh) * 2018-06-13 2018-11-06 成都精密光学工程研究中心 基于折射率调控薄膜的偏振无关反射式介质光栅
CN110895357A (zh) * 2018-09-13 2020-03-20 深圳大学 一种新型高透射率二氧化钒薄膜元件制备方案
CN110850606A (zh) * 2019-11-21 2020-02-28 中国科学院物理研究所 一种基于相变材料的动态可调结构色器件及其制备方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108885301A (zh) * 2016-04-04 2018-11-23 阿康尼亚全像有限责任公司 光瞳均衡

Also Published As

Publication number Publication date
CN112099140A (zh) 2020-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112099140B (zh) 出射亮度均匀的衍射光波导、制造方法、头戴显示设备
CN112099141B (zh) 衍射光波导、制造方法、提高出射光均匀性方法、设备
Zhang et al. Electrically reconfigurable non-volatile metasurface using low-loss optical phase-change material
Gale et al. Fabrication of continuous-relief micro-optical elements by direct laser writing in photoresists
US10593873B2 (en) Device for switchably influencing electromagnetic radiation, and method for obtaining such a device
EP3385219B1 (en) Method for manufacturing a device for forming at least one focused beam in a near zone
CN105026970A (zh) 光学相控阵列
JP5118659B2 (ja) 発光素子
CN101437441A (zh) 使波导锥形化的方法和工艺以及形成最佳波导结构的方法和工艺
WO2020109767A1 (en) Method for fabricating nanostructured optical elements using polarised light
JP6469717B2 (ja) 可変フォトサーマルレンズ
CN103278994A (zh) 一种基于牛顿环干涉全息记录的电控菲涅尔透镜制备方法
CN101364048A (zh) 光刻照明装置及照明方法
US20220146710A1 (en) Optical metasurfaces, and associated manufacturing methods and systems
CN106054294A (zh) 具有doe防伪图案的金属币或章及其制造方法
CN113556494B (zh) 基于相变材料物相结构超快激光协同调制的图像存储方法
CN106662677B (zh) 自适应热微透镜
TW200846512A (en) Crystallization device and crystallization method
JPWO2020153319A1 (ja) 拡散板
CN103792754B (zh) 基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列
CN109031884A (zh) 微纳结构的制作方法及用于该制作方法中的系统
JP2005324538A (ja) 導光板構造及びその製造方法
TW200918953A (en) Solid tunable micro optical device and method for a micro-opto-electro-mechanical system
CN115933224B (zh) 对光计算器件进行调控的方法和光计算器件
TWI241415B (en) Microlens arrays having high focusing efficiency

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20221123

Address after: 261031 workshop 1, phase III, Geer Photoelectric Industrial Park, 3999 Huixian Road, Yongchun community, Qingchi street, high tech Zone, Weifang City, Shandong Province

Patentee after: GoerTek Optical Technology Co.,Ltd.

Address before: 261031 No. 268 Dongfang Road, hi tech Industrial Development Zone, Shandong, Weifang

Patentee before: GOERTEK Inc.