CN112065451B - 地下通道暗挖方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种地下通道暗挖方法，包括步骤：1.地下通道分为第一导洞(1)和第二导洞(2)；2.深孔注浆加固土体形成超前支护结构(6)；3.施做第一导洞及其第一初期支护结构(11)和第一二次衬砌结构(12)；4.在第一导洞与第二导洞交接处架设临时支撑(4)，浇筑中隔墙(5)；5.施做第二导洞及其第二初期支护结构(21)和第二二次衬砌结构(22)；6.拆除临时支撑、中隔墙及部分第一初期支护结构。本发明能在确保施工安全和质量的前提下，有效降低地下通道施工成本，加快施工进度，并减少对周边的扰动。

Description

地下通道暗挖方法
技术领域
本发明涉及一种隧道施工方法，尤其涉及一种地下通道暗挖方法。
背景技术
在地铁、公路、铁路、管廊、隧道等地下通道施工过程中，断面形式复杂多变，如对称双联拱隧道、不对称双联拱隧道、对称三联拱隧道、不对称三联拱隧道等。在现有技术的隧道施工中常采用新奥法施工，新奥法施工是指将锚杆和喷射混凝土组合在一起，作为主要支护手段的一种施工方法，施工顺序为：开挖→一次支护→二次支护。但在实际施工过程中，在地下通道主体结构、地质结构、施工步序等因素的影响下，若不使用安全可靠的施工方法，不但可能导致施工过程中的超挖、渗漏等质量事故，甚至导致塌方等安全隐患。
发明内容
本发明的目的在于提供一种地下通道暗挖方法，能在确保施工安全和质量的前提下，有效降低地下通道施工成本，加快施工进度，并减少对周边的扰动。
本发明是这样实现的：
一种地下通道暗挖方法，包括以下步骤：
步骤1：将地下通道分隔为两个导洞，分别为第一导洞和第二导洞；
步骤2：深孔注浆加固土体，形成地下通道的超前支护结构；
步骤3：深孔注浆达到设计强度后，施做第一导洞及第一导洞的第一初期支护结构和第一二次衬砌结构；
步骤4：在第一导洞内架设临时支撑，并浇筑中隔墙；临时支撑和中隔墙位于第一导洞与第二导洞的交接处；
步骤5：中隔墙达到设计强度后，施做第二导洞及第二导洞的第二初期支护结构和第二二次衬砌结构；
步骤6：拆除临时支撑、中隔墙、以及第一初期支护结构位于第一导洞与第二导洞交界处的部分。
所述的步骤3包括以下分步骤：
步骤3.1：开挖第一导洞；
步骤3.2：在第一导洞的两侧施做锁脚锚杆；
步骤3.3：在第一导洞的四周架设格栅并喷射混凝土支护，形成第一导洞的第一初期支护结构；
步骤3.4：铺设第一导洞的底板及侧墙防水，并浇筑第一导洞的第一二次衬砌结构。
所述的第一导洞采用台阶法开挖，台阶长度为3-5m。
所述的第一二次衬砌结构为C形结构，第一二次衬砌结构的开口端面向第二导洞。
在浇筑所述的中隔墙前，拆除位于第一导洞与第二导洞之间的锁脚锚杆。
所述的临时支撑沿地下通道的长度方向间隔设置。
所述的临时支撑的设置间距为1m。
所述的步骤5包括以下分步骤：
步骤5.1：开挖第二导洞；
步骤5.2：在第二导洞的外侧施做锁脚锚杆；
步骤5.3：在第二导洞的四周架设格栅并喷射混凝土支护，形成第二导洞的第二初期支护结构；
步骤5.4：铺设第二导洞的底板及侧墙防水，并浇筑第二导洞的第二二次衬砌结构。
所述的第二导洞采用台阶法开挖，台阶长度为3-5m。
所述的步骤5.3中，所述的第二初期支护结构为C形结构，并与第一初期支护结构连接呈闭环结构；
所述的步骤5.4中，所述的第二二次衬砌结构为C形结构，第二二次衬砌结构的开口端面向第一导洞，使第二二次衬砌结构与第一二次衬砌结构连接呈闭环结构，作为地下通道的二次衬砌结构。
本发明将一个封闭结构分为左右两部分分别施工，采用先衬砌后支护的施工方式，能在确保施工安全和质量的前提下，通过优化施工工序有效降低地下通道施工成本，加快施工进度，并最大限度的减少对周边建筑结构的扰动，严格控制地表沉降，保证施工过程中的安全。本发明具有施工方法简单、实用性强等优点，适用于地铁、公路、铁路、管廊等隧道工程类似断面形式的暗挖施工。
附图说明
图1是本发明地下通道暗挖方法的施工断面图；
图2是本发明地下通道暗挖方法中第一导洞的施工断面图；
图3是本发明地下通道暗挖方法中临时支撑的施工断面图；
图4是本发明地下通道暗挖方法中第一导洞的施工断面图。
图中，1第一导洞，11第一初期支护结构，12第一二次衬砌结构12，2第二导洞，21第二初期支护结构，22第二二次衬砌结构，3锁脚锚杆，4临时支撑，5中隔墙，6超前支护结构。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明。
请参见附图1，一种地下通道暗挖方法，包括以下步骤：
步骤1：将地下通道分隔为两个导洞，分别为第一导洞1和第二导洞2。
步骤2：深孔注浆加固土体，形成地下通道的超前支护结构6。
请参见附图3，步骤3：深孔注浆达到设计强度后，施做第一导洞1及第一导洞1的第一初期支护结构11和第一二次衬砌结构12。
步骤3.1：开挖第一导洞1。优选的，所述的第一导洞1可采用现有技术的台阶法开挖，台阶长度为3-5m，第一导洞1分为上下两部分分别开挖，台阶法开挖时，需保留核心土，施工时需进行动态监控量测或观测，如发现异常须及时封闭掌子面，可加强临时支撑，加密格栅或地层改良。
步骤3.2：在第一导洞1的两侧施做锁脚锚杆3。
步骤3.3：在第一导洞1的四周架设格栅并喷射混凝土支护，形成第一导洞1的第一初期支护结构11。
步骤3.4：铺设第一导洞1的底板及侧墙防水，并浇筑第一导洞1的第一二次衬砌结构12。
所述的第一二次衬砌结构12为C形结构，第一二次衬砌结构12的开口端面向第二导洞2。
请参见附图3和附图4，步骤4：在第一导洞1内架设临时支撑4，并浇筑中隔墙5；临时支撑4和中隔墙5位于第一导洞1与第二导洞2的交接处。
在浇筑所述的中隔墙5前，拆除位于第一导洞1与第二导洞2之间的锁脚锚杆3。
所述的临时支撑4沿地下通道的长度方向间隔设置，优选的，临时支撑4的设置间距为1m，临时支撑4可采用28a工字钢。
步骤5：中隔墙5达到设计强度后，施做第二导洞2及第二导洞2的第二初期支护结构21和第二二次衬砌结构22。
步骤5.1：开挖第二导洞2。优选的，所述的第二导洞2可采用现有技术的台阶法开挖，台阶长度为3-5m，第二导洞2分为上下两部分分别开挖，台阶法开挖时，需保留核心土，施工时需进行动态监控量测或观测，如发现异常须及时封闭掌子面，可加强临时支撑，加密格栅或地层改良。
步骤5.2：在第二导洞2的外侧施做锁脚锚杆3。
步骤5.3：在第二导洞2的四周架设格栅并喷射混凝土支护，形成第二导洞2的第二初期支护结构21。
所述的第二初期支护结构21为C形结构，并与第一初期支护结构11连接呈闭环结构。
步骤5.4：铺设第二导洞2的底板及侧墙防水，并浇筑第二导洞2的第二二次衬砌结构22。
所述的第二二次衬砌结构22为C形结构，第二二次衬砌结构22的开口端面向第一导洞1，使第二二次衬砌结构22与第一二次衬砌结构12连接呈闭环结构，作为地下通道的二次衬砌结构。
步骤6：拆除临时支撑4、中隔墙5、以及第一初期支护结构11位于第一导洞1与第二导洞2交界处的部分。
实施例1：
某城市一地铁区间隧道在靠近出入口处设置一处暗挖通道，通道全长约10m，其中断面为规则长方形，总体上采用台阶法进行施工，台阶长度3-5m。总体上将一个封闭结构即地下通道分为左、右两部分(即第一导洞1和第二导洞2)进行施工，在同一封闭空间内共进行四步进行台阶开挖。
先通过深孔注浆加固形成地下通道的超前支护结构6，第一导洞1台阶法开挖并施做第一初期支护结构11及第一二次衬砌结构12完成后，中间通过28a工字钢架设临时支撑4，临时支撑4的间距为1m，而后再开始第二导洞2的台阶法土方开挖、第二初期支护结构21及第二二次衬砌结构22的施做，最后拆除临时中隔壁5、临时支撑4及部分第一初期支护结构11。
以上仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围，因此，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种地下通道暗挖方法，其特征是：包括以下步骤：
步骤1：将地下通道分隔为两个导洞，分别为第一导洞(1)和第二导洞(2)；
步骤2：深孔注浆加固土体，形成地下通道的超前支护结构(6)；
步骤3：深孔注浆达到设计强度后，施做第一导洞(1)及第一导洞(1)的第一初期支护结构(11)和第一二次衬砌结构(12)；
所述的步骤3包括以下分步骤：
步骤3.1：开挖第一导洞(1)；
步骤3.2：在第一导洞(1)的两侧施做锁脚锚杆(3)；
步骤3.3：在第一导洞(1)的四周架设格栅并喷射混凝土支护，形成第一导洞(1)的第一初期支护结构(11)；
步骤3.4：铺设第一导洞(1)的底板及侧墙防水，并浇筑第一导洞(1)的第一二次衬砌结构(12)；
步骤4：在第一导洞(1)内架设临时支撑(4)，并浇筑中隔墙(5)；临时支撑(4)和中隔墙(5)位于第一导洞(1)与第二导洞(2)的交接处；在浇筑所述的中隔墙(5)前，拆除位于第一导洞(1)与第二导洞(2)之间的锁脚锚杆(3)；
步骤5：中隔墙(5)达到设计强度后，施做第二导洞(2)及第二导洞(2)的第二初期支护结构(21)和第二二次衬砌结构(22)；
步骤6：拆除临时支撑(4)、中隔墙(5)、以及第一初期支护结构(11)位于第一导洞(1)与第二导洞(2)交界处的部分。
2.根据权利要求1所述的地下通道暗挖方法，其特征是：所述的第一导洞(1)采用台阶法开挖，台阶长度为3-5m。
3.根据权利要求1所述的地下通道暗挖方法，其特征是：所述的第一二次衬砌结构(12)为C形结构，第一二次衬砌结构(12)的开口端面向第二导洞(2)。
4.根据权利要求1所述的地下通道暗挖方法，其特征是：所述的临时支撑(4)沿地下通道的长度方向间隔设置。
5.根据权利要求4所述的地下通道暗挖方法，其特征是：所述的临时支撑(4)的设置间距为1m。
6.根据权利要求1所述的地下通道暗挖方法，其特征是：所述的步骤5包括以下分步骤：
步骤5.1：开挖第二导洞(2)；
步骤5.2：在第二导洞(2)的外侧施做锁脚锚杆(3)；
步骤5.3：在第二导洞(2)的四周架设格栅并喷射混凝土支护，形成第二导洞(2)的第二初期支护结构(21)；
步骤5.4：铺设第二导洞(2)的底板及侧墙防水，并浇筑第二导洞(2)的第二二次衬砌结构(22)。
7.根据权利要求6所述的地下通道暗挖方法，其特征是：所述的第二导洞(2)采用台阶法开挖，台阶长度为3-5m。
8.根据权利要求6所述的地下通道暗挖方法，其特征是：所述的步骤5.3中，所述的第二初期支护结构(21)为C形结构，并与第一初期支护结构(11)连接呈闭环结构；
所述的步骤5.4中，所述的第二二次衬砌结构(22)为C形结构，第二二次衬砌结构(22)的开口端面向第一导洞(1)，使第二二次衬砌结构(22)与第一二次衬砌结构(12)连接呈闭环结构，作为地下通道的二次衬砌结构。
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