CN112048093A - 一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法，其中抛光膜包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，磨料150‑250份、聚异氰酸酯400‑600份、双酚A环氧树脂85‑150份、溶剂250‑350份、抗静电剂1‑5份、分散剂2‑5份，该抛光膜使用超高分子量双酚A环氧树脂和聚异氰酸酯结合的树脂，具有很高的脆性和硬度，高脆性树脂在研磨过程中会逐渐成粉状脱落，使研磨涂层具有自锐性，具有稳定的抛光速率，大大提高现有了抛光膜的使用寿命。

Description

一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法
技术领域
本发明涉及抛光膜加工技术领域，尤其涉及一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法。
背景技术
抛光膜是由磨料、树脂和薄膜基材组成，磨料和树脂构成研磨涂层。现有的抛光膜，研磨涂层在使用过程中只有表面一层磨料起到抛光作用，随着使用时间的延长，表面的磨料会逐渐磨钝，切削力逐渐下降，进而逐渐失去抛光作用，产品的使用寿命也就很有限。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法，该抛光膜使用超高分子量双酚A环氧树脂和聚异氰酸酯结合的树脂，具有很高的脆性和硬度，高脆性树脂在研磨过程中会逐渐成粉状脱落，使研磨涂层具有自锐性，具有稳定的抛光速率，大大提高现有了抛光膜的使用寿命。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，所述研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，磨料150-250份、聚异氰酸酯400-600份、双酚A环氧树脂85-150份、溶剂250-350份、抗静电剂2-5份、分散剂2-5份。
作为进一步的优化，所述磨料为金刚石微粉、白刚玉微粉、棕刚玉微粉、碳化硅微粉、氧化铈微粉中的一种或多种。
作为进一步的优化，所述磨料的中值粒径为0.1-30μm。
作为进一步的优化，所述双酚A环氧树脂的固含量为10-60％，其分子量为5000-30000。
作为进一步的优化，所述溶剂为乙酸乙酯、甲苯、丁酮中的一种或多种。
作为进一步的优化，所述抗静电剂为阳离子抗静电剂、阴离子抗静电剂、非离子抗静电剂中的一种或多种，加入抗静电剂有利于防止在抛光摩擦过程中产生静电。
作为进一步的优化，所述分散剂为羟基官能羧酸酯、多元羧酸羟基铵盐、高分子量聚羧酸胺、聚乙烯醇、改性聚丙烯酸酯中的一种或多种，加入分散剂有助于使磨料均匀的分散于研磨浆料涂层中。
本发明还提供了一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜的制备方法，包括如下步骤，
S1)称料：准确称取各组分；
S2)制备分散料：在浆料桶中依次加入磨料、双酚A环氧树脂、溶剂、抗静电剂和分散剂，高速搅拌均匀后即得分散料；
S3)制备研磨浆料：在分散料中加入聚异氰酸酯，搅拌均匀后即得研磨浆料；
S4)制备抛光膜：将研磨浆料均匀涂覆于聚酯薄膜上，经60-130℃固化后形成研磨浆料涂层即得抛光膜。
作为进一步的优化，S3中的搅拌时间为50-150min。
作为进一步的优化，S4中的固化时间为5-24h。
与现有技术相比，本发明具有以下的有益效果：
使用超高分子量双酚A环氧树脂和聚异氰酸酯作为涂层树脂，在树脂中按比例混入磨料，然后涂布于聚酯薄膜上，经固化处理制成具有自锐性研磨涂层的抛光膜，自锐性研磨涂层在使用过程中，表面涂层中的被磨钝的磨料会缓慢从树脂中均匀脱落，表面涂层中的树脂在抛光力作用下也会逐渐脱落，进而露出下一层新的磨料，这样使涂层保持稳定可持续的切削力，大大提高磨料的利用率，提高了抛光膜的使用寿命。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图中，1.聚酯薄膜；2.研磨浆料涂层；21.树脂混合物；22.磨料。
具体实施方式
以下是本发明的具体实施例并结合附图，对本发明的技术方案作进一步的描述，但本发明并不限于这些实施例。
实施例1
一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，金刚石微粉200份、聚异氰酸酯500份、双酚A环氧树脂100份、溶剂300份、抗静电剂2份、多元羧酸羟基铵盐2份；其中：金刚石微粉中值粒径为1μm，双酚A环氧树脂固含量为50％，分子量为25000，溶剂为乙酸乙酯、甲苯和丁酮的1:1:1混合物。
其制备方法为包括：称料，准确称取各组分；制备分散料，在浆料桶中依次加入金刚石微粉、双酚A环氧树脂、溶剂、抗静电剂和分散剂，高速搅拌均匀后即得分散料；制备研磨浆料，在分散料中加入聚异氰酸酯，高速搅拌100min，即得研磨浆料；制备抛光膜，将研磨浆料均匀涂覆于聚酯薄膜上，经130℃固化后24h形成研磨浆料涂层即得抛光膜。
如图1所示，将制备好的研磨浆料均匀涂覆于聚酯薄膜1上，形成研磨浆料涂层2，在研磨浆料涂层中，磨料22均匀的分散于双酚A环氧树脂和聚异氰酸酯形成的树脂混合物21中。
实施例2
一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，氧化铈微粉200份、聚异氰酸酯300份、双酚A环氧树脂80份、溶剂300份、抗静电剂1份、聚羧酸胺2份；其中：氧化铈微粉中值粒径为0.5μm，双酚A环氧树脂固含量为50％，分子量为20000，溶剂为乙酸乙酯、甲苯和丁酮的1:1:1混合物。
其制备方法为包括：称料，准确称取各组分；制备分散料，在浆料桶中依次加入氧化铈微粉、双酚A环氧树脂、溶剂、抗静电剂和分散剂，高速搅拌均匀后即得分散料；制备研磨浆料，在分散料中加入聚异氰酸酯，高速搅拌60min，即得研磨浆料；制备抛光膜，将研磨浆料均匀涂覆于聚酯薄膜上，经130℃固化后24h形成研磨浆料涂层即得抛光膜。
实施例3
一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，碳化硅微粉200份、聚异氰酸酯400份、双酚A环氧树脂80份、溶剂300份、抗静电剂1份、改性聚丙烯酸酯2份；其中：碳化硅中值粒径为3μm，双酚A环氧树脂固含量为50％，分子量为20000，溶剂为乙酸乙酯、甲苯和丁酮的1:1:1混合物。
其制备方法为包括：称料，准确称取各组分；制备分散料，在浆料桶中依次加入碳化硅微粉、双酚A环氧树脂、溶剂、抗静电剂和分散剂，高速搅拌均匀后即得分散料；制备研磨浆料，在分散料中加入聚异氰酸酯，高速搅拌100min，即得研磨浆料；制备抛光膜，将研磨浆料均匀涂覆于聚酯薄膜上，经130℃固化后24h形成研磨浆料涂层即得抛光膜。
实施例4
一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，白刚玉微粉200份、聚异氰酸酯400份、双酚A环氧树脂80份、溶剂300份、抗静电剂1份、改性聚丙烯酸酯2份；其中：白刚玉中值粒径为1μm，双酚A环氧树脂固含量为50％，分子量为15000，溶剂为乙酸乙酯、甲苯和丁酮的1:1:1混合物。
其制备方法为包括：称料，准确称取各组分；制备分散料，在浆料桶中依次加入白刚玉微粉、双酚A环氧树脂、溶剂、抗静电剂和分散剂，高速搅拌均匀后即得分散料；制备研磨浆料，在分散料中加入聚异氰酸酯，高速搅拌100min，即得研磨浆料；制备抛光膜，将研磨浆料均匀涂覆于聚酯薄膜上，经130℃固化后24h形成研磨浆料涂层即得抛光膜。
应用实施例
将上述实施例制得的抛光膜分别应用于光纤连接器的抛光，并与对应的常规类型抛光膜对比，测试条件为：采用四角加压研磨机，压力为400g/头，转速100rpm，时间为40s，测试数据如下表所示。
抛光膜 使用寿命
实施例1 100次
市售常规1μm金刚石抛光膜 30次
实施例2 40次
市售常规0.5μm氧化铈抛光膜 10次
实施例3 5次
市售常规3μm碳化硅抛光膜 2次
实施例4 10次
市售常规1μm白刚玉抛光膜 5次
经上述实验数据对比，可看出：通过本发明磨料混匀分散于混合树脂中，可以大幅度提高抛光膜的使用寿命。
本文中所描述的具体实施例仅仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。

Claims (10)

1.一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，其特征在于，所述研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，磨料150-250份、聚异氰酸酯300-600份、双酚A环氧树脂80-150份、溶剂250-350份、抗静电剂1-5份、分散剂2-5份。
2.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述磨料为金刚石微粉、白刚玉微粉、棕刚玉微粉、碳化硅微粉、氧化铈微粉中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述磨料的中值粒径为0.1-30μm。
4.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述双酚A环氧树脂的固含量为10-60%，其分子量为5000-30000。
5.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述溶剂为乙酸乙酯、甲苯、丁酮中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述抗静电剂为阳离子抗静电剂、阴离子抗静电剂和非离子抗静电剂中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述分散剂为羟基官能羧酸酯、多元羧酸羟基铵盐、高分子量聚羧酸胺、聚乙烯醇和改性聚丙烯酸酯中的一种或多种。
8.一种根据权利要求1至7任意一项所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤，
S1)称料：准确称取各组分；
S2)制备分散料：在浆料桶中依次加入磨料、双酚A环氧树脂、溶剂、抗静电剂和分散剂，高速搅拌均匀后即得分散料；
S3)制备研磨浆料：在分散料中加入聚异氰酸酯，搅拌均匀后即得研磨浆料；
S4)制备抛光膜：将研磨浆料均匀涂覆于聚酯薄膜上，经60-130℃固化后形成研磨浆料涂层即得抛光膜。
9.根据权利要求8所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜的制备方法，其特征在于，S3中的搅拌时间为50-150min。
10.根据权利要求8所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜的制备方法，其特征在于，S4中的固化时间为5-24h。
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