CN112038372B - 显示面板和显示装置 - Google Patents
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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Abstract
本发明公开了一种显示面板和显示装置,属于显示技术领域,显示面板包括多个阵列排布的像素单元,每个像素单元包括像素显示区和透过区,像素显示区包括多个第一发光元件,透过区至少包括一个第二发光元件和光致变色层;光致变色层位于第二发光元件靠近显示面板出光面一侧,且光致变色层向显示面板出光面的正投影覆盖第二发光元件向显示面板出光面的正投影;第二发光元件发出的光经过光致变色层后,进入透过区,调节透过区的透过率。显示装置包括上述显示面板。本发明的透过区在第二发光元件打开和关闭时可以实现不同的透过率,实现显示面板的透过率可调的同时,还有利于提升显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,更具体地,涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
显示器包括被动发光显示器和主动发光显示器,被动发光显示器是需要借助背光源进行显示的显示器件,常见的主要为液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)。为了追求高色域、高对比度和超薄外观,目前手机、电视行业迅速发展的为主动发光器件。主动发光器件是自身能够受激发而发光的显示器件,常见的主要是有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode,OLED)显示器和微有机发光二极管(Micro Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示器,具有结构简单、自发光、对比度高、响应速度快、功耗低等、可弯曲等优点,在手机、平板、电视等显示领域已经有了广泛的应用。同时,随着透明显示市场如玻璃显示墙幕、AR显示等兴起,透明显示需求激增。透明显示器是指显示器本身具有一定程度的光穿透性,既可以看到显示器显示的画面,又可以看到显示器后面的信息,透明显示器的优点在于更好的利用了空间、内部设计和其他的应用。目前,透明显示器已被广泛应用在车窗玻璃、商场橱窗、AR(Augmented Reality,增强现实)、VR(Virtual Reality,虚拟现实)等高端显示领域。
透明显示器件透过率的变化对器件的显示效果有很大的影响。现有技术中,透明显示器件的透过率一般为固定值,这使得透明显示器件的应用范围和显示效果受外界光环境的影响很大,在不同的环境条件尤其是光照条件下无法获得较佳的显示效果。
因此,提供一种能够实现透过率可调,且可以提升显示效果的显示面板和显示装置,是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种显示面板和显示装置,以解决现有技术中透过率一般不可调,且清晰度容易受影响,影响显示效果的问题。
本发明公开了一种显示面板,包括:多个阵列排布的像素单元,每个像素单元包括像素显示区和透过区,像素显示区包括多个第一发光元件,透过区至少包括一个第二发光元件和光致变色层;光致变色层位于第二发光元件靠近显示面板出光面一侧,且光致变色层向显示面板出光面的正投影覆盖第二发光元件向显示面板出光面的正投影;第二发光元件发出的光经过光致变色层后,进入透过区,调节透过区的透过率。
基于同一发明构思,本发明还公开了一种显示装置,该显示装置包括上述显示面板。
与现有技术相比,本发明提供的显示面板和显示装置,至少实现了如下的有益效果:
本发明的显示面板的像素单元用于布设发出不同颜色光的子像素,其中,每个像素单元包括像素显示区和透过区,像素显示区包括多个第一发光元件,像素显示区用于正常显示;每个像素单元的透过区至少包括一个第二发光元件,透过区的第二发光元件的数量可以为一个,从而可以避免数量过多的第二发光元件对透过区的透过率造成影响,从而对透明显示造成影响。本发明的透过区范围内,在第二发光元件靠近显示面板出光面一侧还设置有光致变色层,光致变色层向显示面板出光面的正投影覆盖第二发光元件向显示面板出光面的正投影,第二发光元件发出的光可以进入整个透过区,经过光致变色层,通过控制第二发光元件的发光与否来调节光致变色层的透明度进而改变透过区的透过率。本发明通过在显示面板的每个像素单元的透过区设置第二发光元件,使第二发光元件发出的光经过光致变色层后,入射至整个透过区,第二发光元件和光致变色层的设置,可以使透过区在第二发光元件打开和关闭时出现不同的透过率,从而实现显示面板的透过率可调的功能,由于本发明的像素显示区用于正常显示不同颜色的画面,因此每个像素单元的像素显示区和透过区互不干扰,进而能够实现透过率可调的同时,还有利于提升显示效果。
当然,实施本发明的任一产品不必特定需要同时达到以上所述的所有技术效果。
通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述,本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例,并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。
图1是相关技术中B颜色micro LED和G颜色micro LED的出光分布图;
图2是相关技术中R颜色micro LED的出光分布图;
图3是相关技术中的透明显示面板的布局平面示意图;
图4是本发明实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图;
图5是图4中像素单元的透过区对应的膜层剖面结构示意图;
图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的平面结构示意图;
图7是图6中像素单元的透过区对应的膜层剖面结构示意图;
图8是图6中像素单元的透过区对应的膜层的另一种剖面结构示意图;
图9是图8中第二发光元件的出光线路示意图;
图10是图6中沿A-A’向的剖面结构示意图;
图11是图6中沿A-A’向的另一种剖面结构示意图;
图12是图6中沿A-A’向的另一种剖面结构示意图;
图13是图6中沿A-A’向的另一种剖面结构示意图;
图14是图6中沿A-A’向的另一种剖面结构示意图;
图15是图6中沿A-A’向的另一种剖面结构示意图;
图16是本发明实施例提供的一种显示装置的平面结构示意图。
具体实施方式
现在将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例。应注意到:除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。
以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
在这里示出和讨论的所有例子中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
在micro LED显示技术中,不同颜色的RGB的micro LED其出光强度分布是不同的,其中B颜色micro LED和G颜色micro LED的出光分布较为接近。
如图1所示,图1是相关技术中B颜色micro LED和G颜色micro LED的出光分布图(图1横坐标表示出光光束角度,纵坐标表示出光值,L1’表示B颜色micro LED和G颜色microLED二者叠加后总的出光值,L2’表示侧面出光值,L3’表示正面出光值),由图1可知,B颜色micro LED和G颜色micro LED二者叠加后总的出光峰值(total emission)并非在正视角0°,而是在30°左右的方向。
而如图2所示,图2是相关技术中R颜色micro LED的出光分布图(图2横坐标表示出光光束角度,纵坐标表示出光值,L1”表示R颜色micro LED总的出光值,L2”表示R颜色microLED侧面出光值,L3”表示R颜色micro LED正面出光值),图2可知,R颜色micro LED的总出光分布(total emission)接近朗伯分布,与图1截然不同。
该现象出现的原因是因为R颜色micro LED的量子阱的衰减系数和厚度远大于B颜色micro LED芯片和G颜色micro LED芯片,使得R颜色micro LED的侧面出光(sidewallemission)远远小于正面出光(top surface emission),导致合成的总光强分布接近朗伯分布。而B颜色micro LED芯片和G颜色micro LED芯片的单侧面出光约为其正面出光的46%,二者叠加后的总的出光不再是朗伯分布而是呈现正视角(0°)强度出现凹陷,峰值出现在视角30°左右。R,G,B三种micro LED芯片的出光强度不同,会导致不同视角下出现严重的亮度差异和色偏,严重影响屏幕性能。
目前相关技术中基于micro LED的透明显示面板的主要结构如图3所示,图3是相关技术中的透明显示面板000’的布局平面示意图,该透明显示面板的像素区主要分为RGB子像素区10’和透过区20’两部分。由于RGB子像素区10’底部的子像素的阴阳金属电极和下方的像素电路(图3中未示意),所以RGB子像素区10’本身不透明,透明显示的透过率由透过区20’来决定。因此目前对于相关技术中基于micro LED的透明显示面板主要存在三个问题:(1)透过率无法调节;(2)micro LED本身的侧向出光使得透明屏幕存在严重的光晕现象(halo effect),进而导致其显示画面的清晰度较差;(3)视角色差较大。
基于上述问题,本申请提出了一种显示面板和显示装置,能够实现透过率可调,且有利于提升显示效果。关于本申请提出的显示面板和显示装置的具体实施例,详细说明如下。
请参考图4和图5,图4是本发明实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图(为了清楚示意本实施例的结构,图4中进行了透明度填充),图5是图4中像素单元的透过区对应的膜层剖面结构示意图,本实施例提供的一种显示面板000,包括:多个阵列排布的像素单元10,每个像素单元10包括像素显示区AA1和透过区AA2,像素显示区AA1包括多个第一发光元件101,透过区AA2至少包括一个第二发光元件102和光致变色层103;
光致变色层103位于第二发光元件102靠近显示面板000出光面E一侧,且光致变色层103向显示面板000出光面E的正投影覆盖第二发光元件102向显示面板000出光面E的正投影;
第二发光元件102发出的光经过光致变色层103后,进入透过区AA2,调节透过区AA2的透过率。
具体而言,本实施例的显示面板000为透明显示面板,整个面板包括多个可以为阵列排布的像素单元10,像素单元10至少用于布设发出不同颜色光的子像素,其中,每个像素单元10包括像素显示区AA1和透过区AA2,像素显示区AA1包括多个第一发光元件101,可选的,每个像素单元10的像素显示区AA1的多个第一发光元件101可以包括多种不同颜色的发光元件,如红色发光元件、绿色发光元件、蓝色发光元件,像素显示区AA1用于正常显示不同颜色;每个像素单元10的透过区AA2至少包括一个第二发光元件102,可选的,透过区AA2的一个第二发光元件102可以为与像素显示区AA1的一种第一发光元件101发出相同颜色光的发光元件,例如绿色发光元件或者蓝色发光元件。可选的,本实施例的透过区AA2的第二发光元件102的数量可以为一个或以上,具体的数量可根据实际需要来设置,优选的,每个像素单元10的透过区AA2仅包括一个第二发光元件102,从而可以避免数量过多的第二发光元件102对透过区AA2的透过率造成影响,从而对透明显示造成影响。
本实施例的透过区AA2范围内,在第二发光元件102靠近显示面板000出光面E一侧还设置有光致变色层103,光致变色层103向显示面板000出光面E的正投影覆盖第二发光元件102向显示面板000出光面E的正投影,第二发光元件102发出的光可以进入整个透过区AA2,经过光致变色层103,通过控制第二发光元件102的发光与否来调节光致变色层103的透明度进而改变透过区AA2的透过率,即第二发光元件102关闭和打开时,透过区AA2的透过率是不同的,可选的,当控制第二发光元件102关闭时,透过区AA2亮度小,光致变色层103本身的材料性质在暗光作用下可以使光致变色层103其本身透明度提高,进而透过区AA2的透过率高;当控制第二发光元件102打开时,透过区AA2亮度增大,光致变色层103本身的材料性质在强光作用下可以使光致变色层103其本身的透明度降低(光致变色层103可以包括吸光材料),进而透过区AA2的透过率降低,即在光致变色层103的作用下,透过区AA2的透过率可以与第二发光元件102的发光亮度成反比。可以理解的是,本实施例对于光致变色层103的制作材料不作具体限定,仅需满足其在强光和暗光不同作用下光致变色层103本身透明度可以改变即可,本实施例不作具体限定。可选的,光致变色层103可仅在透过区AA2范围内设置,也可以整个面板铺设,还可以复用显示面板的其他现有膜层(例如在现有膜层中掺杂能够实现光致变色功能的材料即可),本实施例在此不作具体限定,具体实施时,可根据实际需求选择设置,本实施例的图5以光致变色层103仅在透过区AA2范围内设置为例进行示例说明。
本实施例的第一发光元件101和第二发光元件102可以均通过像素驱动电路驱动其发光,像素显示区AA1的第一发光元件101和透过区AA2的第二发光元件102可以分别由驱动芯片(IC,Integrated Circuit)单独控制,即像素显示区AA1的第一发光元件101和透过区AA2的第二发光元件102分别由驱动芯片单独提供驱动信号,其驱动方式具体可以参考相关技术中显示面板000的结构进行理解,本实施例不作赘述。可选的,由于对透过区AA2的第二发光元件102的光强稳定性没有严格的要求,因此可以使用简单的2T1C(像素驱动电路包括1个驱动晶体管、1个开关晶体管、1个存储电容)像素驱动电路来驱动。本实施例通过在显示面板000的每个像素单元10的透过区AA2设置第二发光元件102,使第二发光元件102发出的光经过光致变色层103后,入射至整个透过区AA2,第二发光元件102和光致变色层103的设置,可以使透过区AA2在第二发光元件102打开和关闭时出现不同的透过率,从而实现显示面板000的透过率可调的功能,由于本实施例的像素显示区AA1用于正常显示不同颜色的画面,因此每个像素单元10的像素显示区AA1和透过区AA2互不干扰,进而能够实现透过率可调的同时,还有利于提升显示效果。
可以理解的是,本实施例仅是举例说明一种可以实现显示面板透过率可调的方式,即透过区AA2的透过率可以与第二发光元件102的发光亮度成反比,但不仅限于此种方式,还可以为其他透过区AA2的透过率与第二发光元件102的发光亮度的关系,本实施例在此不作具体限定。本实施例的第一发光元件101和第二发光元件102可以为OLED(有机发光二极管)发光器件或者micro LED(微发光二极管)发光器件或者mini LED(次毫米发光二极管)发光器件中的任一种,本实施例不作具体限定,本实施例的附图中以第一发光元件101和第二发光元件102为micro LED进行实例说明。
需要说明的是,本实施例的图4和图5仅是示意性画出显示面板的结构,具体实施时,可参考相关技术中显示面板的结构进行理解,图5中的显示面板的膜层结构还可以包括其他能够显示功能的结构,例如衬底基板、缓冲层、阵列层、像素定义层、平坦化层、封装层等,本实施例不作赘述。
在一些可选实施例中,请结合参考图6和图7,图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的平面结构示意图(为了清楚示意本实施例的结构,图6中进行了透明度填充),图7是图6中像素单元的透过区对应的膜层剖面结构示意图,本实施例中的显示面板000,在透过区AA2范围内,显示面板000还包括多个第一反射结构104,第一反射结构104位于第二发光元件102靠近显示面板000出光面E一侧,第一反射结构104向显示面板000出光面E的正投影覆盖第二发光元件102向显示面板000出光面E的正投影。
本实施例解释说明了在透过区AA2范围内,第二发光元件102靠近显示面板000出光面E一侧可以设置第一反射结构104,其中第一反射结构104向显示面板000出光面E的正投影覆盖第二发光元件102向显示面板000出光面E的正投影,可选的,第一反射结构104的大小可以大于第二发光元件102的大小,也可以与仅设置在透过区AA2范围内的光致变色层103的大小相同,本实施例不作具体限定,图6中以第一反射结构104的布设面积小于光致变色层103的大小为例进行示例。本实施例的第一反射结构104可以通过蒸镀或沉积的工艺采用银或铝等反射金属制作,由于第一反射结构104位于第二发光元件102靠近显示面板000出光面E一侧,且第一反射结构104向显示面板000出光面E的正投影覆盖第二发光元件102向显示面板000出光面E的正投影,从而可以阻挡第二发光元件102的出光从显示面板000的出光面E出射,使第二发光元件102的出光在第一反射结构104远离显示面板000出光面E一侧的表面反射回透过区AA2的光致变色层103内,充分起到改变光致变色层103透明度的作用,有利于提高第二发光元件102的出光利用率。
需要说明的是,本实施例的图7仅是示例性画出第一反射结构104的形状结构,但不仅限于此形状结构,还可以为其他能对第二发光元件102的出光起到反射作用的形状结构,本实施例在此不作赘述。本实施例的图7中以第一反射结构104贴附于光致变色层103远离第二发光元件102的一侧为例进行示意说明,但不仅限于此,第一反射结构104与光致变色层103之间还可以包括其他膜层结构,仅需满足第一反射结构104位于第二发光元件102靠近显示面板000出光面E一侧,且第一反射结构104向显示面板000出光面E的正投影覆盖第二发光元件102向显示面板000出光面E的正投影即可,本实施例不作限定。
在一些可选实施例中,请结合参考图6和图8,图8是图6中像素单元的透过区对应的膜层的另一种剖面结构示意图,本实施例中,第一反射结构104为第一弧面结构,且第一反射结构104的底部朝背离显示面板000出光面E的一侧凹陷形成第一弧面结构。
本实施例进一步解释说明了第一反射结构104为一个第一弧面结构,且弧面的凸起(底部)朝背离显示面板000出光面E的一侧凹陷形成了该第一弧面结构,弧面形状的第一反射结构104有利于更好的将第二发光元件102的出光反射回透过区AA2的光致变色层103内,以进一步提高光线利用率,调整透过区AA2的透过率。
在一些可选实施例中,请继续结合参考图6、图8和图9,图9是图8中第二发光元件102的出光线路示意图,本实施例中,沿远离第一反射结构104的底部方向,第一弧面结构上各处的曲率半径逐渐减小。
本实施例进一步解释说明了第一反射结构104为一个第一弧面结构,且弧面的凸起(底部)朝背离显示面板000出光面E的一侧凹陷形成了该第一弧面结构,弧面形状的第一反射结构104有利于更好的将第二发光元件102的出光均匀反射回透过区AA2的光致变色层103内,以进一步提高光线利用率,调整透过区AA2的透过率。可选的,如图8和图9所示,该第一弧面结构可以为椭球面上的一半结构,即沿远离第一反射结构104的底部方向(图8和图9中的方向G),第一弧面结构上各处的曲率半径逐渐减小,越靠近第一反射结构104的底部,第一反射结构104的弯曲程度越小。本实施例可以使第二发光元件102出光入射至第一反射结构104之后,沿平行于显示面板出光面E的方向平行反射至整个透过区AA2的光致变色层103中,有利于进一步地提高光致变色层103的光照效率。
在一些可选实施例中,请结合参考图6、图10和图11,图10是图6中沿A-A’向的剖面结构示意图,图11是图6中沿A-A’向的另一种剖面结构示意图,本实施例中的显示面板000至少包括:
衬底基板20;
阵列层30,阵列层30位于衬底基板20的一侧;
像素定义层40,像素定义层40位于阵列层30远离衬底基板20的一侧;发光层50,发光层50位于阵列层30远离衬底基板20的一侧;发光层50包括多个第一发光元件101和多个第二发光元件102。
本实施例解释说明了显示面板000的膜层结构中,可以依次衬底基板20、阵列层30、像素定义层40、发光层50等,阵列层30位于衬底基板20的一侧,像素定义层40位于阵列层30远离衬底基板20的一侧,发光层50位于阵列层30远离衬底基板20的一侧,发光层50用于布设多个第一发光元件101和多个第二发光元件102。本实施例的衬底基板20可以作为载体用于承载显示面板000的其他结构,衬底基板20可以为玻璃基板,还可以为柔性基板,本实施例不作具体限定。阵列层30用于设置与各个发光元件相连的驱动电路,如图10中示意的晶体管膜层等,图10仅是示意性画出了阵列层30的膜层结构,具体实施时,阵列层30可以包括多个金属膜层、绝缘膜层等,用于制作阵列层的薄膜晶体管、驱动电路等,本实施例在此不作赘述。像素定义层40用于至少限定出第一发光元件101的布设位置。
可选的,像素定义层40包括多个第一开口401和多个第二开口402,沿垂直于衬底基板20的方向Z,第一开口401和第二开口402分别贯穿像素定义层40,第一发光元件101位于第一开口401内,第二发光元件102位于第二开口402内;
显示面板000还包括封装层60,封装层60位于像素定义层40远离衬底基板20的一侧,第一反射结构104位于封装层60远离衬底基板20的一侧。可选的,第一开口4011的侧壁为斜面结构。
本实施例解释说明了在显示面板000的膜层结构中,位于阵列层30远离衬底基板20的一侧的像素定义层40可以设置多个第一开口401和第二开口402,第一开口401和第二开口402可以沿垂直于衬底基板20的方向Z分别贯穿像素定义层40,第一开口401用于限定出第一发光元件101所在位置,第二开口402用于限定出第二发光元件102所在位置。光致变色层103可仅在透过区AA2范围内设置,第一反射结构104贴附于光致变色层103远离第二发光元件102的一侧,而其余范围内的膜层段差可以通过光学胶等膜层填充补齐(如图10所示),从而可以避免光致变色层103的设置干扰像素显示区AA1的正常显示效果。
可选的,显示面板000的像素定义层40远离衬底基板20的一侧还可以包括封装层60,封装层60用于对发光层50的发光元件进行封装保护,封装层60可以包括无机层、有机层、无机层多个膜层的堆叠结构。本实施例由于像素定义层40在透过区AA2范围内设置有第二开口402用于放置第二发光元件102,因此可以将第一反射结构104位于封装层60远离衬底基板20的一侧,可选的,可在封装层60中的任一有机层或无机层远离第二发光元件102的一侧开设凹陷,并通过蒸镀或沉积的方式将金属反射材料的第一反射结构104制作于封装层60远离衬底基板20的一侧(如图11所示),更好的实现了将第二发光元件102的出光反射回透过区AA2的光致变色层103内,以进一步提高光线利用率,调整透过区AA2的透过率的同时,还可以使第一发光元件101和第二发光元件102在显示面板000的同一制程工序中制作,有利于简化制程工艺步骤,提高制程效率。
在一些可选实施例中,请结合参考图6和图12,图12是图6中沿A-A’向的另一种剖面结构示意图,本实施例中,显示面板000中位于阵列层30远离衬底基板20的一侧的像素定义层40的第一开口401的侧壁上设置有第二反射结构4011,第二反射结构4011围绕第一发光元件101设置。
本实施例解释说明了每个像素显示区AA1范围内的第一发光元件101周围设置有第二反射结构4011,第二反射结构4011设置于像素定义层40的第一开口401的侧壁上,且围绕第一发光元件101设置,第二反射结构4011与第一反射结构104的制作材料可以相同,从而可以将第一发光元件101的出光反射光线尽量保持在像素显示区AA1的范围内,改善第一发光元件101的出光光线,提高出光强度,改善出光视角色偏,防止像素显示区AA1的光泄露到透过区AA2,干扰到透过区AA2的透过率的控制效果。
在一些可选实施例中,请结合参考图6和图13,图13是图6中沿A-A’向的另一种剖面结构示意图,本实施例中,第一开口4011的侧壁为第二弧面结构;在平行于衬底基板20所在平面的方向上,第一开口4011的侧壁朝远离第一发光元件101的方向凹陷形成第二弧面结构。
本实施例进一步解释说明了除了可以将第一开口4011的侧壁设计为斜面结构之外,还可以设置第一开口4011的侧壁为第二弧面结构,在平行于衬底基板20所在平面的方向上,第一开口4011的侧壁朝远离第一发光元件101的方向凹陷形成第二弧面结构,从而可以使设置于第一开口401侧壁上且围绕第一发光元件101的第二反射结构4011也为与侧壁匹配的弧面结构,弧面形状的第二反射结构4011有利于更好的将第一发光元件101的出光反射光线尽量进一步均匀控制在像素显示区AA1的范围内,改善第一发光元件101的出光光线,进一步提高第一发光元件101的光线利用率。
可以理解的是,像素定义层40的第一开口401的侧壁的第二弧面结构可以为仅在侧壁形成弧面,可选的,还可以设置第一开口401的侧壁和底部均为弧面结构(图中未示意),从而可以使第一发光元件101的出光在第一开口401的侧壁和底部均为弧面的结构更好的反射,提高第一发光元件101的出光效率。
在一些可选实施例中,请结合参考图6和图14,图14是图6中沿A-A’向的另一种剖面结构示意图,本实施例中,显示面板000的像素定义层40可以复用为光致变色层103,在透过区AA2范围内,像素定义层40内掺杂有银的卤化物和铜离子(图中未示意)。
本实施例进一步解释说明了可以将显示面板000中原有的像素定义层40复用为光致变色层103,通过在透过区AA2范围内的像素定义层40内掺杂银的卤化物和铜离子来实现像素定义层40在强光和暗光不同作用下透明度可调的功能。像素定义层40本身的材料采用透光度好的材料制作,并在该材料中掺杂银的卤化物和铜离子,银的卤化物可以为AgCl、AgI、AgBr,优选的,AgBr的光致变色效果较佳。本实施例可以利用银的卤化物的遇光分解特性和氧化铜(CuO)的催化作用来实现银的卤化物的分解与合成,以银的卤化物为AgBr为例,具体的化学式为:在第二发光元件102打开时,AgBr在强光作用下,AgBr分解为银和溴,Ag原子对可见光具有强吸收作用,使得透过区AA2的透过率降低,当Ag原子积累到一定程度时,可使第二发光元件102出射在透过区AA2的大部分光被吸收,透过区AA2的透过率变得极低;反之,在第二发光元件102关闭时,透过区AA2的光强减弱时,在氧化铜的催化下,Ag和Br重新结合成AgBr,像素定义层40(光致变色层103)又变为无色透明状态,即在掺杂有银的卤化物和铜离子的像素定义层40的作用下,透过区AA2的透过率可以与第二发光元件102的发光亮度成反比,实现透过率可调的同时,有利于提升显示效果。
在一些可选实施例中,请继续结合参考图6和图14,本实施例中,在像素显示区范围内,像素定义层40包括多个第三开口403,沿垂直于衬底基板20的方向Z,第三开口403贯穿像素定义层40,第一发光元件101位于第三开口403内;
在透过区AA2范围内,像素定义层40覆盖多个第二发光元件102;
像素定义层40远离衬底基板20的一侧开设有多个与第二发光元件102一一对应的第一凹槽404,沿垂直于衬底基板20的方向Z,第一凹槽404的深度h1与第二发光元件102的高度h2之和小于像素定义层40的厚度h3;第一凹槽404的表面上设置有第一反射结构104。
本实施例解释说明了将显示面板000中原有的像素定义层40复用为光致变色层103,通过在透过区AA2范围内的像素定义层40内掺杂银的卤化物和铜离子来实现像素定义层40在强光和暗光不同作用下透明度可调的功能时,可以仅在像素显示区AA1范围内,像素定义层40设置多个第三开口403,沿垂直于衬底基板20的方向Z,第三开口403贯穿像素定义层40,第一发光元件101位于第三开口403内,在像素显示区AA1范围内的第三开口403用于放置第一发光元件101,可选的,第三开口403的侧壁上可以设置第二反射结构4011。而在透过区AA2范围内,像素定义层40可以整体覆盖多个第二发光元件102,并通过在像素定义层40远离衬底基板20的一侧开设有多个与第二发光元件102一一对应的第一凹槽404,第一凹槽404的表面上设置第一反射结构104,实现第一反射结构104将第二发光元件102的出光均匀反射回透过区AA2的像素定义层40(光致变色层103)内,以进一步提高光线利用率,调整透过区AA2的透过率的效果。本实施例还设置了沿垂直于衬底基板20的方向Z,第一凹槽404的深度h1与第二发光元件102的高度h2之和小于像素定义层40的厚度h3,从而可以为第一凹槽404在像素定义层40远离衬底基板20的一侧开设提供了足够的膜层厚度,有利于第一反射结构104的设置效果。
在一些可选实施例中,请继续结合参考图6和图10,本实施例中,光致变色层103位于像素定义层40远离衬底基板10的一侧,光致变色层103的制作材料为银的卤化物和铜离子的复合物。
本实施例解释说明了透过区AA2设置的光致变色层103单独设置,可以位于像素定义层40远离衬底基板10的一侧,通过设置单独的膜层作为光致变色层103,可选的,光致变色层103的制作材料为银的卤化物和铜离子的复合物,光致变色层103可以仅在透过区AA2范围内制作(其余范围内的膜层段差可以通过光学胶等膜层填充补齐,如图10所示),从而在与第二发光元件102配合实现透过区AA2的透过率可调的同时,还可以避免光致变色层103对像素显示区AA1正常显示产生影响,进而有利于提高整个显示面板的显示效果。
在一些可选实施例中,请继续结合参考图6和图10,本实施例中,光致变色层103远离衬底基板20的一侧开设有多个与第二发光元件102一一对应的第二凹槽1031,沿垂直于衬底基板20的方向Z,第二凹槽1031至少部分贯穿光致变色层103;第二凹槽1031的表面上设置有第一反射结构104。
本实施例解释说明了透过区AA2设置的光致变色层103单独设置,可以位于像素定义层40远离衬底基板10的一侧,通过设置单独的膜层作为光致变色层103,光致变色层103远离衬底基板20的一侧开设有多个与第二发光元件102一一对应的第二凹槽1031,第一弧面结构的第一反射结构104可以蒸镀在该第二凹槽1031内并与第二凹槽1031的表面贴附。本实施例的弧面形状的第一反射结构104有利于更好的将第二发光元件102的出光反射回透过区AA2的光致变色层103内,以进一步提高光线利用率,调整透过区AA2的透过率。
在一些可选实施例中,请继续结合参考图6-图14,本实施例中,第一反射结构104的制作材料包括金属反射材料、银的卤化物、铜离子(图中未示意),第一反射结构104在第二发光元件102发光时透过率为A,第一反射结构104在第二发光元件102不发光时透过率为B,A<B。
本实施例解释说明了位于光致变色层103远离衬底基板20一侧的第一反射结构104也可以为可调透过率的结构,可以通过在第一反射结构104的制作材料中掺杂可实现透过率改变的材料来满足在强光和暗光不同作用下透过率可调的功能。可选的,第一反射结构104的制作材料包括金属反射材料、银的卤化物、铜离子,银的卤化物可以为AgCl、AgI、AgBr,优选的,AgBr的光致变色效果较佳。本实施例可以利用银的卤化物的遇光分解特性和氧化铜的催化作用来实现银的卤化物的分解与合成,以银的卤化物为AgBr为例,在第二发光元件102打开时,AgBr在强光作用下,AgBr分解为银和溴,Ag原子对可见光具有强吸收作用,进而使得第一反射结构104本身在第二发光元件102发光时透过率为A,当Ag原子积累到一定程度时,可使第二发光元件102出射在透过区AA2的大部分光均被第一反射结构104反射,即第一反射结构104仅作为反射作用。反之,在第二发光元件102关闭时,透过区AA2的光强减弱时,在氧化铜的催化下,Ag和Br重新结合成AgBr,第一反射结构104变为无色透明状态,此时第一反射结构104在第二发光元件102不发光时透过率为B,A<B,即在掺杂有银的卤化物和铜离子的第一反射结构104和光致变色层103的作用下,透过区AA2的透过率进一步得到提高,有利于显示面板000透过区AA2的透过率灵活可调,提升显示效果。
需要说明的是,本实施例对于第一反射结构104的制作材料中掺杂的金属反射材料、银的卤化物、铜离子的比例不作具体限定,仅需满足在第二发光元件102发光时第一反射结构104的透过率为A,反射作用大于透光作用,在第二发光元件102不发光时第一反射结构104的透过率为B,A<B即可,具体实施时,可根据实际需求选择设置。
在一些可选实施例中,请继续结合参考图6-图14,本实施例中,第一反射结构104中银的卤化物和铜离子的掺杂浓度大于光致变色层103中银的卤化物和铜离子的掺杂浓度。
本实施例进一步解释说明了设置光致变色层103和第一反射结构104中均掺杂有银的卤化物和铜离子时,即透过区AA2的透过率可以通过光致变色层103、第一反射结构104与第二发光元件103同时配合来调整,提升显示面板的显示效果,且可以设置第一反射结构104中银的卤化物和铜离子的掺杂浓度大于光致变色层103中银的卤化物和铜离子的掺杂浓度,以更好的实现第一反射结构104在强光下的反射效果,使第二发光元件102的出射光尽可能多的全部反射至整个透过区AA2范围内,更好的调节透过区AA2的透过率。
在一些可选实施例中,请结合参考图6和图15,图15是图6中沿A-A’向的另一种剖面结构示意图,本实施例中,第二发光元件102的出光面E1所在的平面垂直于显示面板000的出光面E。
本实施例进一步解释说明了可以设置第二发光元件102的出光面E1所在的平面垂直于显示面板000的出光面E,由于第二发光元件102的出光要尽量横向入射至光致变色层103中,以使光致变色层103中的银的卤化物和铜离子发生分解和合成反应,因此,本实施例设置第二发光元件102的出光面E1所在的平面垂直于显示面板000的出光面E,可以在避免第二发光元件102的出光垂直出射至显示面板000的出光面E,影响正常显示的同时,还可以使第二发光元件102尽量多的出光入射至光致变色层103,实现透过区AA2的透过率可调,进一步提高显示品质。
在一些可选实施例中,请继续结合参考图6-图15,本实施例中,第一发光元件101的发光颜色包括红色、蓝色和绿色,第二发光元件102的发光颜色包括蓝色和绿色。可选的,第二发光元件102的发光颜色为蓝色。
本实施例解释说明了每个像素单元10的像素显示区AA1的多个第一发光元件101可以包括多种不同颜色的发光元件,如红色发光元件、绿色发光元件、蓝色发光元件,像素显示区AA1用于正常显示不同颜色;而每个像素单元10的透过区AA2至少包括一个第二发光元件102,可选的,透过区AA2的一个第二发光元件102可以为与像素显示区AA1的一种第一发光元件101发出相同颜色光的发光元件,例如绿色发光元件或者蓝色发光元件。蓝色发光元件相对于绿色发光元件和红色发光元件而言,光子能量更好,能有效地促进光化学反应,且一般而言,蓝色发光元件的出光效率最高,绿色发光元件次之,红色发光元件最差。本实施例的第二发光元件102可以选用绿色发光元件或者蓝色发光元件,优选的第二发光元件102的发光颜色为蓝色,由于蓝色发光元件的出光效率较高,对应的光子能量更好,从而可以使第二发光元件102入射至光致变色层103的光线利用率更高,有利于透过区AA2的透过率的调节效率。
在一些可选实施例中,请参考图16,图16是本发明实施例提供的一种显示装置的平面结构示意图,本实施例提供的显示装置111,包括本发明上述实施例提供的显示面板000。图16实施例仅以手机为例,对显示装置111进行说明,可以理解的是,本发明实施例提供的显示装置111,可以是电脑、电视、车载显示装置等其他具有显示功能的显示装置111,本发明对此不作具体限制。本发明实施例提供的显示装置111,具有本发明实施例提供的显示面板000的有益效果,具体可以参考上述各实施例对于显示面板000的具体说明,本实施例在此不再赘述。
通过上述实施例可知,本发明提供的显示面板和显示装置,至少实现了如下的有益效果:
本发明的显示面板的像素单元用于布设发出不同颜色光的子像素,其中,每个像素单元包括像素显示区和透过区,像素显示区包括多个第一发光元件,像素显示区用于正常显示;每个像素单元的透过区至少包括一个第二发光元件,透过区的第二发光元件的数量可以为一个,从而可以避免数量过多的第二发光元件对透过区的透过率造成影响,从而对透明显示造成影响。本发明的透过区范围内,在第二发光元件靠近显示面板出光面一侧还设置有光致变色层,光致变色层向显示面板出光面的正投影覆盖第二发光元件向显示面板出光面的正投影,第二发光元件发出的光可以进入整个透过区,经过光致变色层,通过控制第二发光元件的发光与否来调节光致变色层的透明度进而改变透过区的透过率。本发明通过在显示面板的每个像素单元的透过区设置第二发光元件,使第二发光元件发出的光经过光致变色层后,入射至整个透过区,第二发光元件和光致变色层的设置,可以使透过区在第二发光元件打开和关闭时出现不同的透过率,从而实现显示面板的透过率可调的功能,由于本发明的像素显示区用于正常显示不同颜色的画面,因此每个像素单元的像素显示区和透过区互不干扰,进而能够实现透过率可调的同时,还有利于提升显示效果。
虽然已经通过例子对本发明的一些特定实施例进行了详细说明,但是本领域的技术人员应该理解,以上例子仅是为了进行说明,而不是为了限制本发明的范围。本领域的技术人员应该理解,可在不脱离本发明的范围和精神的情况下,对以上实施例进行修改。本发明的范围由所附权利要求来限定。
Claims (18)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:多个阵列排布的像素单元,每个所述像素单元包括像素显示区和透过区,所述像素显示区包括多个第一发光元件,所述透过区至少包括一个第二发光元件和光致变色层;
所述光致变色层位于所述第二发光元件靠近所述显示面板出光面一侧,且所述光致变色层向所述显示面板出光面的正投影覆盖所述第二发光元件向所述显示面板出光面的正投影;
所述第二发光元件发出的光经过所述光致变色层后,进入所述透过区,调节所述透过区的透过率;
在所述透过区范围内,所述显示面板还包括多个第一反射结构,所述第一反射结构位于所述光致变色层远离所述第二发光元件一侧,所述第一反射结构向所述显示面板出光面的正投影覆盖所述第二发光元件向所述显示面板出光面的正投影。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一反射结构为第一弧面结构,且所述第一反射结构的底部朝背离所述显示面板出光面的一侧凹陷形成所述第一弧面结构。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,沿远离所述第一反射结构的底部方向,所述第一弧面结构上各处的曲率半径逐渐减小。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板至少包括:
衬底基板;
阵列层,所述阵列层位于所述衬底基板的一侧;
像素定义层,所述像素定义层位于所述阵列层远离所述衬底基板的一侧;发光层,所述发光层位于所述阵列层远离所述衬底基板的一侧;所述发光层包括多个所述第一发光元件和多个所述第二发光元件。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,
所述像素定义层包括多个第一开口和多个第二开口,沿垂直于所述衬底基板的方向,所述第一开口和所述第二开口分别贯穿所述像素定义层,所述第一发光元件位于所述第一开口内,所述第二发光元件位于所述第二开口内;
所述显示面板还包括封装层,所述封装层位于所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧,所述第一反射结构位于所述封装层远离所述衬底基板的一侧。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一开口的侧壁上设置有第二反射结构,所述第二反射结构围绕所述第一发光元件设置。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一开口的侧壁为第二弧面结构;在平行于所述衬底基板所在平面的方向上,所述第一开口的侧壁朝远离所述第一发光元件的方向凹陷形成所述第二弧面结构。
8.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一开口的侧壁为斜面结构。
9.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层复用为所述光致变色层,在所述透过区范围内,所述像素定义层内掺杂有银的卤化物和铜离子。
10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,在所述像素显示区范围内,所述像素定义层包括多个第三开口,沿垂直于所述衬底基板的方向,所述第三开口贯穿所述像素定义层,所述第一发光元件位于所述第三开口内;
在所述透过区范围内,所述像素定义层覆盖多个所述第二发光元件;
所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧开设有多个与所述第二发光元件一一对应的第一凹槽,沿垂直于所述衬底基板的方向,所述第一凹槽的深度与所述第二发光元件的高度之和小于所述像素定义层的厚度;
所述第一凹槽的表面上设置有所述第一反射结构。
11.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,
所述光致变色层位于所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧,所述光致变色层的制作材料为银的卤化物和铜离子的复合物。
12.根据权利要求11所述的显示面板,其特征在于,
所述光致变色层远离所述衬底基板的一侧开设有多个与所述第二发光元件一一对应的第二凹槽,沿垂直于所述衬底基板的方向,所述第二凹槽至少部分贯穿所述光致变色层;
所述第二凹槽的表面上设置有所述第一反射结构。
13.根据权利要求9或11任一项所述的显示面板,其特征在于,
所述第一反射结构的制作材料包括金属反射材料、银的卤化物、铜离子,所述第一反射结构在所述第二发光元件发光时透过率为A,所述第一反射结构在所述第二发光元件不发光时透过率为B,A<B。
14.根据权利要求13所述的显示面板,其特征在于,所述第一反射结构中银的卤化物和铜离子的掺杂浓度大于所述光致变色层中银的卤化物和铜离子的掺杂浓度。
15.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二发光元件的出光面所在的平面垂直于所述显示面板的出光面。
16.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二发光元件的发光颜色为蓝色。
17.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述透过区的透过率与所述第二发光元件的发光亮度成反比。
18.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-17任一项所述的显示面板。
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