CN112011762A - 一种蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种蒸镀装置，蒸镀装置包括盒体、若干个蒸镀源和若干个反射板，盒体设有上方为敞口的腔体；若干个蒸镀源位于腔体内，且若干个蒸镀源设置有若干个朝上的喷嘴；若干个反射板搭接于腔体内壁，反射板上表面设有敞口朝上且沿反射板长度方向延伸的反射凹槽，反射凹槽内开设有若干个贯通孔，若干个喷嘴从对应的若干个贯通孔中伸出且突出于反射板表面。本申请蒸镀装置能够阻止蒸镀物质生长于反射板上，进而能够阻止蒸镀物质层叠于喷嘴上。

Description

一种蒸镀装置

技术领域

本申请涉及蒸镀设备技术领域，特别是涉及一种蒸镀装置。

背景技术

蒸镀装置用于对蒸镀物质进行蒸发和喷射，以在基板上形成有机膜。然而，现有技术中的蒸镀装置存在蒸镀物质堆积造成喷嘴堵孔的问题。

发明内容

本申请提供一种蒸镀装置，以解决长时间蒸镀过程中，蒸镀物质堆积造成喷嘴堵孔的问题。

为解决上述技术问题，本申请提出一种蒸镀装置，包括：盒体，设有上方为敞口的腔体；若干个蒸镀源，位于腔体内，且设置有朝上的若干个喷嘴；若干个反射板，搭接于腔体内壁，反射板上表面设有敞口朝上且沿反射板长度方向延伸的反射凹槽，反射凹槽内开设有若干个贯通孔，若干个喷嘴从对应的若干个贯通孔中伸出且突出于反射板表面。

其中，反射凹槽的敞口在反射板宽度方向上的宽度大于等于69mm，且小于等于79mm。此种设置方式可进一步阻止蒸镀物质搭接于喷嘴处。

其中，反射凹槽的槽底在反射板宽度方向上的宽度大于等于46mm，且小于等于55mm。此种设置方式可进一步阻止蒸镀物质搭接于喷嘴处。

其中，反射凹槽在反射板宽度方向的纵截面形状为倒置等腰梯形。此种设置方式有利于均匀化地降低蒸镀物质对喷嘴的影响。

其中，贯通孔在反射板宽度方向的宽度大于等于25mm，且小于等于29mm。通过将贯通孔设置在此范围内，便于将喷嘴设置于其中。

其中，反射板包括第一反射区域、第二反射区域和第三反射区域，第二反射区域位于第一反射区域和第三反射区域之间，第一反射区域和第三反射区域为两层反射板层，第二反射区域为小于等于三层反射板层。提供了反射板的一种可实施方式。

其中，第二反射区域为三层反射板层。此种设置方式使得腔体内的温度达到能够将蒸镀物质蒸发。

其中，蒸镀装置包括：冷却板，至少部分覆盖反射板外周，冷却板上形成有至少一个冷却槽，反射板部分区域、反射凹槽、贯通孔和喷嘴均位于冷却槽内。

其中，冷却槽在反射板长度方向的长度大于等于1297mm，且小于等于1307mm；和/或，冷却槽在反射板宽度方向的宽度大于等于88mm，且小于等于98mm。此种设置方式通过增大冷却槽的面积，将反射板上正对冷却槽周围的蒸镀物质挥发，防止蒸镀物质从冷却槽周围向中间喷嘴处层叠。

其中，喷嘴突出于反射板表面的高度大于等于13mm，且小于等于15mm。此种设置方式能在避免蒸镀物质蒸镀的角度发生变化的基础上进一步降低蒸镀物质搭接于喷嘴上。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请提供一种蒸镀装置，在反射板上表面设有敞口朝上且沿反射板长度方向延伸的反射凹槽，反射凹槽内开设有若干个贯通孔，若干个喷嘴从对应的若干个贯通孔中伸出且突出于反射板表面，增大了喷嘴与反射板上表面之间的间隔距离，以阻止蒸镀物质在反射板其宽度方向上的堆积。通过上述方式，能够阻止蒸镀物质生长于反射板上，进而能够阻止蒸镀物质层叠于喷嘴上。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，其中：

图1是本申请蒸镀装置第一实施例的立体示意图；

图2是本申请蒸镀装置第二实施例的截面图；

图3是本申请反射板第一实施例的平面图；

图4是本申请反射板第二实施例的局部立体图；

图5是本申请反射板第三实施例的爆炸示意图；

图6是本申请冷却板第一实施例的平面图；

图7是本申请冷却板第二实施例的立体图。

附图标号：1、盒体；11、腔体；2、蒸镀源；21、喷嘴；3、反射板；31、反射凹槽；32、贯通孔；33、第一反射区域；34、第二反射区域；35、第三反射区域；4、冷却板；41、冷却槽；5、反射框架；6、角度限位板。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本申请的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对发明所提供的一种蒸镀装置做进一步详细描述。

发明人长期研究发现，在长时间的蒸镀过程中，蒸镀物质极易生长，爬到喷嘴口上，出现蒸镀物质堵孔，影响有机膜厚度的均一性，进而导致色坐标(chromaticitycoordinate，CIE)超出产品规格，色偏(Just Noticeable Color Difference，JNCD)超出规格，最终导致产品报废；同时，出现堵孔难以通过其他方法进行重新校准膜厚，只能开腔进行人为处理，影响整体的蒸镀时长，导致产能下降，发生时会造成大批量产品报废。

基于此，本申请提供了一种蒸镀装置，以解决上述问题，具体如下所示。

请参阅图1、图2、图3和图4，图1是本申请蒸镀装置第一实施例的立体示意图；图2是本申请蒸镀装置第二实施例的截面图(未示出反射凹槽)；图3是本申请反射板第一实施例的平面图；图4是本申请反射板第二实施例的局部立体图。

本实施例蒸镀装置包括盒体1和若干个蒸镀源2，盒体1设有上方为敞口的腔体11，若干个蒸镀源2位于腔体11内，蒸镀源2内放置有蒸镀物质，用于在基板上形成有机膜。其中蒸镀源2可以为线性蒸镀源等。若干个蒸镀源2设置有若干个朝上的喷嘴21，加热升温后的蒸镀物质从喷嘴21蒸镀于基板上，蒸镀源2上的喷嘴21数量可以为一个或者多个，其数量根据实际情况进行设定。

蒸镀装置还包括若干个反射板3，若干个反射板3搭接于腔体11内壁。当蒸镀装置只蒸镀一种蒸镀物质时，可以为一个腔体，其中反射板搭接于腔体两侧上，当然也可以设置多个腔体，只蒸镀一种蒸镀物质。当蒸镀装置蒸镀多种蒸镀物质时，盒体1内的腔体11分隔成多个不同的分腔体，每个分腔体内设置有对应的蒸镀源2，每个分腔体内壁搭接反射板3。蒸镀装置中的腔体和反射板数量在此不做限定。

由于反射板3其宽度方向短于其长度方向，使得反射板3其宽度方向上极易堆积蒸镀物质，慢慢地蒸镀物质会搭接于喷嘴21上，因此本实施例在反射板3上表面设有反射凹槽31，其中反射凹槽31呈敞口朝上且沿反射板3长度方向延伸，以阻止蒸镀物质在反射板3其宽度方向上的堆积。

具体地，通过在反射凹槽31内开设有若干个贯通孔32，若干个喷嘴21从对应的若干个贯通孔32中伸出，增大了喷嘴21与反射板3上表面之间间隔距离，蒸镀物质先堆积于反射凹槽31内。而反射凹槽31内设置有贯通孔32，贯通孔32与腔体11连通，腔体11内部分热量通过贯通孔32直接对堆积于反射凹槽31中部分蒸镀物质进行加热，使之蒸发，进而阻止蒸镀物质在喷嘴21处堆积，从而阻止蒸镀物质层叠于喷嘴21上，防止喷嘴21堵孔。同时，本实施例中若干个喷嘴21突出于反射板3表面，使得蒸镀物质达到一定高度后，才能实现蒸镀物质在喷嘴21的搭接，进而可进一步阻止蒸镀物质搭接于喷嘴21处。

上述贯通孔32的大小需要根据喷嘴21数量以及其分布情况而设定。如蒸镀源上喷嘴21数量为两端密集而中间稀疏时，分布于反射凹槽31上两端贯通孔32的大小大于其中间贯通孔32的大小，在此不做限定，只要贯通孔32能够配合喷嘴21即可。

为了增大反射凹槽31的敞口边缘与喷嘴21之间的距离，在一实施例中，反射凹槽31的敞口在反射板3宽度方向上的宽度大于等于69mm且小于等于79mm，如图3所示箭头所指示的X1，其中反射凹槽31的敞口在反射板3宽度方向上的宽度可以为69mm、70mm、71mm、72mm、73mm、74mm、75mm、76mm、77mm、78mm、79mm等。

为了增大反射凹槽31的槽底边缘与喷嘴21之间的距离，在另一实施例中，在反射凹槽31的槽底在反射板3宽度方向上的宽度大于等于46mm且小于等于55mm，如图3所示箭头所指示的X2，其中反射凹槽31的槽底在反射板3宽度方向上的宽度可以为46mm、47mm、48mm、49mm、50mm、51mm、52mm、53mm、54mm、55mm等。

当然，在替代的实施例中，为了同时增大反射凹槽31敞口和槽底边缘与喷嘴21之间的距离，将反射凹槽31的敞口在反射板3宽度方向上的宽度设置在69mm与79mm之间的同时，还将反射凹槽31的槽底在反射板3宽度方向上的宽度设置在46mm与55mm之间。当反射凹槽31的敞口在反射板3宽度方向上的宽度设置为上述任意值以及反射凹槽31的槽底在反射板3宽度方向上的宽度设置为上述任意值时，反射凹槽31的敞口和槽底之间形成有倾斜面，该倾斜面进一步增大了反射凹槽31和喷嘴21之间的距离，能够阻止蒸镀物质搭接于喷嘴21上。

在实际过程中，设置反射凹槽31的敞口在反射板3宽度方向上的宽度以及反射凹槽31的槽底在反射板3宽度方向上的宽度后，为了均匀化地降低蒸镀物质对喷嘴21的影响，本实施例反射凹槽31在反射板3宽度方向的纵截面形状为倒置等腰梯形。贯通孔32刚好设置在等腰梯形底部中间，如图3和图4所示贯通孔32设置于反射凹槽31的敞口以及反射凹槽31槽底中间。

由于现有的蒸镀源两端容易出现喷嘴堵孔的问题，为了增大蒸镀源两端蒸镀物质的挥发，本实施例通过增大反射板3两端的贯通孔32在其宽度方向的宽度来增大贯通孔32与喷嘴21之间的距离，进而使得腔体11部分热量从贯通孔32和喷嘴21之间的间隙中散出，从而直接对层叠在喷嘴21以及贯通孔32周围的蒸镀物质进行加热，从而实现对蒸镀物质的挥发。具体地，贯通孔32在反射板3宽度方向的宽度大于等于25mm且小于等于29mm，如图3所示箭头所指示的X3，贯通孔32在反射板3宽度方向的宽度可以为25mm、26mm、27mm、28mm、29mm等。为了实现对蒸镀物质去除的均匀性，喷嘴21设置于贯通孔32在反射板3宽度方向的中心上。当然，在实际过程中，也可以考虑增大反射板3中间贯通孔32在其宽度方向的宽度大小或在反射板3长度方向的宽度大小，在此不做限定。

请参阅图5，图5是本申请反射板第三实施例的爆炸示意图。

由于现有部分蒸镀源上设置喷嘴数量两端密集而中间较为稀疏，导致两端喷嘴密集处的层叠蒸镀物质较中间喷嘴的蒸镀物质多，因此，两端喷嘴密集处相对于中间喷嘴需要更高的温度来加热蒸镀物质，结合图1、图2和图3所示，故本实施例通过将反射板3分成第一反射区域33、第二反射区域34和第三反射区域35，第二反射区域34位于第一反射区域33和第三反射区域35之间，其中第二反射区域34的反射板层数均大于第一反射区域33的反射板层数和第三反射区域35的反射板层数，以满足蒸镀源2上喷嘴21两端密集、中间稀疏的分布。可选地，将第一反射区域33和第三反射区域35反射板层数设置为两层，第二反射区域34的反射板层数设置为小于等于三层，使得腔体11内的热量能够更快地传递到反射板3上表面，以提高反射板3上表面的温度，进而加热层叠在反射板3上表面的蒸镀物质，降低反射板3上面蒸镀物质含量。优选地，当蒸镀物质为形成蓝光物质的有机物质时，如图5所示，第一反射区域33和第三反射区域35中的反射板层数均为两层，而第二反射区域34中的反射板层数为三层。

具体地，为了提高层叠于反射板3上表面的蒸镀物质均匀性，将第二反射板3区域的反射板层数设置为三层，以使得腔体11内的温度达到能够将蒸镀物质蒸发即可。

请参阅图6和图7，图6是本申请冷却板第一实施例的平面图；图7是本申请冷却板第二实施例的立体图。

结合图1和图2，本实施例蒸镀装置还包括冷却板4，冷却板4用于防止热量传递到真空腔内，冷却板4起到阻挡作用。冷却板4至少部分覆盖反射板3外周，冷却板4形成有至少一个冷却槽41，其中冷却槽41数量为一个或者多个，其数量根据腔体11以及反射板3的数量而定。如腔体数量为一个，反射板数量为一个时，冷却板形成一个相关的冷却槽，其中反射板中间区域、反射凹槽、贯通孔以及喷嘴位于该冷却槽内；如图2所示，如分腔体数量为三个时，反射板3数量为三个，冷却板4上形成三个相关的冷却槽41，其中反射板3搭接于分腔体的内壁上，每个反射板3对应的中间区域部分、反射凹槽31、贯通孔32以及喷嘴21均位于对应的冷却槽41内。

为了提高冷却槽41长度方向两端以及宽度方向两端中蒸镀物质挥发的均匀性，喷嘴21以及贯通孔32均设置于其长度方向以及宽度方向两端中间内。由于冷却板4上设置有角度限位板6，通过上述方式，能够实现角度限位板6的稳定安装，防止冷却槽41其宽度方向一端较窄，而导致角度限位板6安装不稳。

为了降低冷却槽41周围层叠的蒸镀物质，本实施例将冷却槽41在反射板3长度方向的长度设置为大于等于1297mm且小于等于1307mm，以增大冷却槽41在反射板3长度方向的长度，从而将冷却槽41两端上的蒸镀物质挥发，以防止蒸镀物质从其长度方向两端向中间慢慢层叠。其中，冷却槽41在反射板3长度方向上的长度，如图6所示箭头所指示的X4。具体地，冷却槽41在反射板3长度方向的长度可以为1297mm、1300mm、1301mm、1307mm等。

在另一实施例中，为了降低冷却槽41周围层叠的蒸镀物质，本实施例将冷却槽41在反射板3宽度方向的宽度大于等于88mm且小于等于98mm，以增大冷却槽41在反射板3宽度方向的宽度，从而将冷却槽41两端上的蒸镀物质挥发，以防止蒸镀物质从其宽度方向两端向中间慢慢层叠。其中，冷却槽41在反射板3宽度方向上的宽度，如图6所示箭头所指示的X5。具体地，冷却槽41在反射板3宽度方向的宽度可以为88mm、90mm、92mm、98mm等。

当然，在替代的实施例中，通过将冷却槽41在反射板3长度方向的长度设置为大于等于1297mm且小于等于1307mm，且冷却槽41在反射板3宽度方向的宽度设置为大于等于88mm且小于等于98mm，以增大冷却槽41的面积，将反射板3上正对冷却槽41周围的蒸镀物质挥发，防止蒸镀物质从冷却槽41周围向中间喷嘴21处层叠；同时，冷却板4面积增大能够使得腔体11达到反射板3上温度更高，进一步对蒸镀物质进行加热，使其挥发。

请回阅图1和图2，在一实施例中，为了进一步降低蒸镀物质搭接于喷嘴21上，可以增大喷嘴21的高度值，即通过将喷嘴21突出于反射板3表面的高度设置为大于等于13mm。同时，为了防止喷嘴21过高，而导致蒸镀物质蒸镀的角度发生变化，喷嘴21突出于反射板3表面的高度设置为小于等于15mm。其中，喷嘴21突出于反射板3表面的高度值可以为13mm、14mm、15mm等。

在实际过程中，为了将反射板3能够稳定地搭接在腔体11内，反射板3设置于反射框架5内，反射框架5搭接在腔体11内。其中，冷却板4设置于反射框架5上。

本实施例蒸镀装置在反射板上表面设有敞口朝上且沿反射板长度方向延伸的反射凹槽，反射凹槽内开设有若干个贯通孔，若干个喷嘴从对应的若干个贯通孔中伸出且突出于反射板表面，增大了喷嘴与反射板上表面之间的间隔距离，以阻止蒸镀物质在反射板其宽度方向上的堆积。通过上述方式，能够阻止蒸镀物质生长于反射板上，进而能够阻止蒸镀物质层叠于喷嘴上。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：

盒体，设有上方为敞口的腔体；

若干个蒸镀源，位于所述腔体内，且设置有朝上的若干个喷嘴；

若干个反射板，搭接于所述腔体内壁，所述反射板上表面设有敞口朝上且沿所述反射板长度方向延伸的反射凹槽，所述反射凹槽内开设有若干个贯通孔，所述若干个喷嘴从对应的所述若干个贯通孔中伸出且突出于所述反射板表面。

2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述反射凹槽的敞口在所述反射板宽度方向上的宽度大于等于69mm，且小于等于79mm。

3.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述反射凹槽的槽底在所述反射板宽度方向上的宽度大于等于46mm，且小于等于55mm。

4.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述反射凹槽在所述反射板宽度方向的纵截面形状为倒置等腰梯形。

5.根据权利要求1-4任一所述的蒸镀装置，其特征在于，所述贯通孔在所述反射板宽度方向的宽度大于等于25mm，且小于等于29mm。

6.根据权利要求1-4任一所述的蒸镀装置，其特征在于，所述反射板包括第一反射区域、第二反射区域和第三反射区域，所述第二反射区域位于所述第一反射区域和所述第三反射区域之间，所述第一反射区域和所述第三反射区域为两层所述反射板层，所述第二反射区域为小于等于三层所述反射板层。

7.根据权利要求6所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第二反射区域为三层所述反射板层。

8.根据权利要求1-4任一所述的蒸镀装置，其特征在于，包括：

冷却板，至少部分覆盖所述反射板外周，所述冷却板上形成有至少一个冷却槽，所述反射板部分区域、所述反射凹槽、所述贯通孔和所述喷嘴均位于所述冷却槽内。

9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，所述冷却槽在所述反射板长度方向的长度大于等于1297mm，且小于等于1307mm；和/或，

所述冷却槽在所述反射板宽度方向的宽度大于等于88mm，且小于等于98mm。

10.根据权利要求1-4任一所述的蒸镀装置，其特征在于，所述喷嘴突出于所述反射板表面的高度大于等于13mm，且小于等于15mm。

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