CN111965945A - 曝光平台装置及曝光机 - Google Patents

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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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    • G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature

Abstract

本发明提供一种曝光平台装置及曝光机，包括工作平台和调整机构，工作平台具有承载面，承载面用以承载玻璃基板，工作平台由多个互相独立的平台组合形成，多个独立平台的上表面组成所述承载面，调整机构与多个独立平台连接，调整机构可单独调整多个独立平台中每个独立平台的高度；本发明通过将工作平台划分成多个独立的平台，减少了制造成本，当工作平台的某个独立平台发生损坏时，只需要更换部分损坏的独立平台，提高了更换的便利性，节约了更换成本，同时通过调整装置可分别调整多个独立平台的高度，使工作平台的调整更加容易。

Description

曝光平台装置及曝光机
技术领域
本申请涉及显示制造技术领域，具体涉及一种曝光平台装置及曝光机。
背景技术
在有机发光半导体显示器(OrganicLight-Emitting Diode,OLED)和液晶显示器(Liquid Crystal Dispaly，LCD)的制备过程中，需要通过曝光显影技术将光罩上的图形转移到玻璃基板的图层上，随着显示面板尺寸的不断增大，曝光设备的平台尺寸也越来越大，大尺寸的平台制造成本较高，在发生损坏时的更换成本也较高，并且大尺寸的平台在调整高度时也较为困难。
发明内容
本申请提供一种曝光平台装置及曝光机，将曝光平台划分成多个独立的平台，减少了制造成本，当部分独立平台发生损坏时只需要更换损坏的部分平台，减少了更换成本，通过调整装置可调整多个独立平台的高度，使得整体曝光平台的调整更加容易。
第一方面，本实施方案提供了一种曝光平台装置，包括工作平台和调整机构；
所述工作平台具有承载面，所述承载面用以承载基板，所述工作平台由多个独立平台组合形成，所述多个独立平台的上表面组成所述承载面；
所述调整机构与所述多个独立平台连接，所述调整机构可单独调整所述多个独立平台中每个独立平台的高度。
在一些实施方案中，所述工作平台的正投影为矩形，所述多个独立平台的正投影组成所述矩形。
在一些实施方案中，所述工作平台包括四个独立平台，所述四个独立平台的正投影均为矩形，所述四个独立平台组合形成所述工作平台，所述工作平台的正投影为矩形。
在一些实施方案中，所述工作平台还包括一个顶点平台，所述顶点平台位于所述工作平台中心，所述顶点平台与所述四个独立平台相邻。
在一些实施方案中，所述调整机构包括推拉装置、多个调整块和多个滑轨，所述多个独立平台中每个独立平台的底部对应有所述多个调整块，所述多个调整块设置在对应的独立平台的底部，所述多个调整块与所述多个滑轨一一对应，所述多个调整块与所述多个滑轨可滑动地连接，所述推拉装置与所述多个调整块固定连接，所述多个调整块均具有朝向对应的独立平台底部的斜面。
在一些实施方案中，所述推拉装置包括多个调节螺栓和多个固定螺母，所述多个调节螺栓和所述多个固定螺母一一对应，所述多个调节螺栓与所述多个固定螺母啮合，所述多个调整块中每个调整块与至少一个所述调节螺栓固定连接。
在一些实施方案中，所述每个独立平台的底部设有至少三个调整块，所述调整块分布在所述工作平台边缘，所述多个调整块与所述多个滑轨一一对应。
在一些实施方案中，所述工作平台上设有真空吸附装置，所述真空吸附装置由所述工作平台中心向所述工作平台边缘逐个分布。
在一些实施方案中，所述工作平台的内部设有冷却水管路，所述冷却水管路交叉穿过所述多个独立平台。
第二方面，本实施方案提供了一种曝光机，包括本实施方案中提供的曝光平台装置。
本申请实施方案提供一种曝光平台装置和曝光机，将工作平台划分成多个独立平台，多个独立平台组成完整工作平台，多个独立平台的制造相对整个大的工作平台的制造更加简单，减少了制造成本，当工作平台的某个独立平台发生损坏时，只需要更换部分损坏的独立平台，提高了更换的便利性，节约了更换成本，同时通过调整装置可分别独立调整多个独立平台的高度，使工作平台的调整更加容易，调节更加细致。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请提供的曝光平台装置一个实施例的示意图；
图2为本申请提供的曝光平台装置另一个实施例的示意图；
图3为本申请提供的曝光平台装置另一个实施例的示意图；
图4为本申请提供的曝光平台装置另一个实施例的示意图；
图5为本申请提供的曝光平台装置另一个实施例的示意图；
图6为本申请中提供的调整机构和独立平台的一个实施例的示意图；
图7为本申请中提供的调整机构和独立平台的另一个实施例的示意图；
图8本申请提供的曝光平台装置另一个实施例的示意图；
图9本申请提供的曝光平台装置另一个实施例的示意图；
图10本申请提供的曝光平台装置另一个实施例的示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
本申请实施例提供一种曝光平台装置及曝光机，以下分别进行详细说明。
首先，本申请提供一种曝光平台装置，曝光平台装置包括工作平台100和调整机构200，工作平台100具有承载面102，承载面102用以承载被曝光的玻璃基板，工作平台100由多个独立平台组合形成，当工作平台100发生损坏时，只需要更换损坏的独立平台，节约了更换成本；在曝光过程中，需要调整工作平台100上承载面102的平坦度以确保被曝光的玻璃基板是被平整地放置的，调整机构200与多个互相独立的平台连接，调整机构200用以调整多个独立平台的高度，多个独立平台的上面表面组合形成工作平台100的承载面102，多个独立平台可在调整机构200的调整下、使其上表面位于同一平面内，以此保证承载面101的平坦度；多个独立平台可分别独立地调节高度，使得工作平台100的调整更加容易。
图1为本申请提供的曝光平台装置第一种实施例的示意图，工作平台100被划分成四个独立平台101，四个独立平台101的正投影为矩形，四个独立平台101组合形成的工作平台100为矩形结构，调整机构200可分别调整四个独立平台的高度，使四个独立平台的上表面位于同一平面内。
在本申请实施例中，如图2所示，图2为本申请提供的曝光平台装置第二种实施例的示意图。工作平台100被划分成四个独立的平台，四个独立平台为三角形结构，四个独立平台组合形成的工作平台100为矩形结构，调整机构200可分别调整四个独立平台的高度，使四个独立平台的上表面位于同一平面内。
可以理解的是，独立平台的数量和每个独立平台的尺寸可根据实际情况确定；例如图3中所示，工作平台100被划分成六个独立的平台，在工作平台100较长的一边上设有三个独立平台，较短的一边设有两个独立平台，独立平台的分布可根据被曝光基板的尺寸进行调整，如图4所示，工作平台被划分成八个独立的平台，如图5所示，工作平台被划分成十二个独立的平台；在确保可行性和制造成本尽可能低的前提下，独立平台的数量、每个独立平台的尺寸以及多个独立平台的分布均可进行调整，在此不作限定。
为了使各个独立平台101在调节高度时能有一个参照，确保各个独立平台101的高度一致，在一些实施例中，如图8所示，工作平台100还包括一个顶点平台110，所述顶点平台位于所述工作平台中心，顶点平台110与四个独立平台101相邻，四个独立平台101共用一个顶点平台110，在调节独立平台101的高度时，每一个独立平台101以顶点平台110的高度为参照，将独立平台101调节到与顶点平台110的高度一致，使独立平台101的上表面与顶点平台110的上表面位于同一平面内，由此可以保证多个独立平台101的上表面所组成的承载面102是平坦的；在本申请实施例中，顶点平台110的正投影为圆形，可以理解的是，顶点平台110也可根据实际情况进行调整，例如三角形或矩形，在此不作限定。
在本申请实施例中，如图6所示，调整机构200包括推拉装置203、多个调整块201和多个滑轨202，调整块201位于独立平台101的底部，调整块200上设有朝向工作平台100底部的斜面206，调整块201与滑轨202可滑动地连接，在推拉装置203的推动和拉动下，调整块201可沿滑轨202移动；调整块201具有朝向工作平台100底部的斜面206，如图6所示，当推拉装置203推动调整块201向右移动时，独立平台101向上移动，当推拉装置203拉动调整块200向左移动时，独立平台101向下移动，通过调整块201的移动实现独立平台101高度的调节，并通过调节多个独立平台101的高度来调整工作平台100上承载面102的平坦度。
为了使调整块201能更容易地调节独立平台101的高度，在一些实施例中，如图7所示，独立平台101上设有与斜面206相对应的斜面207，当调整块201向右移动时，调整块201和独立平台101之间实现面接触，调整块201推动独立平台101向上移动，该方案比起独立平台101不设置斜面时调节更加容易，同时由于是面与面接触，调整块201上的斜面206不容易被划伤，调整机构200的耐用性得到了提高。
为了降低成本，并使推拉装置203的结构简单，在一些实施例中，如图6所示，推拉装置203包括多个调节螺栓204和多个固定螺母205，多个调节螺栓204和多个固定螺母205一一对应，调节螺栓204与固定螺母205啮合，调节螺栓204的一端与调整块201固定连接；固定螺母205固定不动，当调节螺栓204被拧动时，调节螺栓204向左或向右移动，调节螺栓204带动调节块201向左或向右移动，调节块201使得独立平台101可以向上或向下运动，推拉装置203采用螺栓和螺母配合的结构，结构简单，成本较低；可以理解的是，推拉装置203也可根据实际情况采用其他的结构，例如液压装置等，在此不作限定。
需要说明的是，每个调整块201固定连接的调节螺栓204数量不限于一个，在一些实施例中，如图7所示，调整块201固定连接有两个调节螺栓204，当需要调节独立平台101的高度时，同时拧动两个调节螺栓204，使调整块201向左或向右运动；与只在调整块201上设置一个调节螺栓204相比，同时设置两个调节螺栓204，能使调节螺栓204上的受力更小，提升力耐用性，并且让调整块201的移动更加容易；每个调整块201所对应的调节螺栓204数量，可根据实际情况进行调整，在此不作限定。
为了使独立平台101在调整高度时更加容易，在一些实施例中，如图8所示，每个独立平台101的底部设有三个调整块201，调整块201位于独立平台101的三个顶点处，调整块201分布在工作平台100的边缘；当需要调整独立平台101的高度时，同时移动调整块201，使独立平台101上升或下降，在独立平台101的三个顶点处设置三个调整块201，可以使每个调整块201的受力更均匀，提升了耐用性，同时让独立平台101的高度调整变的更加容易，可以理解的是，每个独立平台101底部设有的调整块201不限于三个，可在成本可控的前提下增加调整块201的数量，例如四个或者五个，此处不作限定。
当玻璃基板被放置在工作平台100上时，玻璃基板和工作平台100之间会存在空气，玻璃基板和工作平台100之间残留的空气会造成玻璃基板上的温度不均匀，影响曝光精度；在本申请实施例中，如图9所示，工作平台100上设有真空吸附装置112，真空吸附装置112由工作平台100的中心向边缘逐个分布，真空吸附装置112在吸附时的工作顺序被设为从工作平台100中心向工作平台100四周吸附，以使玻璃基板能被更平整的吸附到工作平台100上；可以理解的是，真空吸附装置112的分布可以根据实际情况进行调整，此处不作限定。
为了提高曝光精度，玻璃基板上各区域的温度需要保持一致，由此工作平台100上不同区域的温度也需要保持一致，在本申请实施例中，如图10所示，工作平台100的内部设有冷却水管路300，冷却水管路300交叉进出，穿过多个独立平台101内部，保证了各个独立平台101不同区域温度的一致性。
通过本申请实施例提供的一种曝光平台装置及曝光机，将工作平台划分成多个独立的平台，减少了制造成本，当平台发生损坏时，只需要更换部分损坏的平台，提高了更换的便利性，节约了更换成本，通过调整装置可分别调整多个独立平台的高度，使工作平台的调整更加容易。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种曝光平台装置及曝光机进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种曝光平台装置，其特征在于，包括工作平台和调整机构；
所述工作平台具有承载面，所述承载面用以承载基板，所述工作平台由多个独立平台组合形成，所述多个独立平台的上表面组成所述承载面；
所述调整机构与所述多个独立平台连接，所述调整机构可单独调整所述多个独立平台中每个独立平台的高度。
2.根据权利要求1所述的曝光平台装置，其特征在于，所述工作平台的正投影为矩形，所述多个独立平台的正投影组成所述矩形。
3.根据权利要求2所述的曝光平台装置，其特征在于，所述工作平台包括四个独立平台，所述四个独立平台的正投影均为矩形，所述四个独立平台组合形成所述工作平台，所述工作平台的正投影为矩形。
4.根据权利要求3所述的曝光平台装置，其特征在于，所述工作平台还包括一个顶点平台，所述顶点平台位于所述工作平台中心，所述顶点平台与所述四个独立平台相邻。
5.根据权利要求2所述的曝光平台装置，其特征在于，所述调整机构包括推拉装置、多个调整块和多个滑轨，所述多个独立平台中每个独立平台的底部对应有所述多个调整块，所述多个调整块设置在对应的独立平台的底部，所述多个调整块与所述多个滑轨一一对应，所述多个调整块与所述多个滑轨可滑动地连接，所述推拉装置与所述多个调整块固定连接，所述多个调整块均具有朝向对应的独立平台底部的斜面。
6.根据权利要求5所述的曝光平台装置，其特征在于，所述推拉装置包括多个调节螺栓和多个固定螺母，所述多个调节螺栓和所述多个固定螺母一一对应，所述多个调节螺栓与所述多个固定螺母啮合，所述多个调整块中每个调整块与至少一个所述调节螺栓固定连接。
7.根据权利要求5所述的曝光平台装置，其特征在于，所述每个独立平台的底部设有至少三个调整块，所述调整块分布在所述工作平台边缘，所述多个调整块与所述多个滑轨一一对应。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的曝光平台装置，其特征在于，所述工作平台上设有真空吸附装置，所述真空吸附装置由所述工作平台中心向所述工作平台边缘逐个分布。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的曝光平台装置，其特征在于，所述工作平台的内部设有冷却水管路，所述冷却水管路交叉穿过所述多个独立平台。
10.一种曝光机，其特征在于，包括如权利要求1至9中任一项所述的曝光平台装置。
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