CN111948857A - 液晶显示面板及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种液晶显示面板及其制造方法，所述液晶显示面板包括：晶圆基板和透明基板；框胶，形成于所述晶圆基板和所述透明基板之间，且所述框胶将所述晶圆基板和所述透明基板粘合以围成一空腔，所述框胶上具有一注入口，所述注入口用于将液晶注入所述空腔；以及，阻挡结构，形成于所述晶圆基板和/或所述透明基板上，且所述阻挡结构位于靠近所述注入口处的非像素区，以阻挡污染物通过所述注入口进入所述空腔的像素区。本发明的技术方案能够在液晶显示面板具有大盒厚以使得真空注入的方法适用于注入高粘度的液晶的同时，还能够降低污染物进入液晶盒的风险，进而提高具有大盒厚的液晶显示面板的良率。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，特别涉及一种液晶显示面板及其制造方法。
背景技术
液晶显示面板是一种反射式液晶微型面板，其是采用半导体硅晶技术控制液晶进而“投射”彩色画面，具有光利用效率高、体积小、开口率高、制造技术成熟等特点，其可以很容易实现高分辨率和充分的色彩表现。
液晶显示面板通常包括晶圆基板和玻璃盖板，所述晶圆基板与所述玻璃盖板之间通过框胶粘合在一起，并填注液晶材料在内。现有液晶显示面板的填注液晶材料的方法主要有真空注入和滴下式注入(ODF，One Drop Filling)。
其中，滴下式注入的步骤包括：首先，在晶圆基板和玻璃基板中的一个基板上进行框胶涂敷，在另一个基板上进行液晶滴注，或者，在同一个基板上同时进行框胶涂敷和液晶滴注；然后，在真空状态下将晶圆基板和玻璃基板对合；接着，对框胶进行紫外光固化和热固化。滴下式注入的优点是适用于极大量的液晶面板的生产，缺点是设备投资极为昂贵以及高精密的喷头无法支持高粘度的液晶。
因此，为了节省成本，常采用真空注入的方法填注液晶。真空注入的步骤包括：首先，将晶圆基板和玻璃基板贴合，并在边缘固化上框胶，形成液晶空盒，并预留有注入口；然后，将注入口向下，通过注入口向液晶空盒中真空注入液晶。真空注入的优点是液晶型号多时，治具搭配灵活；缺点是液晶粘度影响毛细力现象，且盒厚大时会导致液晶空盒中吸入杂质污染物。对于高粘度的液晶，为保有高毛细力，注入口的宽度越大越好，但是却会提高污染物进入液晶盒内的风险。参阅图1～图3，晶圆基板11、玻璃基板12和框胶13形成了液晶盒，将液晶盒的注入口14朝下放置于液晶槽10中，采用真空注入的方式从注入口14向液晶盒中注入液晶；如图2所示，当盒厚L1(Cell Gap，即液晶层厚度)大时，污染物D1很容易和液晶一起从注入口14进入液晶盒中；如图3所示，当盒厚L2小时，污染物D2无法和液晶一起从注入口14进入液晶盒中。例如，波长选择开关的硅基液晶显示面板(WSS LCOS)产品的盒厚很大,液晶盒内异物杂质造成的良率损失约达25％。
因此，如何在液晶显示面板具有大盒厚以使得真空注入的方法适用于注入高粘度的液晶的同时，还能降低污染物进入液晶盒的风险是目前亟需解决的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种液晶显示面板及其制造方法，能够在液晶显示面板具有大盒厚以使得真空注入的方法适用于注入高粘度的液晶的同时，还能够降低污染物进入液晶盒的风险，进而提高具有大盒厚的液晶显示面板的良率。
为实现上述目的，本发明提供了一种硅基液晶器件，包括：
晶圆基板和透明基板；
框胶，形成于所述晶圆基板和所述透明基板之间，且所述框胶将所述晶圆基板和所述透明基板粘合以围成一空腔，所述框胶上具有一注入口，所述注入口用于将液晶注入所述空腔；以及，
阻挡结构，形成于所述晶圆基板和/或所述透明基板上，且所述阻挡结构位于靠近所述注入口处的非像素区，以阻挡污染物通过所述注入口进入所述空腔的像素区。
可选的，所述晶圆基板靠近所述透明基板的一侧和所述透明基板靠近所述晶圆基板的一侧均依次形成有导电层和配向层，所述阻挡结构形成于所述晶圆基板和/或所述透明基板的配向层上。
可选的，所述阻挡结构包括至少一个阻挡墙和/或多个阻挡柱，所述阻挡墙的形状包括长方体、正方体或楔形体，所述阻挡柱的形状包括圆柱体或长方体。
可选的，所述阻挡结构的高度大于或等于所述晶圆基板的配向层和所述透明基板的配向层之间距离的四分之一，且小于或等于所述晶圆基板的配向层和所述透明基板的配向层之间的距离。
可选的，所述阻挡结构的材质与所述配向层的材质相同。
可选的，所述阻挡结构与所述配向层的材质均包括聚酰亚胺、压克力胶、环氧树脂胶、UV胶、玻璃胶、金属膏凝胶和二氧化硅凝胶中的至少一种。
本发明还提供了一种液晶显示面板的制造方法，包括：
提供晶圆基板和透明基板；
形成阻挡结构于所述晶圆基板和/或所述透明基板上；以及，
形成框胶于所述晶圆基板和所述透明基板之间，且所述框胶将所述晶圆基板和所述透明基板粘合以围成一空腔，所述框胶上具有一注入口，所述注入口用于将液晶注入所述空腔；所述阻挡结构位于靠近所述注入口处的非像素区，以阻挡污染物通过所述注入口进入所述空腔的像素区。
可选的，形成所述阻挡结构于所述晶圆基板和/或所述透明基板上之前，依次形成导电层和配向层于所述晶圆基板和所述透明基板上；所述阻挡结构形成于所述晶圆基板和/或所述透明基板的配向层上。
可选的，采用印刷工艺形成所述阻挡结构于所述晶圆基板和/或所述透明基板的配向层上。
可选的，所述液晶显示面板的制造方法还包括：采用真空注入的方法注入液晶于所述空腔中；以及，采用封口胶将所述注入口封住。
与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下有益效果：
1、本发明的液晶显示面板，由于包括形成于晶圆基板和/或透明基板上的阻挡结构，且所述阻挡结构位于靠近注入口处的非像素区，以阻挡污染物通过所述注入口进入空腔的像素区，使得能够在具有大盒厚满足真空注入的方法适用于注入高粘度的液晶的同时，还能够阻挡污染物进入液晶盒，进而提高具有大盒厚的液晶显示面板的良率。
2、本发明的液晶显示面板的制造方法，通过形成阻挡结构于晶圆基板和/或透明基板上，且所述阻挡结构位于靠近注入口处的非像素区，以阻挡污染物通过所述注入口进入所述空腔的像素区，使得制造的液晶显示面板能够在具有大盒厚以使得真空注入的方法适用于注入高粘度的液晶的同时，还能够阻挡污染物进入液晶盒，降低污染物进入液晶盒的风险，进而提高具有大盒厚的液晶显示面板的良率。
附图说明
图1是真空注入液晶的正视示意图；
图2是大盒厚的液晶盒真空注入液晶的侧视示意图；
图3是小盒厚的液晶盒真空注入液晶的侧视示意图；
图4a～图4e是本发明一实施例的液晶显示面板的结构示意图；
图5a～图5c是图4a～图4e所示的液晶显示面板采用真空注入的方法注入液晶的示意图；
图6a～图6c是图4a～图4e所示的液晶显示面板完成液晶注入和封口之后的结构示意图。
图7是本发明一实施例的液晶显示面板的制造方法的流程图。
其中，附图1～图7的附图标记说明如下：
10-液晶槽；11-晶圆基板；12-玻璃基板；13-框胶；14-注入口；21-晶圆基板；211-第一配向层；22-透明基板；221-第二配向层；23-框胶；231-注入口；24-阻挡结构；241-第一阻挡结构；242-第二阻挡结构；25-空腔；26-液晶层；27-封口胶；31-液晶槽。
具体实施方式
为使本发明的目的、优点和特征更加清楚，以下对本发明提出的液晶显示面板及其制造方法作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
本发明一实施例提供一种液晶显示面板，如图4a～图4e所示，所述液晶显示面板包括晶圆基板21、透明基板22、框胶23和阻挡结构24，所述框胶23形成于所述晶圆基板21和所述透明基板22之间，且所述框胶23将所述晶圆基板21和所述透明基板22粘合以围成一空腔25，所述框胶23上具有一注入口231，所述注入口231用于将液晶注入所述空腔25；所述阻挡结构24形成于所述晶圆基板21和/或所述透明基板22上，且所述阻挡结构24位于靠近所述注入口231处的非像素区(未图示)，以阻挡污染物通过所述注入口231进入所述空腔25的像素区(未图示)。
下面参阅图4a～图6c更为详细的介绍本实施例提供的液晶显示面板。
所述框胶23形成于所述晶圆基板21和所述透明基板22之间，且所述框胶23用于将所述晶圆基板21和所述透明基板22粘合以围成一空腔25。所述框胶23上具有一注入口231，所述注入口231用于将液晶注入所述空腔25。
所述晶圆基板21靠近所述透明基板22的一侧和所述透明基板22靠近所述晶圆基板21的一侧均依次形成有导电层和配向层，为了便于区分，定义所述晶圆基板21上的导电层和配向层分别为第一导电层(未图示)和第一配向层211，定义所述透明基板22上的导电层和配向层分别为第二导电层(未图示)和第二配向层221。在向所述空腔25中注入液晶之后，所述第一配向层211和所述第二配向层221用于在光照射下，使得液晶分子在平面内形成水平或垂直方向的配向。
所述晶圆基板21的材质可以是本领域技术人员所熟知的任意合适的材料，例如硅、绝缘体上硅、锗化硅、碳化硅等，且所述晶圆基板21上形成有MOS晶体管(未图示)等器件结构。
所述透明基板22的材质可以包括玻璃(例如氧化铟锡等)、氧化硅、塑料等透光性的材料。
所述框胶23的材质可以包括压克力胶、环氧树脂胶、UV胶或玻璃胶等，所述框胶23除了将所述晶圆基板21和所述透明基板22粘合在一起外，还能够抵御水汽等外部外镜的影响。
所述导电层的材质可以为金属材料，例如铜、铝、钛、钽、金和银等。
所述配向层的材质可以为聚酰亚胺、压克力胶、环氧树脂胶、UV胶、玻璃胶、金属膏凝胶和二氧化硅凝胶中的至少一种。所述配向层的形成步骤可以包括：先通过蒸镀、涂布、化学气相沉积或者原子层沉积等工艺在所述晶圆基板21上形成一配向膜；再通过擦拭工艺在所述配向膜表面形成数条取向沟槽，即得到具有取向/配向能力的配向层。
参阅图4a～图4c，图4a～图4c是所述液晶显示面板的侧视图，从图4a～图4c中可看出，所述注入口231在垂直于所述晶圆基板21和所述透明基板22方向上的尺寸等于所述液晶显示面板的盒厚(即所述第一配向层211和所述第二配向层221之间的距离)，因此，所述液晶显示面板的盒厚的大小直接影响液晶的注入速度和效果。尤其对于高粘度的液晶来说，为保有高毛细力，所述注入口231在垂直于所述晶圆基板21和所述透明基板22方向上的尺寸越大越好，即盒厚越大越好，但是却会提高污染物进入所述空腔25内的风险。其中，污染物包含粉尘、杂质等。
当采用真空注入的方法向所述空腔25中注入液晶时，参阅图5a～图5c，图5a～图5c是液晶显示面板和液晶槽的侧视图，从图5a～图5c中可看出，将所述注入口231朝下浸没于一液晶槽31中，液晶槽31中的液晶从所述注入口231进入到所述空腔25中。若液晶槽31中的液晶中混有污染物，那么，对于为了适用于注入高粘度的液晶而具有大盒厚的液晶显示面板来说，若靠近所述注入口231处未设置阻挡结构24，污染物很容易会随着液晶一起从所述注入口231进入到所述空腔25中，从而进一步到达所述空腔25中的像素区，进而影响所述液晶显示面板的性能，导致良率下降。例如污染物的长度可以为3μm～5μm(例如为3.5μm、4μm、4.5μm等)，盒厚为4μm～6μm(例如为4.5μm、5μm、5.5μm等)，较多污染物能够从所述注入口231进入所述空腔25中。
所述阻挡结构24形成于所述晶圆基板21或所述透明基板22上，或者同时形成于所述晶圆基板21和所述透明基板22上。所述阻挡结构24可以形成于所述晶圆基板21和/或所述透明基板22的配向层上，具体地，所述阻挡结构24可以形成于所述晶圆基板21上的第一配向层211上，或者，形成于所述透明基板22上的第二配向层221上，或者同时形成于所述晶圆基板21上的第一配向层211上和所述透明基板22上的第二配向层221上。并且，由于所述晶圆基板21具有半导体器件的图案，根据半导体器件的图案来形成所述阻挡结构24的图案将会更加方便，也会使得所述阻挡结构24的位置精度更好，因此，在所述晶圆基板21上的第一配向层211上形成所述阻挡结构24的工艺和效果均优于在所述透明基板22上的第二配向层221上形成所述阻挡结构24。当所述晶圆基板21上的第一配向层211上和所述透明基板22上的第二配向层221上均形成所述阻挡结构24时，可以使得第一配向层211上的阻挡结构24与第二配向层221上的阻挡结构24交错设置，使得液晶能够从交错设置的阻挡结构24之间的间隙中进入所述空腔25，而污染物能够被阻挡住。
并且，所述阻挡结构24位于靠近所述注入口231处的非像素区。通过在靠近所述注入口231处的非像素区形成所述阻挡结构24，不会影响像素区，并且能够减小靠近所述注入口231的位置处在垂直于所述晶圆基板21和所述透明基板22方向上的尺寸，甚至也能减小靠近所述注入口231的位置处在平行于所述晶圆基板21和所述透明基板22方向上的尺寸，使得在不减小所述液晶显示面板的盒厚进而不影响高粘度的液晶注入的前提下，能够阻挡污染物通过所述注入口231进入所述空腔25，避免影响所述空腔25中的像素区。
所述阻挡结构24包括至少一个阻挡墙和/或多个阻挡柱，所述阻挡墙的形状包括长方体、正方体或楔形体，所述阻挡柱的形状包括圆柱体或长方体。参阅图4a～图4e，图4d～图4e是液晶显示面板的正视图(未示意出所述晶圆基板21和所述透明基板22)，图4a所示的所述阻挡结构24为长方体形状的阻挡墙，图4b所示的所述阻挡结构24为楔形体形状的阻挡墙，图4c所示的所述阻挡结构24为圆柱体形状的阻挡柱。且从图4d中可看出，所述阻挡结构24为阻挡墙时，可以位于紧靠所述注入口231的位置处(即第一阻挡结构241)，使得所述注入口231在平行于所述晶圆基板21和所述透明基板22方向上的尺寸减小；和/或，所述阻挡结构24也可以位于所述空腔25内的靠近所述注入口231的非像素区(即第二阻挡结构242)，第二阻挡结构242的长度大于第一阻挡结构241的长度。从图4e中可看出，所述阻挡结构24为阻挡柱时，可以从紧靠所述注入口231的位置开始向所述空腔25方向至少设置一层的所述阻挡柱，且每一层的阻挡柱的数量至少为一个。
所述阻挡结构24的高度(即在垂直于所述晶圆基板21和所述透明基板22方向上的尺寸)大于或等于所述晶圆基板21的第一配向层211和所述透明基板22的第二配向层221之间距离的四分之一，且小于或等于所述晶圆基板21的第一配向层211和所述透明基板22的第二配向层221之间的距离，以使得所述阻挡结构24的尺寸足够大，减小了靠近所述注入口231的位置处的尺寸，进而能够阻挡污染物进入所述空腔25的像素区，同时也能保证液晶的注入效果。参阅图5a～图5c，图5a～图5c依次对应图4a～图4c所示的液晶显示面板采用真空注入的方法注入液晶，从图5a～图5c中可看出，由于所述阻挡结构24的存在，使得污染物D3被阻挡住，降低了污染物随着液晶一起进入所述空腔25的像素区的风险。
所述阻挡结构24的材质可以与所述配向层的材质相同，例如可以为聚酰亚胺、压克力胶、环氧树脂胶、UV胶、玻璃胶、金属膏凝胶和二氧化硅凝胶中的至少一种。需要说明的是，所述阻挡结构24和所述配向层的材质不仅限于上述的种类。所述阻挡结构24可以采用印刷工艺形成。
另外，参阅图6a～图6c，在完成液晶注入，在所述第一配向层211和所述第二配向层221之间形成液晶层26之后，可以采用封口胶27将所述注入口231封起来。
综上所述，本发明提供的液晶显示面板，包括：晶圆基板和透明基板；框胶，形成于所述晶圆基板和所述透明基板之间，且所述框胶将所述晶圆基板和所述透明基板粘合以围成一空腔，所述框胶上具有一注入口，所述注入口用于将液晶注入所述空腔；以及，阻挡结构，形成于所述晶圆基板和/或所述透明基板上，且所述阻挡结构位于靠近所述注入口处的非像素区，以阻挡污染物通过所述注入口进入所述空腔的像素区。本发明的液晶显示面板能够在具有大盒厚以使得真空注入的方法适用于注入高粘度的液晶的同时，还能够阻挡污染物进入液晶盒，降低了污染物进入液晶盒的风险，进而提高了具有大盒厚的液晶显示面板的良率。
本发明一实施例提供一种液晶显示面板的制造方法，参阅图7，图7是本发明一实施例的液晶显示面板的制造方法的流程图，所述液晶显示面板的制造方法包括：
步骤S1、提供晶圆基板和透明基板；
步骤S2、形成阻挡结构于所述晶圆基板和/或所述透明基板上；
步骤S3、形成框胶于所述晶圆基板和所述透明基板之间，且所述框胶将所述晶圆基板和所述透明基板粘合以围成一空腔，所述框胶上具有一注入口，所述注入口用于将液晶注入所述空腔；所述阻挡结构位于靠近所述注入口处的非像素区，以阻挡污染物通过所述注入口进入所述空腔的像素区。
下面参阅图4a～图6c更为详细的介绍本实施例提供的液晶显示面板的制造方法。
按照步骤S1，提供晶圆基板21和透明基板22。
所述晶圆基板21的材质可以是本领域技术人员所熟知的任意合适的材料，例如硅、绝缘体上硅、锗化硅、碳化硅等，且所述晶圆基板21上形成有MOS晶体管(未图示)等器件结构。
所述透明基板22的材质可以包括玻璃(例如氧化铟锡等)、氧化硅、塑料等透光性的材料。
按照步骤S2，形成阻挡结构24于所述晶圆基板21或所述透明基板22上，或者同时形成阻挡结构24于所述晶圆基板21和所述透明基板22上。
形成所述阻挡结构24于所述晶圆基板21和/或所述透明基板22上之前，依次形成导电层和配向层于所述晶圆基板21和所述透明基板22上。为了便于区分，定义所述晶圆基板21上的导电层和配向层分别为第一导电层(未图示)和第一配向层211，定义所述透明基板22上的导电层和配向层分别为第二导电层(未图示)和第二配向层221。后续在向所述空腔25中注入液晶之后，所述第一配向层211和所述第二配向层221用于在光照射下，使得液晶分子在平面内形成水平或垂直方向的配向。
所述导电层的材质可以为金属材料，例如铜、铝、钛、钽、金和银等。
所述阻挡结构24的材质可以与所述配向层的材质相同，例如可以为聚酰亚胺、压克力胶、环氧树脂胶、UV胶、玻璃胶、金属膏凝胶和二氧化硅凝胶中的至少一种。需要说明的是，所述阻挡结构24和所述配向层的材质不仅限于上述的种类。
并且，可以采用印刷工艺形成所述阻挡结构24于所述晶圆基板21和/或所述透明基板22的配向层上。由于所述阻挡结构24与所述配向层的材质相同，使得所述阻挡结构24的形成工艺更加简单，且形成的阻挡结构24的形貌稳定。
所述配向层的形成步骤可以包括：先通过蒸镀、涂布、化学气相沉积或者原子层沉积等工艺在所述晶圆基板21上形成一配向膜；再通过擦拭工艺在所述配向膜表面形成数条取向沟槽，即得到具有取向/配向能力的配向层。
所述阻挡结构24可以形成于所述晶圆基板21和/或所述透明基板22的配向层上，具体地，所述阻挡结构24可以形成于所述晶圆基板21上的第一配向层211上，或者，形成于所述透明基板22上的第二配向层221上，或者同时形成于所述晶圆基板21上的第一配向层211上和所述透明基板22上的第二配向层221上。并且，由于所述晶圆基板21具有半导体器件的图案，根据半导体器件的图案来形成所述阻挡结构24的图案将会更加方便，也会使得所述阻挡结构24的位置精度更好，因此，在所述晶圆基板21上的第一配向层211上形成所述阻挡结构24的工艺和效果均优于在所述透明基板22上的第二配向层221上形成所述阻挡结构24。当所述晶圆基板21上的第一配向层211上和所述透明基板22上的第二配向层221上均形成所述阻挡结构24时，可以使得第一配向层211上的阻挡结构24与第二配向层221上的阻挡结构24交错设置，使得液晶能够从交错设置的阻挡结构24之间的间隙中进入所述空腔25，而污染物能够被阻挡住。
按照步骤S3，形成框胶23于所述晶圆基板21和所述透明基板22之间，且所述框胶23将所述晶圆基板21和所述透明基板22粘合以围成一空腔25，所述框胶23上具有一注入口231，所述注入口231用于将液晶注入所述空腔25。
所述框胶23的材质可以包括压克力胶、环氧树脂胶、UV胶或玻璃胶等，所述框胶23除了将所述晶圆基板21和所述透明基板22粘合在一起外，还能够抵御水汽等外部外镜的影响。
参阅图4a～图4c，图4a～图4c是所述液晶显示面板的侧视图，从图4a～图4c中可看出，所述注入口231在垂直于所述晶圆基板21和所述透明基板22方向上的尺寸等于所述液晶显示面板的盒厚(即所述第一配向层211和所述第二配向层221之间的距离)，因此，所述液晶显示面板的盒厚的大小直接影响液晶的注入速度和效果。尤其对于高粘度的液晶来说，为保有高毛细力，所述注入口231在垂直于所述晶圆基板21和所述透明基板22方向上的尺寸越大越好，即盒厚越大越好，但是却会提高污染物进入所述空腔25内的风险。其中，污染物包含粉尘、杂质等。
当后续采用真空注入的方法向所述空腔25中注入液晶时，参阅图5a～图5c，图5a～图5c是液晶显示面板和液晶槽的侧视图，从图5a～图5c中可看出，将所述注入口231朝下浸没于一液晶槽31中，液晶槽31中的液晶从所述注入口231进入到所述空腔25中。若液晶槽31中的液晶中混有污染物，那么，对于为了适用于注入高粘度的液晶而具有大盒厚的液晶显示面板来说，若此时靠近所述注入口231处未设置阻挡结构24，污染物很容易会随着液晶一起从所述注入口231进入到所述空腔25中，从而进一步到达所述空腔25中的像素区，进而影响所述液晶显示面板的性能，导致良率下降。例如污染物的长度可以为3μm～5μm(例如为3.5μm、4μm、4.5μm等)，盒厚为4μm～6μm(例如为4.5μm、5μm、5.5μm等)，较多污染物能够从所述注入口231进入所述空腔25中。
并且，所述阻挡结构24位于所述空腔25中的靠近所述注入口231处的非像素区。通过在靠近所述注入口231处的非像素区形成所述阻挡结构24，不会影响像素区，并且能够减小靠近所述注入口231的位置处在垂直于所述晶圆基板21和所述透明基板22方向上的尺寸，甚至也能减小靠近所述注入口231的位置处在平行于所述晶圆基板21和所述透明基板22方向上的尺寸，使得在不减小所述液晶显示面板的盒厚进而不影响高粘度的液晶注入的前提下，能够阻挡污染物通过所述注入口231进入所述空腔25，避免影响所述空腔25中的像素区。
所述阻挡结构24包括至少一个阻挡墙和/或多个阻挡柱，所述阻挡墙的形状包括长方体、正方体或楔形体，所述阻挡柱的形状包括圆柱体或长方体。具体参阅上述对本发明的所述液晶显示面板中的阻挡结构24形状和高度的介绍(结合图4a～图4e、图5a～图5c)，在此不再赘述。
另外，参阅图6a～图6c，所述液晶显示面板的制造方法还包括：采用真空注入的方法注入液晶于所述空腔25中，以在所述第一配向层211和所述第二配向层221之间形成液晶层26；以及，采用封口胶27将所述注入口231封住。
综上所述，本发明提供的液晶显示面板的制造方法，包括：提供晶圆基板和透明基板；形成阻挡结构于所述晶圆基板和/或所述透明基板上；以及，形成框胶于所述晶圆基板和所述透明基板之间，且所述框胶将所述晶圆基板和所述透明基板粘合以围成一空腔，所述框胶上具有一注入口，所述注入口用于将液晶注入所述空腔；所述阻挡结构位于靠近所述注入口处的非像素区，以阻挡污染物通过所述注入口进入所述空腔的像素区。本发明的液晶显示面板的制造方法制造的液晶显示面板能够在具有大盒厚以使得真空注入的方法适用于注入高粘度的液晶的同时，还能够阻挡污染物进入液晶盒，降低了污染物进入液晶盒的风险，进而提高了具有大盒厚的液晶显示面板的良率。
上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。
Claims (10)
1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括：
晶圆基板和透明基板；
框胶，形成于所述晶圆基板和所述透明基板之间，且所述框胶将所述晶圆基板和所述透明基板粘合以围成一空腔，所述框胶上具有一注入口，所述注入口用于将液晶注入所述空腔；以及，
阻挡结构，形成于所述晶圆基板和/或所述透明基板上，且所述阻挡结构位于靠近所述注入口处的非像素区，以阻挡污染物通过所述注入口进入所述空腔的像素区。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述晶圆基板靠近所述透明基板的一侧和所述透明基板靠近所述晶圆基板的一侧均依次形成有导电层和配向层，所述阻挡结构形成于所述晶圆基板和/或所述透明基板的配向层上。
3.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阻挡结构包括至少一个阻挡墙和/或多个阻挡柱，所述阻挡墙的形状包括长方体、正方体或楔形体，所述阻挡柱的形状包括圆柱体或长方体。
4.如权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阻挡结构的高度大于或等于所述晶圆基板的配向层和所述透明基板的配向层之间距离的四分之一，且小于或等于所述晶圆基板的配向层和所述透明基板的配向层之间的距离。
5.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阻挡结构的材质与所述配向层的材质相同。
6.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阻挡结构与所述配向层的材质均包括聚酰亚胺、压克力胶、环氧树脂胶、UV胶、玻璃胶、金属膏凝胶和二氧化硅凝胶中的至少一种。
7.一种液晶显示面板的制造方法，其特征在于，包括：
提供晶圆基板和透明基板；
形成阻挡结构于所述晶圆基板和/或所述透明基板上；以及，
形成框胶于所述晶圆基板和所述透明基板之间，且所述框胶将所述晶圆基板和所述透明基板粘合以围成一空腔，所述框胶上具有一注入口，所述注入口用于将液晶注入所述空腔；所述阻挡结构位于靠近所述注入口处的非像素区，以阻挡污染物通过所述注入口进入所述空腔的像素区。
8.如权利要求7所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，在形成所述阻挡结构于所述晶圆基板和/或所述透明基板上之前，依次形成导电层和配向层于所述晶圆基板和所述透明基板上；所述阻挡结构形成于所述晶圆基板和/或所述透明基板的配向层上。
9.如权利要求8所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，采用印刷工艺形成所述阻挡结构于所述晶圆基板和/或所述透明基板的配向层上。
10.如权利要求7所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述液晶显示面板的制造方法还包括：采用真空注入的方法注入液晶于所述空腔中；以及，采用封口胶将所述注入口封住。
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