CN102692752B - 液晶显示面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种液晶显示面板及其制作方法，所述液晶显示面板包括：第一基板、形成于该第一基板上的数个亚像素区域、设于该些亚像素区域内的含有红、绿或蓝颜色染料的液晶及贴合于该第一基板上的第二基板，每一亚像素区域由四个依次相连的挡壁围成，全部的挡壁共同形成黑色矩阵挡墙，所述第二基板朝向第一基板的表面抵靠于所述黑色矩阵挡墙上，进而将含有红、绿或蓝颜色染料的液晶密封于对应的亚像素区域内。本发明液晶显示面板，通过含有红、绿或蓝颜色染料的液晶及阻隔液晶的黑色矩阵挡墙形成R、G、B亚像素，生产制程少，结构简单，成本低。

Description

液晶显示面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种液晶显示面板及其制作方法。
背景技术
液晶显示装置(LCD，Liquid Crystal Display)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，两片玻璃基板中间有许多垂直和水平的细小电线，通过通电与否来控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。
请参阅图1，通常液晶显示面板由CF(Color Filter)基板100、TFT(ThinFilm Transistor)基板300、设于CF基板100与TFT基板300之间的液晶(LC，Liquid Crystal)500、设于CF基板100与TFT基板300之间的间隔物(Spacer)700及密封胶框(Sealant)900组成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。
CF基板上形成有黑色矩阵(BM，Black Matrix)，通过黑色矩阵形成数个R、G、B亚像素以使得液晶显示面板显示彩色图像，该R、G、B亚像素一般通过掩膜工艺、印刷、打印、或喷涂工艺形成，制程较为繁琐，成本较高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种液晶显示面板，其结构简单，成本低，生产制程简单。
本发明的另目的在于提供一种液晶显示面板的制作方法，其简化了液晶显示面板的生产制程，降低了生产成本。
为实现上述目的，本发明提供一种液晶显示面板，包括：第一基板、形成于该第一基板上的数个亚像素区域、设于该些亚像素区域内的含有红、绿或蓝颜色染料的液晶及贴合于该第一基板上的第二基板，每一亚像素区域由四个依次相连的挡壁围成，全部的挡壁共同形成黑色矩阵挡墙，所述第二基板朝向第一基板的表面抵靠于所述黑色矩阵挡墙上，进而将含有红、绿或蓝颜色染料的液晶密封于对应的亚像素区域内。
所述挡壁分别具有第一或第二高度，第一高度高于第二高度，相邻的不同颜色的亚像素区域之间的挡壁具有第一高度，相邻的相同颜色的亚像素区域之间的挡壁具有第二高度。
所述第一基板包括第一玻璃基板、形成于该第一玻璃基板一表面上的ITO公共电极层、形成于该ITO公共电极层上的第一平坦化层及形成于该第一平坦化层上的第一配向层。
所述第二基板为TFT基板，其包括第二玻璃基板、形成于该第二玻璃基板上的ITO像素电极层、形成于该ITO像素电极层上的栅极线与数据线、形成于该ITO像素电极层上的TFT阵列、形成于该ITO像素电极层上并覆盖栅极线、数据线与TFT阵列的第二平坦化层及形成于该第二平坦化层上的第二配向层。
还包括设于第一基板上且位于该第一基板边缘的密封胶框。
本发明还提供一种液晶显示面板的制作方法，包括以下步骤：
步骤1、提供第一基板；
步骤2、在第一基板上形成预定的数个亚像素区域，每一亚像素区域由四个依次相连的挡壁围成，全部的挡壁共同形成黑色矩阵挡墙，每一亚像素区域的颜色预定设置为对应红、绿与蓝三种颜色中的一种；
步骤3、在该些亚像素区域内依预定设置分别注入含有红、绿或蓝颜色染料的液晶，形成R、G、B亚像素；
步骤4、在所述第一基板的该表面上涂布密封胶以形成密封胶框；
步骤5、提供第二基板；
步骤6、在真空环境下将第二基板与第一基板相对贴合在一起，该第二基板朝向第一基板的表面紧密抵靠于所述黑色矩阵挡墙上，进而将含有红、绿或蓝颜色染料的液晶密封于对应的亚像素区域内；
步骤7、将贴合好的第二基板与第一基板进行UV固化或热固化，以固化密封胶框。
所述挡壁分别具有第一或第二高度，第一高度高于第二高度，相邻的不同颜色的亚像素区域之间的挡壁具有第一高度，相邻的相同颜色的亚像素区域之间的挡壁具有第二高度。
所述第一基板包括第一玻璃基板、形成于该第一玻璃基板一表面上的ITO公共电极层、形成于该ITO公共电极层上的第一平坦化层及形成于该第一平坦化层上的第一配向层；所述第二基板为TFT基板，其包括第二玻璃基板、形成于该第二玻璃基板上的ITO像素电极层、形成于该ITO像素电极层上的栅极线与数据线、形成于该ITO像素电极层上的TFT阵列、形成于该ITO像素电极层上并覆盖栅极线、数据线与TFT阵列的第二平坦化层及形成于该第二平坦化层上的第二配向层。
所述黑色矩阵挡墙通过掩膜工艺、印刷、打印或喷涂工艺形成于第一玻璃基板上。
所述每一亚像素区域呈矩形。
本发明的有益效果：本发明液晶显示面板，通过含有红、绿或蓝颜色染料的液晶及阻隔液晶的黑色矩阵挡墙形成R、G、B亚像素，生产制程少，结构简单，成本低；本发明液晶显示面板的制作方法，将传统CF基板制程简化，R、G、B亚像素的颜色由不同颜色染料溶解到液晶中形成，在注入液晶的同时形成R、G、B亚像素，进而简化了液晶显示面板的生产制程，降低了生产成本。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中，
图1为现有液晶显示面板的结构剖面示意图；
图2为本发明液晶显示面板的结构剖面示意图；
图3为本发明液晶显示面板一实施例中黑色矩阵挡墙的立体结构示意图；
图4为本发明液晶显示面板中TFT基板一个像素单元的平面示意图；
图5为本发明液晶显示面板另一实施例中黑色矩阵挡墙的立体结构示意图；
图6为本发明液晶显示面板的制作方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2至图4，本发明提供一种液晶显示面板，包括：第一基板20、形成于该第一基板20上的数个亚像素区域40、设于该些亚像素区域40内的含有红、绿或蓝颜色染料的液晶60及贴合于该第一基板上20的第二基板80。
所述第一基板20包括第一玻璃基板22、形成于该第一玻璃基板22一表面上的ITO(Indium Tin Oxides)公共电极层24、形成于该ITO公共电极层24上的第一平坦化层26及形成于该第一平坦化层26上的第一配向层28。
在本实施例中，所述ITO公共电极层24、第一平坦化层26及第一配向层28均通过掩膜工艺形成。
该些亚像素区域40形成于该第一配向层28上，每一亚像素区域40由四个依次相连的挡壁42围成，全部的挡壁42共同形成黑色矩阵挡墙420，所述第二基板80朝向第一基板20的表面抵靠于所述黑色矩阵挡墙420上，进而将含有红、绿或蓝颜色染料的液晶60密封于对应的亚像素区域40内。
在本实施例中，所述每个相邻的亚像素区域40内注入的液晶60中所包含的染料的颜色均不相同，所述挡壁42相对于第一基板20具有相同的高度T，进而阻隔不同颜色间的液晶60相互流动而造成的颜色混乱。
所述第二基板80为TFT基板，其包括第二玻璃基板82、形成于该第二玻璃基板82上的ITO像素电极层83、形成于该ITO像素电极层83上的栅极线84与数据线85、形成于该ITO像素电极层83上的TFT阵列86、形成于该ITO像素电极层83上并覆盖栅极线84、数据线85与TFT阵列86的第二平坦化层87及形成于该第二平坦化层87上的第二配向层88。
本发明液晶显示面板还包括设于第一基板20上且位于该第一基板20边缘的密封胶框，用于将第一基板20与第二基板80贴合在一起。
请参阅图5，为本发明液晶显示面板另一实施例中黑色矩阵挡墙的立体结构示意图，同时参考图2，在本实施例中，所述挡壁42’分别具有第一或第二高度H1、H2，第一高度H1高于第二高度H2，相邻的不同颜色的亚像素区域40之间的挡壁42’具有第一高度H1，相邻的相同颜色的亚像素区域40之间的挡壁42’具有第二高度H2，进而使得不具有相同颜色的亚像素区域40之间的液晶60完全隔绝，具有相同颜色的亚像素区域40之间的液晶60可相互流通，以增强显示效果。
本发明液晶显示面板，通过含有红、绿或蓝颜色染料的液晶及阻隔液晶的黑色矩阵挡墙形成R、G、B亚像素，生产制程少，结构简单，成本低。
请参阅图6，同时参考图2至图5，本发明还提供一种液晶显示面板的制作方法，包括以下：
步骤1、提供第一基板20。
所述第一基板20包括第一玻璃基板22、形成于该第一玻璃基板22一表面上的ITO公共电极层24、形成于该ITO公共电极层24上的第一平坦化层26及形成于该第一平坦化层26上的第一配向层28。
在本实施例中，所述ITO公共电极层24、第一平坦化层26及第一配向层28均通过掩膜工艺形成。
步骤2、在第一基板20上形成预定的数个亚像素区域40，每一亚像素区域40由四个依次相连的挡壁42围成，全部的挡壁42共同形成黑色矩阵挡墙420，每一亚像素区域40的颜色预定设置为对应红、绿与蓝三种颜色中的一种。
在本实施例中，所述黑色矩阵挡墙420通过掩膜工艺、印刷、打印或喷涂工艺形成于第一玻璃基板20上，所述每一亚像素区域40呈矩形，所述挡壁42相对于第一基板20具有相同的高度T。
步骤3、在该些亚像素区域40内依预定设置分别注入含有红、绿或蓝颜色染料的液晶60，形成R、G、B亚像素。
在本实施例中，所述每个相邻的亚像素区域40内注入的液晶60中所包含的染料的颜色均不相同。
步骤4、在所述第一基板20的该表面上涂布密封胶以形成密封胶框100；
步骤5、提供第二基板80。
所述第二基板80为TFT基板，其包括第二玻璃基板82、形成于该第二玻璃基板82上的ITO像素电极层83、形成于该ITO像素电极层83上的栅极线84与数据线85、形成于该ITO像素电极层83上的TFT阵列86、形成于该ITO像素电极层83上并覆盖栅极线84、数据线85与TFT阵列86的第二平坦化层87及形成于该第二平坦化层87上的第二配向层88。
步骤6、在真空环境下将第二基板80与第一基板20相对贴合在一起，该第二基板80朝向第一基板20的表面紧密抵靠于所述黑色矩阵挡墙420上，进而将含有红、绿或蓝颜色染料的液晶60密封于对应的亚像素区域40内。
步骤7、将贴合好的第二基板80与第一基板20进行UV固化或热固化，以固化密封胶框100。
本发明液晶显示面板的制作方法，将传统CF基板制程简化，R、G、B亚像素的颜色由不同颜色染料溶解到液晶中形成，在注入液晶的同时形成R、G、B亚像素，进而简化了液晶显示面板的生产制程，降低了生产成本。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (8)

1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括：第一基板、形成于该第一基板上的数个亚像素区域、设于该些亚像素区域内的含有红、绿或蓝颜色染料的液晶及贴合于该第一基板上的第二基板，每一亚像素区域由四个依次相连的挡壁围成，全部的挡壁共同形成黑色矩阵挡墙，所述第二基板朝向第一基板的表面抵靠于所述黑色矩阵挡墙上，进而将含有红、绿或蓝颜色染料的液晶密封于对应的亚像素区域内；
所述挡壁分别具有第一或第二高度，第一高度高于第二高度，相邻的不同颜色的亚像素区域之间的挡壁具有第一高度，相邻的相同颜色的亚像素区域之间的挡壁具有第二高度。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一基板包括第一玻璃基板、形成于该第一玻璃基板一表面上的ITO公共电极层、形成于该ITO公共电极层上的第一平坦化层及形成于该第一平坦化层上的第一配向层。
3.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第二基板为TFT基板，其包括第二玻璃基板、形成于该第二玻璃基板上的ITO像素电极层、形成于该ITO像素电极层上的栅极线与数据线、形成于该ITO像素电极层上的TFT阵列、形成于该ITO像素电极层上并覆盖栅极线、数据线与TFT阵列的第二平坦化层及形成于该第二平坦化层上的第二配向层。
4.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，还包括设于第一基板上且位于该第一基板边缘的密封胶框。
5.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、提供第一基板；
步骤2、在第一基板上形成预定的数个亚像素区域，每一亚像素区域由四个依次相连的挡壁围成，全部的挡壁共同形成黑色矩阵挡墙，每一亚像素区域的颜色预定设置为对应红、绿与蓝三种颜色中的一种；
步骤3、在该些亚像素区域内依预定设置分别注入含有红、绿或蓝颜色染料的液晶，形成R、G、B亚像素；
步骤4、在所述第一基板的表面上涂布密封胶以形成密封胶框；
步骤5、提供第二基板；
步骤6、在真空环境下将第二基板与第一基板相对贴合在一起，该第二基板朝向第一基板的表面紧密抵靠于所述黑色矩阵挡墙上，进而将含有红、绿或蓝颜色染料的液晶密封于对应的亚像素区域内；
步骤7、将贴合好的第二基板与第一基板进行UV固化或热固化，以固化密封胶框；
所述挡壁分别具有第一或第二高度，第一高度高于第二高度，相邻的不同颜色的亚像素区域之间的挡壁具有第一高度，相邻的相同颜色的亚像素区域之间的挡壁具有第二高度。
6.如权利要求5所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一基板包括第一玻璃基板、形成于该第一玻璃基板一表面上的ITO公共电极层、形成于该ITO公共电极层上的第一平坦化层及形成于该第一平坦化层上的第一配向层；所述第二基板为TFT基板，其包括第二玻璃基板、形成于该第二玻璃基板上的ITO像素电极层、形成于该ITO像素电极层上的栅极线与数据线、形成于该ITO像素电极层上的TFT阵列、形成于该ITO像素电极层上并覆盖栅极线、数据线与TFT阵列的第二平坦化层及形成于该第二平坦化层上的第二配向层。
7.如权利要求5所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵挡墙通过掩膜工艺、印刷、打印或喷涂工艺形成于第一玻璃基板上。
8.如权利要求5所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述每一亚像素区域呈矩形。
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