CN111902179B

CN111902179B - 用于吸入装置的喷雾嘴

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Publication number: CN111902179B
Application number: CN201980020900.3A
Authority: CN
Inventors: F·巴特尔斯; J·拉维特
Original assignee: Softhale NV
Current assignee: Invox Belgium NV
Priority date: 2018-03-21
Filing date: 2019-03-19
Publication date: 2022-10-28
Anticipated expiration: 2039-03-19
Also published as: CA3093176A1; EP3768361A1; RU2020128733A; JP7358374B2; BR112020018869A2; CN115591063A; WO2019180022A1; JP2021518187A; CN111902179A; US20210093802A1; JP2023145685A

Abstract

本发明涉及用于液体的吸入装置的领域。具体地，本发明涉及一种在这种吸入装置中使用的雾化喷嘴，以及一种制造这种喷嘴的方法。一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置的喷嘴，所述喷嘴具有喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A，2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交。所述喷嘴的特征在于，在所述前端(1B)处设置有至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')被定位在所述凹部中。还公开了一种用于制造如上所限定的喷嘴主体的方法、这种喷嘴在用于雾化液体的吸入装置中的使用和用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置，所述吸入装置包括所述喷嘴。

Description

用于吸入装置的喷雾嘴

本发明涉及用于液体的吸入装置的领域。具体地，本发明涉及一种在这样的吸入装置中使用的雾化喷嘴，以及一种制造这样的喷嘴的方法。

背景技术

长久以来，用于液体的雾化器或其他气雾发生器在本领域中是众所周知的。除其他之外，此类装置还被用于医学科学和医学治疗中。在医学科学和医学治疗中，它们用作吸入装置来以气雾剂(即，嵌入气体中的小液滴)形式施加活性成分。这种吸入装置例如在文件EP 0 627 230B1中是众所周知的。这种吸入装置的主要部件是：储器，在所述储器中含有待雾化的液体；泵送单元，所述泵送单元用于产生用于雾化的足够高的压力；以及喷嘴形式的雾化装置。

在与本发明相同的申请人提交的专利申请EP 17168869中公开了这种吸入装置的改进，所述专利申请的全部内容并入本文中。

为了实现使液滴足够均质且细雾化，通常需要相对较高的压力，诸如10巴、最高1000巴。为了使每个剂量的汽化液体的量保持在可接受的低水平，雾化喷嘴通常包括一个或几个通道，每个通道的截面仅为几μm<2>的数量级，例如从2μm<2>至200μm<2>。通道存在于喷嘴主体中，并且往往使用诸如微蚀刻、微光刻等微技术制造技术来制造。然而，这些技术往往针对硬且脆的材料(诸如硅、玻璃或金属)，并且为了避免在承受所述高压时喷嘴出现任何不期望的变形，所述喷嘴往往由非常刚性的材料制成。

因此，喷嘴通常被保持在金属壳体中，所述金属壳体在组装和使用期间保护所述喷嘴。尽管往往将术语“喷嘴”用于壳体和一起形成实际喷嘴的部分，但在下文中，术语“喷嘴”“”和“喷嘴主体”是指引导液体的“主要”部分。

为了由硅或玻璃制造喷嘴，往往对圆盘状的衬底晶片进行掩模，并且用喷嘴的大量的二维轮廓或诸如通道之类的喷嘴特征进行照射。然后，通过选择性蚀刻，将轮廓、特别是通道竖直地蚀刻到衬底中，使得存在载有数十个或数百个分批制造的半成品喷嘴的晶片。在分离步骤中，通过晶片锯的锯切将所述晶片切割成表示各个喷嘴的块。

然而，如果锯床关于喷嘴的对准不是非常精确的(或者甚至在锯切过程期间发生改变)，则通道的长度会受到不利影响。在一个喷嘴内，如果锯的角度未精确地垂直于所述喷嘴的纵向轴线取向，则两个(或更多个)通道的长度不同，因为所述喷嘴的前边缘不垂直于所述喷嘴的(通常存在的)对称轴线和纵向轴线。此外，一个喷嘴的所有通道的平均长度随喷嘴不同而变化，使得喷嘴的非常不均匀的输出是不期望的结果。

另一个问题源于在锯切期间可能会使材料的小片破裂。这会导致存在不均匀的“条纹状的”通道出口，从而导致射流不佳，因此形成液滴。

又一个问题是由于在使用期间在组装喷嘴时通道出口的损坏或者由于在制造、使用和储存期间的污染而引起的。灰尘或指纹会堵塞出口，从而由于形成不均匀的射流而导致液体汽化不佳。

发明内容

在第一方面中，本发明提供了一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置的喷嘴，所述喷嘴具有喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A、2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，所述喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中所述至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，其中，进一步提供了盖(4)，所述盖遮盖所述至少两个通道(2、2')并且具有前端(4B)，以垂直于所述喷嘴主体(1)的纵向轴线(X)的视角来看所述前端(4B)与所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)一致，并且其中，所述凹部(3)具有第一深度(D')，所述第一深度大于所述至少两个通道(2、2')的所述深度(D)。

在第二方面中，本发明提供了一种用于制造根据本发明的第一方面的喷嘴的方法，所述方法包括以下步骤：

a)提供喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A、2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述前端(1B)

处提供至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，所述喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中所述至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，所述提供喷嘴主体包括以下步骤：

-提供晶片衬底；

-在所述衬底的一个侧面(1A)上制造至少两个液体通道(2、2')，所述通道(2、2')具有限定深度(D)；

-在所述主体(1)的所述一个侧面(1A)中制造具有第一深度(D')的凹部(3)，所述第一深度(D')大于所述至少两个液体通道(2、2')的所述深度(D)，所述凹部遮盖所述通道(2、2')的端部；

-沿着与所述凹部(3)交叉的分割线(5)将所述主体(1)与所述衬底分离；

使得在所述凹部(3)中获得至少两个通道出口(2B、2B')，其中，

所述通道出口(2A、2A')之间的距离保持不受所述分割线(5)偏离最佳分割线(5')的可能角度或线性偏差的影响，以及

b)用盖(4)遮盖所述喷嘴主体(1)。

在进一步方面中，本发明提供了通过根据本发明的第二方面的方法获得或可获得的根据本发明的第一方面的喷嘴，以及提供了根据本发明的第一方面的喷嘴在用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置中的使用。

在又进一步方面中，本发明提供了一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置，所述吸入装置包括根据本发明的第一方面的喷嘴。

发明目的

本发明的目的是提供一种避免已知技术的一个或多个缺点的喷嘴。

进一步目的是提供一种用于制造喷嘴或喷嘴主体的方法，所述方法确保当喷嘴主体与晶片分离时，通道出口的相对位置或质量不受分离过程的影响。

当与晶片分离时，对于具有通道的喷嘴(所述通道关于所述喷嘴的纵向轴线对称和/或具有特定长度)，所述对称性和/或所述长度不受分离过程的影响。

在分批制造时，无论晶片锯是否有轻微不对准，来自一个批次的所有喷嘴的通道长度都应具有期望量度。

在制造、使用或储存期间，应减少易受影响的通道出口受到损坏或污染的风险。

具体实施方式

通过提供一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置的喷嘴来解决所述目的，所述喷嘴具有喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A，2A')，其中，喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在平坦侧面(1A)上，其中，进一步提供了盖(4)，所述盖遮盖至少两个通道(2、2')并且具有前端(4B)，以垂直于喷嘴主体(1)的纵向轴线(X)的视角来看所述前端(4B)与喷嘴主体(1)的前端(1B)一致，并且其中，所述凹部(3)具有第一深度(D')，所述第一深度大于所述至少两个通道(2、2')的深度(D)。

此外，通过根据本发明的第二方面的方法来解决所述目的。在相应的从属权利要求、随后的描述以及附图中描述了本发明的各方面的特定实施方案。

作为参考，假设喷嘴具有纵向轴线(X轴线、X方向)。至少主要指向该方向的距离随后被称为“长度”。术语“宽度”表示从该X轴线(Y轴线)横向延伸的距离，并且术语“深度”和“高度”两者表示垂直于上述两个方向直立的距离。

本发明涉及一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置的喷嘴，并且特别地涉及一种包括并利用多波束碰撞喷嘴的吸入装置。此类喷嘴的特征在于，它们包括多个、具体地至少两个(诸如两个至大约五个或四个)、或更具体地两个液体通道，从所述液体通道中高速地射出液体。如果设计和制造得当，则沿着相应的喷射轨迹延伸的各个射流会彼此相交，从而在碰撞点处形成细雾。

喷嘴包括喷嘴主体，所述喷嘴主体可以由晶片衬底分批制造，所述衬底通常由诸如硅、玻璃或陶瓷之类的脆性材料组成。在进一步实施方案中，它也可以由另一种材料制成，诸如聚合材料，例如诸如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯或聚醚醚酮(PEEK)等的热塑性聚合物。在进一步实施方案中，喷嘴主体可以由硬质塑料材料或三聚氰胺树脂或诸如不锈钢或钛之类的金属制成或包含它们或由它们组成。

喷嘴主体可以具有板状形状，所述板状形状通常具有在厘米或甚至毫米范围内的尺寸，诸如例如1mm至5mm的厚度、5mm至30mm的长度以及5mm至30mm的宽度。

喷嘴主体载有以限定深度被固定在所述喷嘴主体的一个侧面上的至少两个液体通道。为了形成碰撞型喷嘴，必须存在具有相交射流轴线的至少两个通道；因此，如果没有另外说明，则后续例子将基于一个喷嘴中恰好存在两个通道的假设。然而，下面阐述的本发明的范围原则上也涵盖多通道喷嘴。

根据本发明，在前端处提供凹部，(可能多个)通道出口中的至少两个被定位在所述凹部中。

因此，由于所述凹部，提供了关于所述前端以一定偏移后置的通道出口。换句话说，在通道通常将终止的区域处，即，在与前端的对应轮廓匹配的区域处，存在所述凹部。

在一个实施方案中，当从喷嘴的纵向轴线测量“右”和“左”时，该凹部从最右通道的通道外侧面至少横向延伸到最左通道的通道外侧面。在优选的实施方案中，凹部延伸超出所述外侧面优选地至少相同的或相同的距离，所述距离对应于至少两个液体通道的深度(D)与所述凹部的第一深度(D')之间的差值，如下面进一步详细描述的。凹部具有以便“切除”每个通道的理论最前部分(因此将通道出口的位置移位)的尺寸。凹部的深度(D')大于通道深度(D)，以避免或最小化从通道喷射的液体射流与凹部表面的接触。通过提供凹部，通道出口被后置在喷嘴中(诸如被定位在凹部的后壁处)；距离(＝偏移)等于凹部的在平行于喷嘴的纵向轴线的方向上测得的从所述喷嘴的前端到凹部的“后壁”的尺寸。

载有所述通道的侧面通常是喷嘴主体的“平坦”侧面或“顶”侧面，所述喷嘴主体可以具有例如板状或立方体的总体形状。在以上例子中，对于由具有尺寸为例如约30mmx30mmx5mm的半成品制成的喷嘴，这将是具有较大尺寸(诸如30mmx30mm)的侧面。在这种背景下，具有较小尺寸(诸如例如，30mmx5mm)的侧面将被称为“前端”，从而表示喷嘴的最前物理部分，并且还表示各个液体射流离开通道的大致方向。通常，前端和顶侧面彼此垂直布置。

每个通道的射流轴线或喷射轨迹(但不一定是通道轴线本身)与和喷嘴的前端一致的所述前平面交叉，以便在不存在凹部时在所述平面中形成“虚拟”通道出口，即，通道出口的“虚拟”位置。术语“虚拟的”指示在本发明中并且由于凹部的存在，存在位于不同位置的“真实”通道出口(简称为出口)。

结果，当通过沿着分割线的锯切或激光切割来将喷嘴与衬底分离时，即使所述分割线的取向不同于垂直于喷嘴的纵向轴线延伸的最佳分割线，通道出口之间的距离也会保持不受影响。因此，距离(其精确调整是用于获得最佳雾化结果的重要措施)变为与分割线的取向无关。这是可能的，因为通道的出口变为由凹部的后端的位置所限定，所述位置不受分离过程的影响。由于该位置是制造通道结构本身的相同精确过程(例如，掩膜和选择性蚀刻、激光钻孔、激光烧蚀)的结果，因此可以精确控制该位置。然而，它不依赖于分离过程，(即，在没有凹部的情况下)所述分离过程将以其他方式确定通道出口的位置和取向，所述通道出口然后将被定位在(锯开的或以其他方式分离的)前端上。

而且，由于通道出口位于精确形成的区域(凹部的后壁)中，而不是喷嘴的可能不平坦或甚至“磨损”的前端，因此射流质量处于很高的水平，并且不受锯切质量的影响。

此外，观察由表示多个喷嘴的图案制造的并且然后与单个衬底分离的邻接喷嘴，不仅每个单独喷嘴内的通道之间的距离保持恒定，而且对于由晶片衬底制造的所有喷嘴保持恒定。因此，可以实现非常均质的批次，从而产生更高的质量和与预期设计有更少的偏差。

进一步优点是，显著降低了损坏或污染易受影响的通道出口的风险，因为根据相应设计，凹部的尺寸可以被设置成阻止接触通道出口所处的后端，从而使得在使用或储存期间，不可能因意外接触而触及到它们。

根据一个实施方案，提供至少两个(或更多个)凹部；在这些两个或更多个凹部中的至少两个凹部的每个凹部中，仅一个通道出口位于其中。在进一步特定实施方案中，为每个通道出口提供一个单独的凹部。这意味着在每个通道出口处均存在一个单独凹部，所述凹部使所述出口距离相应前端被后置。

该实施方案的优点在于，为了获得制造独立性的效果，必须去除较少材料，并且由于凹部尺寸小，尤其是当与用于两个或更多个通道出口的较大的单个凹部相比时，进一步增强了前面提及的保护效果，所述两个或更多个通道出口以彼此相距相对较大的距离被定位。

根据特定实施方案，喷嘴主体可以为整体结构，或者可以从整体结构中获得。这意味着，包括内部通道结构在内的整个喷嘴主体结构是由块体材料加工的，并且即，为了闭合最初敞开的通道结构(其中“敞开的”当然不是指正常运行所必需的开口，诸如通道出口)，除了对应的盖之外，不需要其他附加部分。例如，通过在由光敏材料组成的块中刻入通道结构，并且进一步蚀刻掉被照亮的区域，可以在所述块内部形成通道。运用相同的方法，也可制造根据本发明的(多个)凹部。

喷嘴主体具有平坦侧面，其中至少两个液体通道以限定深度被固定在所述平坦侧面上，其中，进一步提供了盖，所述盖遮盖至少两个通道并且具有前端，从垂直于喷嘴的纵向轴线的视角来看所述前端与喷嘴主体的前端一致。

换句话说，为了在所有横向方向上封闭通道但不封闭入口和出口区域，提供了遮盖喷嘴主体的最初敞开的顶侧面的盖。盖可以由与晶片衬底相同的材料制成，但是它也可以由另一种材料制成，诸如聚合材料，例如诸如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯或聚醚醚酮(PEEK)等的热塑性聚合物。在特定实施方案中，喷嘴主体和盖中的至少一者可以由PEEK形成。在进一步特定实施方案中，喷嘴主体和盖可以由PEEK形成，或者换句话说，可以包含PEEK或由PEEK组成。在其他实施方案中，喷嘴主体或盖可以由PEEK形成，而另一个可以由另一种材料形成或可以包含另一种材料或由另一种材料组成，优选地为硅或玻璃。在进一步实施方案中，如上所述的盖和/或喷嘴主体可以由硬质塑料材料或三聚氰胺树脂或诸如不锈钢或钛之类的金属制成或包含它们或由它们组成。

例如，衬底可以由硅组成，而盖可以由玻璃组成，反之亦然。盖的前端应与喷嘴主体的前端对准。在特定的实施方案中，盖的前线和喷嘴主体的前线可以垂直于所述喷嘴主体的纵向轴线取向。然而，即使在喷嘴个性化之前将盖与衬底连接之后不是这种情况，也可以将锯切过程设计成导致这种对准。

在特定的实施方案中，盖被提供为可能的预结构化的第二衬底，所述第二衬底被结合到喷嘴主体衬底。在结合之后，可将喷嘴分离。因此，并非所有的盖都必须单独放置并结合到衬底，或者甚至不必结合到已经个性化的喷嘴主体上。然而，后者也是可能的。

在进一步特定实施方案中，盖载有喷嘴主体载有的一些或全部结构，但是呈倒置图案。因此，当将盖结合到喷嘴主体时，两者一起形成液体结构。例如，通道的侧壁由固定在喷嘴主体中的较低部分和固定在盖中的较高部分组成。实际上，如果喷嘴被设计成关于其纵向轴线高度对称，则盖可以由第二喷嘴主体提供，所述第二喷嘴主体被放置成使其平坦侧面抵靠第一喷嘴主体的平坦侧面。

在特定的实施方案中，盖可以提供凹部的上部，其中，所述部分从盖的一个侧面延伸到另一个侧面。在这些实施方案中，凹部部分可以具有倒角的形状，具有与通道邻接的边缘。在优选实施方案中，所述边缘与通道出口的相应边缘共线。以此方式，可以绕所述通道出口设置圆周台阶。

可以与这些实施方案相关联的附加优点是，由于毛细作用，待从喷射通道喷射的液体可以朝向喷嘴的侧面被运输离开出口，所述液体可以在喷嘴的使用期间绕所述出口集聚。

凹部的深度(D')大于所述通道的深度(D)。这导致在通道的出口处形成台阶，所述台阶也可以被精确地制造。以此方式，每个通道出口具有提供高表面质量的(至少)三个侧面，即，(当沿着纵向轴线观察时，由凹部的“宽度”限定的)右侧面和左侧面以及(从同一视角来看，由凹部的深度限定的)底侧面。这种高表面质量还将在通道出口处产生高质量边缘，所述高质量边缘也是特别有利的，因为它们进一步有助于在工作条件下从喷嘴射出精确定义的、可重复的液体射流。

凹部的深度的大小为通道深度乘以>1的因数。乘数因数可以例如在1.1与50之间的范围内，并且优选地在1.5至30的范围内或者在1.5至10或1.5至5的范围内，诸如约为3。液体通道的深度(D)与凹部的深度(D')之间的差值在绝对量度上可以在从约20μm至约400μm(优选地从约20μm至约100μm)的范围内。朝向侧面，凹部壁距离每个通道出口的距离可以为例如100μm至150μm；凹部的长度(偏移)可以例如为从约50μm至80μm的量。

在特定的实施方案中，至少两个喷射通道的长度可以在从约20μm至约500μm、或从约50μm至约150μm的范围内，诸如约100μm。在进一步特定实施方案中，至少两个喷射通道具有相等长度。此外，至少两个喷射通道的截面可以在从约2μm<2>至约400μm<2>或者从约10μm<2>至约100μm<2>(诸如从约20μm<2>至约50μm<2>)的范围内。优选地，至少两个喷射通道具有在通道的整个长度上恒定的截面。

优选地，每个通道出口至少在三个方向(右、左、下)上被对称的圆周台阶包围。在特定的实施方案中，通道出口在四个方向(右、左、下、上)上被圆周台阶、更确切地对称圆周台阶包围。

在优选的实施方案中，上述盖在其前端处具有凹部延伸到所述盖中的部分。换句话说，盖也具有凹部，或者与喷嘴主体共用凹部。以此方式，喷嘴主体中的凹部的优点被“复制”到盖上。具体地，可以提供完全围绕通道出口的台阶。

在进一步特定实施方案中，盖的凹部关于与所述一个侧面平行并且将通道分成相等高度的两半(中心平面)的平面对称于喷嘴主体的凹部。以此方式，增加了所述台阶的对称性；在离开通道时，射流不会被汲取到一个特定侧面，因为顶侧面和底侧面到通道出口的距离可以相同。

根据进一步特定实施方案，沿着纵向轴线的方向看，所述凹部可以具有增加的深度和/或宽度，使得提供倾斜截面，所述倾斜截面在前端处最宽。换句话说，提供了凹部的连续变宽和/或加深的截面。这种倾斜的、加宽的和/或加深的截面允许从通道出口到凹部壁的特别平滑过渡，从而提供液体射流离开通道出口的“喇叭状”或“钟状”区域。

这种截面可以通过以下方式实现：沿着垂直于一个侧面(即，载有通道的顶侧面)的方向相继移除的材料越多，就越靠近前端。在通道出口处，深度和宽度以及因此去除量可以分别大于通道出口本身的深度或通道出口之间的外部距离。斜率可以是例如线性的、指数的或对数的。

在进一步特定实施方案中，喷嘴包括多个喷嘴主体。这些喷嘴主体可以彼此堆叠，因此形成单个喷嘴主体的堆叠。在这些实施方案中，每个喷嘴主体可以具有前端(1B)并且可以包括至少两个喷射通道(2、2')，其中每个通道(2、2')具有通道出口(2A、2A')，其中，喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，并且在前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上。

在特定的实施方案中，如果存在喷射轨迹各自相交的至少两对射流，则可获得具有多个碰撞点的喷嘴。每对可以由一个“层”(即，一个喷嘴主体)提供。

在进一步特定实施方案中，每个喷嘴主体可以具有其自己的凹部。这意味着可以存在多个单独的凹部，其中，每个凹部仅遮盖通道的子组；优选地，这是由一个单独的喷嘴主体(“层”)的通道组成的子组。该实施方案的优点在于，各个凹部可能很小，因此提高了前面提及的保护效果。

在进一步实施方案中，多个喷嘴主体可共用一个公共凹部。这意味着凹部延伸越过一个以上的喷嘴主体或喷嘴层，因此遮盖一些甚至全部通道出口。该实施方案的优点在于，例如在堆叠各个喷嘴主体以形成喷嘴之后的一个步骤中，可以更容易地制造公共凹部。

在进一步特定实施方案中，与一个喷嘴主体的平坦侧面相对的侧面用作邻接喷嘴主体的盖。换句话说，第一喷嘴主体的“顶”侧面被第二喷嘴主体的“底”侧面封闭。

以此方式，只有最后一个(最顶部的)喷嘴主体需要被特定盖封闭；所有其他层均被邻接的层封闭。这导致喷嘴结构更简单，同时单独的部分和过程步骤更少。

在第二方面中，本发明还涉及一种用于制造根据如以上所限定的本发明的第一方面的喷嘴的方法，所述方法包括以下步骤：

a)提供喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A、2A')，其中，喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，所述提供喷嘴主体包括以下步骤：

-提供晶片衬底；

-在主体(1)的所述一个侧面(1A)中制造具有第一深度(D')的凹部(3)，所述第一深度(D')大于所述至少两个液体通道(2、2')的深度(D)，所述凹部遮盖通道(2、2')的端部；

-沿着与所述凹部(3)交叉的分割线(5)将所述主体(1)与衬底分离；

使得在所述凹部(3)中获得至少两个通道出口(2B、2B')，其中，

b)用盖(4)遮盖所述喷嘴主体(1)。

结果，获得了位于所述凹部中的至少两个通道出口。因此，凹部的“后壁”限定通道出口的位置，而不是分割线的位置或取向，喷嘴主体沿着所述分割线与剩余的衬底或块体材料分离。因此，所述通道出口之间的距离保持不受所述分割线偏离最佳分割线的可能偏差的影响。通常，这种最佳分割线垂直于喷嘴主体的纵向轴线和/或平行于前平面(即，没有角度偏移或轴向偏移)延伸。以此方式，制造过程的结果变为独立于锯切线的精确取向。

显然，这种独立性有其局限，但这些局限通常超出了通过关于生产过程的正常努力可能要提供的精度。举例来说，观察在喷嘴主体的纵向轴线方向上测量的直径为300mm、各个喷嘴主体尺寸为3mm×5mm和通道长度为150μm的标准晶片，锯切线偏离最佳分割线1度的偏差仍然是可容忍的。

在特定的实施方案中，在概括为步骤a)的工艺步骤之后，根据步骤b)，所述喷嘴主体(1)被盖(4)遮盖。为了遮盖所述喷嘴主体，可将所述盖放置并附接或结合到喷嘴主体的具有通道的侧面上。

在进一步特定实施方案中，可以将载有多个盖的衬底放置并结合到喷嘴主体的结构化但尚未分段的衬底上，并且在沿着分割线结合之后进行分段。

用于遮盖喷嘴主体的盖可以为非结构化的，或者它可以以如喷嘴主体衬底相同的方式(即，通过在盖的侧面上制造通道)制造。因此，通过将主体和盖适当地对准，两个衬底中的通道和凹部匹配，并且结果是喷嘴具有用于在所述喷嘴的两个部分中的液体的管道结构。并且，盖可以为主体的镜像副本；换句话说，通过将两个匹配的喷嘴主体结合在一起，也可以获得喷嘴。

在其中在所述晶片衬底中分批制造表示多个喷嘴主体的图案的特定实施方案中，分割线与已经在衬底内形成的所有凹部交叉。在这些实施方案中，不仅一个单个喷嘴主体，而且所有相邻的喷嘴主体都沿着一条公共分割线被分离。所述线与所有喷嘴主体的所有凹部交叉。因此，关于一个单独的喷嘴主体的前面提及的优点被加倍成使得所有喷嘴主体具有对于均质的分批质量而言相同的几何尺寸。

根据特定实施方案，可以通过蚀刻来制造通道和/或(多个)凹部。当将晶片形的衬底、优选地玻璃或硅的晶片衬底用于大量喷嘴主体的分批制造时，该制造技术特别有利。

根据另一个实施方案，可以通过激光钻孔和/或激光烧蚀来制造通道和/或(多个)凹部。如果喷嘴主体是由整体块或由如上面结合本发明的第一方面的喷嘴主体或盖所描述的其他材料制成的，则该制造技术是特别有利的。

在第三方面中，本发明还涉及通过根据本发明的第二方面的过程获得或可获得的根据如上面所描述的本发明的第一方面的喷嘴。换句话说，当通过描述的过程制造所述喷嘴主体时，本发明涉及包括如上面所限定的喷嘴主体的所有喷嘴。

在第四方面中，本发明还涉及如上面所描述的根据本发明的第一方面的喷嘴在用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置中的使用。

在第五方面中，本发明涉及一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置，所述吸入装置包括根据本发明的第一方面的喷嘴。因此，本发明还涉及一种用于将液体、优选地包括可吸入活性药物成分(API)的液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置，所述吸入装置包括喷嘴，所述喷嘴具有喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A，2A')，其中，喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，其中，进一步提供盖(4)，所述盖遮盖至少两个通道(2、2')并且具有前端(4B)，以垂直于所述喷嘴主体(1)的纵向轴线(X)的视角来看所述前端(4B)与所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)一致，并且其中，所述凹部(3)具有第一深度(D')，所述第一深度大于所述至少两个通道(2、2')的深度(D)。

为了避免重复，参考了以上关于喷嘴、其制造方法以及包括这种喷嘴的吸入装置的解释，以及随后的附图描述。

附图说明

随后，借助于以下附图例示本发明。在附图中，

图1示出了根据现有技术的喷嘴主体；

图2示出了由成角度的分割线得到的如图1中的喷嘴主体；

图3示出了具有凹部的喷嘴主体；

图4示出了具有增加的深度的凹部的喷嘴主体；

图5示出了由偏移的分割线得到的如图4中的喷嘴主体；

图6示出了由成角度的分割线得到的如图4中的喷嘴主体；

图7示出了被盖遮盖、具有单个凹部的如图4中的喷嘴主体；

图8示出了被盖遮盖、具有两个单独凹部的喷嘴主体；

图9示出了被盖遮盖、具有并排凹部的如图4中的喷嘴主体；

图10示出了喷嘴的前部的剖视图；

图11示出了具有延伸到盖中的凹部的喷嘴；

图12示出了沿着最佳分割线与衬底分离的多个现有技术的喷嘴主体；

图13示出了当沿着成角度的分割线分离时多个现有技术的喷嘴主体；

图14示出了在沿着偏移分割线分离之前的根据本发明的多个喷嘴主体；并且

图15示出了在沿着成角度的分割线分离之前的根据本发明的多个喷嘴主体。

在图1中，示意性地描绘了根据现有技术的喷嘴主体1。喷嘴主体1具有矩形立方体的总体形状。在后部，存在收集室；然而，为了清楚起见，在附图中省略了入口管道等。

在所述喷嘴主体1的一个平坦侧面1A上存在以一定深度D被固定的两个液体通道2、2'。纵向轴线X(细虚线)沿着喷嘴主体1的长度方向延伸。

每个通道2、2'的每个射流轴线A、A'(点虚线)与和喷嘴主体1的前端1B一致的前平面交叉。在该例子中，射流轴线A、A'与相应的通道轴线(无附图标记)共线。在描绘现有技术的图1中，如此形成的“前端通道出口”2B、2B'(在没有凹部的情况下)位于也作为前端1B的该前平面中。

在制造期间，可以通过沿着分割线5(粗虚线)将喷嘴主体1与较大的单元(例如，晶片)切割开或以其他方式分离来产生前端1B。在例子中，该分割线5与最佳分割线5'共线。因此，前端通道出口2B、2B'的在它们相应的射流轴线A、A'之间测得的横向距离Y是最初设计的或预期的。

在图2中，描绘了如图1中的但由(关于最佳分割线5')非最佳的、成角度的分割线5产生的现有技术的喷嘴主体。在该图中，省略了一些已经引入的附图标记。

如可见，由于分割线5偏离最佳分割线5'的角度偏差，在相应的前端通道出口2B、2B'处，前端通道出口2B、2B'的在它们相应的射流轴线A、A'之间再次测得的横向距离Y'不是最初设计的(在该例子中，它比预期的要大)。由于前端通道出口2B、2B'现在不再位于预期平面(图1中的前平面)中，而是位于由所述角度偏差产生的平面中，因此它们相应的长度(无附图标记)也彼此不同。这可能会导致雾化效果不佳。在例子中，通道2比通道2'短。

如图3中所示出的，示例性喷嘴主体1具有凹部3。凹部3的深度D'在该例子中等于通道2、2'的深度D。如通道2、2'，凹部3也被提供在所述平坦侧面1A上。它作为前端的凹陷位于喷嘴主体1的前端1B处。因此，凹部3可以被理解为包围(现在是“虚拟的”)前端通道出口2B、2B'(阴影区域)，使得提供了关于所述前端1B以一定偏移O1后置的(“真实的”)通道出口2A、2A'。

因此，由于沿着分割线5'(在该例子中也是最佳分割线5)诸如通过机械锯切将喷嘴主体1与较大单元分离而对前端1B造成的任何潜在损坏不会影响通道出口2A、2A'，因为锯片或任何其他分离工具绝对不会接触这些通道出口。因此，在雾化期间从此类通道喷射的液体射流的质量也不受影响。即使由于较快锯切而增加了正面1B的表面粗糙度，这也不会对射流质量产生负面影响。因此，可以使用更快和/或成本更低的分离技术来将喷嘴主体1与其衬底分离。

在图4中，示出了具有增加的深度D'的凹部3的喷嘴主体1。以此方式，在通道2、2'的出口2A、2A'处存在台阶，所述台阶也可以被精确地制造。在例子中，每个通道出口2A、2A'(在添加诸如盖之类的对应物之前)具有可以被设计成展现出较高的表面质量的三个侧面，即，(由凹部3的宽度W'限定的)右侧和左侧以及(由凹部3的深度D'限定的)底侧。应指出的是，为了获得令人满意的射流质量，尤其是围绕每个通道出口2A、2A'的边缘的质量必须是良好的；对于所有实施方案都是如此。该实施方案的优点在于，离开通道2、2'的液体射流(未示出)不与可以具有较低表面质量或较低边缘质量的任何其他表面或边缘接触，因此确保了高质量的且可重复性的雾化。

图5示出了如图4中所示出的喷嘴主体1，但在这种情况下，喷嘴主体1沿着分割线5个性化，所述分割线与最佳分割线5’间隔开偏移O2，位于喷嘴主体1的前面。因此，图5中的喷嘴主体1的前端1B与图4中的前端平行。尽管存在这种差异，但出口2A、2A'彼此之间具有与图4的实施方案相同的期望距离。因此，分割线5的位置可以在一定范围内变化，而不影响喷嘴主体1的相关几何形状。

在图6中，示出了与图4中的喷嘴主体类似的喷嘴主体，但在所描绘的情况下，喷嘴主体1沿着分割线5个性化，所述分割线包括与最佳分割线5’所成的尖角α。然而，并且，该偏移既不影响通道的长度，也不影响其通道出口的距离(省略了相应的附图标记)，因为凹部3为分割线5的不精确取向提供了“缓冲”。

当然，只要最终的切割平面完全位于凹部3内，凹部3就还可以补偿角度偏差和偏移偏差以及任何其他偏差的组合的其他方式的负面影响。

在图7中，示出了被盖4遮盖的喷嘴主体1。所得的喷嘴包括单个凹部3，所述凹部具有位于喷嘴主体1中的下部和位于盖4中的上部3'。如可见，存在围绕两个通道出口2A、2A'的圆周台阶。

相反，在图8中示出了可以由整体结构制成的另一个喷嘴主体1。因此，不需要盖。在该实施方案中，存在两个单独的凹部3，每个凹部分别围绕一个通道出口2A和通道出口2A'。显然，如果喷嘴主体1被设计为例如图7中示出的具有“敞开”通道2、2'和盖4，则具有两个凹部的实施方案也是可能的。

图9示出了具有盖4的实施方案，所述盖提供了凹部3的上部3'，其中，所述部分3'从盖4的一个侧面延伸到另一个侧面。凹部部分3'具有倒角的形状，具有与通道邻接的边缘6。如所示出的，优选地，所述边缘6与通道出口2A、2A'的相应边缘共线。以此方式，绕所述出口2A、2A'仍提供了圆周台阶。

所述实施方案的附加优点在于，由于毛细作用，在喷嘴使用期间绕出口2A、2A'可以积聚的液体朝向喷嘴的侧面被输送离开出口。显然，所示出的角度或尺寸均未按比例绘制；根据诸如液体粘度之类的物理参数，可能需要其他尺寸以便获得最佳结果。同样明显的是，倒角的斜率必须大于射流的直径，以便避免射流与部分3'的壁碰撞。

在图10中，示出了基于图3至图6的实施方案的包括喷嘴主体1的喷嘴的前部的剖视图。在该实施方案中，将以用作罩的盖4形式的对应物放置在一个侧面1A上，以便封闭通道2、2'(通道2'不可见)。剖视图穿过通道2的端部，因此没有绘制剖面线。

由于凹部3，通道出口2A偏移前端1B的距离为O1。如可见，以垂直于纵向轴线X(从图7上方，平行于绘制平面)的视角来看盖4的前端4B与喷嘴主体1的前端1B一致。

尽管非一致实施方案也是可能的，但图10的实施方案是特别有利的，因为它可以通过以下方式实现：首先将包括包含喷嘴主体的衬底和包含多个盖4的另一个衬底彼此结合，然后通过沿着与图10中的绘制平面垂直的分割线将最初的半成品喷嘴与其相邻喷嘴(未描绘)分离使得获得个性化喷嘴，每个个性化喷嘴包括喷嘴主体和与其结合的盖。由于在相同的工作步骤中切割盖衬底和喷嘴主体衬底，因此会自动产生一致性。一个优点是对称结果，因为在通道出口2A、2A'前面的顶侧面和底侧面是基本上彼此镜像倒置的。因此，液体射流将不会在这些方向中的任何一个方向上有偏差。

在图11中，示出了包括喷嘴主体1和盖4的喷嘴的进一步实施方案，其再次具有凹部3，所述凹部具有延伸到盖4中的部分3'，类似于图7中所示的实施方案。凹部3的下部位于喷嘴主体1中，从而也封闭通道2，而上部3'位于盖4中。在该实施方案中，部分3'关于与所述一个侧面1A平行的喷嘴中心平面P(虚线)与喷嘴主体1的凹部3的下部对称。

进一步，并且与图10中所示的情况相反，在该实施方案中，从通道出口2A、2A'看，凹部3具有增加的深度D'(在图11中的竖直方向上测量)，因此朝向前端1B、4B扩大。任选地，宽度也可以沿相同方向增加。以此方式，提供了所示的倾斜截面，其在相应的前端1B、4B处最大。这种倾斜截面允许从通道出口2A、2A'到凹部壁的特别平滑过渡，从而提供液体射流(未示出)离开每个通道出口的“钟形”区域。结果，提高了射流质量。

图12示意性地示出了来自已知技术的多个喷嘴主体，所述多个喷嘴主体仅仅沿着它们相应的前端(省略了附图标记)与衬底(未示出)分离。最佳分割线5'由虚线指示。结果，所有喷嘴主体都是相同的；具体地，对于所有喷嘴主体，通道出口之间的距离是相同的。

然而，如果喷嘴主体沿着分割线5分离，如图13中所描绘的，则存在角度偏差，这导致通道出口的横向距离Y'发生变化，这显然是不期望的。而且，一个喷嘴主体的两个通道的相应长度也略有不同(每个左通道比相应的右通道短)。

如上所述的具有凹部的喷嘴可以有效地避免该缺点。

如图14中可见，最佳分割线5’与实际分割线5之间的偏移不会影响通道出口位置或通道长度(省略附图标记)，除非偏移O1大于凹部3的长度(偏移O2)。

而且，如图15中可见，只要分割线5与每个喷嘴主体的凹部3交叉，分割线5的角度偏差就不会影响通道出口的位置或长度。

以下是本发明所包括的编号条款的列表：

1.一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置的喷嘴，所述喷嘴具有喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A，2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，

其中，

所述喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中所述至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，其中，进一步提供盖(4)，所述盖遮盖所述至少两个通道(2、2')并且具有前端(4B)，以垂直于所述喷嘴主体(1)的纵向轴线(X)的视角来看所述前端(4B)与所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)一致，并且其中，

所述凹部(3)具有第一深度(D')，所述第一深度大于所述至少两个通道(2、2')的所述深度(D)。

2.根据条款1所述的喷嘴，其中，提供至少两个凹部(3)，并且其中，仅一个通道出口(2A、2A')位于所述两个凹部的每一个中。

3.根据条款1或2所述的喷嘴，其中，所述喷嘴主体(1)是整体结构。

4.根据前述条款中任一条款所述的喷嘴，其中，所述凹部(3)进一步具有延伸到所述盖(4)中的部分(3')。

5.根据前述条款中任一条款所述的喷嘴，其中，沿着纵向轴线(X)看，所述凹部(3)具有增加的深度(D')和/或宽度(W')，使得提供倾斜截面，所述倾斜截面在所述前端(1B、4B)处最宽。

6.根据前述条款中任一条款所述的喷嘴，包括多个喷嘴主体(1)。

7.根据条款6所述的喷嘴，其中，每个喷嘴体(1)具有其自己的凹部(3)。

8.根据条款6所述的喷嘴，其中，多个喷嘴主体(1)共用一个公共凹部(3)。

9.根据前述条款中任一条款所述的喷嘴，其中，与一个喷嘴主体(1)的所述平坦侧面(1A)相对的侧面用作邻接喷嘴主体(1)的盖(4)。

10.根据条款4至9中任一条款所述的喷嘴，其中，所述盖(4)提供所述凹部(3)的上部(3')，并且其中，所述部分(3')从所述盖(4)的一个侧面延伸到另一个侧面。

11.根据条款10所述的喷嘴，其中，所述凹部部分(3')具有倒角的形状，具有与通道邻接的边缘(6)。

12.一种用于制造根据前述条款中任一条款所述的喷嘴的方法，所述方法包括以下步骤：

a)提供喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A、2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，所述喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，所述至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，

所述提供喷嘴主体包括以下步骤：

-提供晶片衬底；

使得在所述凹部(3)中获得至少两个通道出口(2B、2B')，其中，所述通道出口(2A、2A')之间的距离保持不受所述分割线(5)偏离最佳分割线(5')的可能角度或线性偏差的影响，以及

b)用盖(4)遮盖所述喷嘴主体(1)。

13.根据条款12所述的方法，其中，所述盖(4)遮盖所述至少两个通道(2、2')，并且所述盖具有前端(4B)，以垂直于所述喷嘴主体(1)的纵向轴线(X)的视角来看所述前端(4B)与所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)一致。

14.根据条款12或13所述的方法，其中，在所述晶片衬底中分批制造表示多个喷嘴主体(1)的图案，并且其中，所述分割线(5)与所有凹部(3)交叉。

15.根据条款12至14中任一条款所述的方法，其中，所述喷嘴是由晶片衬底分批制造的。

16.根据条款12至15中任一条款所述的方法，其中，所述晶片衬底包含诸如硅、玻璃或陶瓷之类的脆性材料或由其组成。

17.根据条款12至15中任一条款所述的方法，其中，所述晶片衬底包含聚醚醚酮(PEEK)或由其组成。

18.根据条款1至11中任一条款所述的喷嘴，其中，所述喷嘴是由晶片衬底分批制造的。

19.根据条款1至11或18中任一条款所述的喷嘴，其中，所述晶片衬底包含诸如硅、玻璃或陶瓷之类的脆性材料或由其组成。

20.根据条款1至11或条款18至19中任一条款所述的喷嘴，其中所述晶片衬底包含聚醚醚酮(PEEK)或由其组成。

21.根据条款1至11或条款18至20中任一条款所述的喷嘴,所述喷嘴通过根据条款12至17中任一项所述的方法而获得或可获得。

22.一种根据条款1至11或条款18至21中任一条款所述的喷嘴在用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置中的用途。

23.一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置，所述吸入装置包括根据条款1至11或条款18至21中任一条款所述的喷嘴。

附图标记列表

1 喷嘴主体

1A 平坦侧面

1B 前端

1C 包括区域的前端

2、2’ 喷射通道、液体通道、通道

2A、2A’ 通道出口

2B、2B’ 前端通道出口

3 凹部

3’ 凹部的上部

4 盖

4B 前端

5 分割线

5’ 最佳分割线

6 边缘

D 深度

D’ 深度

W’ 宽度

A、A’ 喷射轴线

X 纵向轴线

Y、Y’ 横向距离

O1、O2 偏移

α 角度

P 平面

Claims

1.一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置的喷嘴，所述喷嘴具有喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A，2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，

所述喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中所述至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，其中，进一步提供盖(4)，所述盖(4)遮盖所述至少两个通道(2、2')并且具有前端(4B)，以垂直于所述喷嘴主体(1)的纵向轴线(X)的视角来看所述盖(4)的所述前端(4B)与所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)一致，并且其中，

2.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，提供至少两个凹部(3)，并且其中，仅一个通道出口(2A、2A')位于所述至少两个凹部(3)的每一个中。

3.根据权利要求1或2所述的喷嘴，其中，所述喷嘴主体(1)是整体结构。

4.根据权利要求1或2所述的喷嘴，其中，所述凹部(3)进一步具有延伸到所述盖(4)中的上部(3')。

5.根据权利要求1或2所述的喷嘴，其中，沿着纵向轴线(X)看，所述凹部(3)具有增加的深度(D')和/或宽度(W')，使得提供倾斜截面，所述倾斜截面在所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)、所述盖(4)的所述前端(4B)处最宽。

6.根据权利要求4所述的喷嘴，其中，沿着纵向轴线(X)看，所述凹部(3)具有增加的深度(D')和/或宽度(W')，使得提供倾斜截面，所述倾斜截面在所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)、所述盖(4)的所述前端(4B)处最宽。

7.根据权利要求1或2所述的喷嘴，包括多个喷嘴主体(1)。

8.根据权利要求7所述的喷嘴，其中，每个喷嘴主体(1)具有其自己的凹部(3)。

9.根据权利要求7所述的喷嘴，其中，多个喷嘴主体(1)共用一个公共凹部(3)。

10.根据权利要求1或2所述的喷嘴，其中，与一个喷嘴主体(1)的所述平坦侧面(1A)相对的侧面用作邻接喷嘴主体(1)的盖(4)。

11.根据权利要求4所述的喷嘴，其中，所述盖(4)提供所述凹部(3)的所述上部(3')，并且其中，所述上部(3')从所述盖(4)的一个侧面延伸到另一个侧面。

12.根据权利要求11所述的喷嘴，其中，所述上部(3')具有倒角的形状，具有与通道邻接的边缘(6)。

13.根据权利要求1或2所述的喷嘴，其中，所述喷嘴是由晶片衬底分批制造的。

14.根据权利要求13所述的喷嘴，其中，所述晶片衬底包含脆性材料。

15.根据权利要求13所述的喷嘴，其中，所述晶片衬底由脆性材料组成。

16.根据权利要求14或15所述的喷嘴，其中，所述脆性材料为硅、玻璃或陶瓷。

17.根据权利要求13所述的喷嘴，其中，所述晶片衬底包含聚醚醚酮。

18.根据权利要求13所述的喷嘴，其中，所述晶片衬底由聚醚醚酮组成。

19.一种用于制造根据前述权利要求中任一项所述的喷嘴的方法，所述方法包括以下步骤：

a)提供喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A、2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，所述喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中所述至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，所述提供喷嘴主体包括以下步骤：

-提供晶片衬底；

b)用盖(4)遮盖所述喷嘴主体(1)。

20.根据权利要求19所述的方法，其中，所述盖(4)遮盖所述至少两个通道(2、2')，并且所述盖具有前端(4B)，以垂直于所述喷嘴主体(1)的纵向轴线(X)的视角来看所述盖(4)的所述前端(4B)与所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)一致。

21.根据权利要求19或20所述的方法，其中，在所述晶片衬底中分批制造表示多个喷嘴主体(1)的图案，并且其中，所述分割线(5)与所有凹部(3)交叉。

22.根据权利要求19或20所述的方法，其中，所述喷嘴是由晶片衬底分批制造的。

23.根据权利要求22所述的方法，其中，所述晶片衬底包含脆性材料。

24.根据权利要求22所述的方法，其中，所述晶片衬底由脆性材料组成。

25.根据权利要求23或24所述的方法，其中，所述脆性材料为硅、玻璃或陶瓷。

26.根据权利要求19或20所述的方法，其中，所述晶片衬底包含聚醚醚酮。

27.根据权利要求19或20所述的方法，其中，所述晶片衬底由聚醚醚酮组成。

28.根据权利要求1至18中任一项所述的喷嘴，其通过根据权利要求19所述的方法而获得或可获得。

29.一种根据权利要求1至18中任一项所述的喷嘴在用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置中的用途。

30.一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置，所述吸入装置包括根据权利要求1至18中任一项所述的喷嘴。