CN112090603B - 微流体器件及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种微流体器件，包括：第一基板，所述第一基板具有第一安装侧；第二基板，所述第二基板具有第二安装侧，所述第二安装侧能够与所述第一安装侧相互连接以将所述第一基板与所述第二基板安装在一起；其中，所述第一安装侧和所述第二安装侧中的至少一个具有流体腔室槽，在所述第一基板与所述第二基板安装在一起后，所述流体腔室槽形成具有流体入口和流体出口的流体腔室；以及其中，具有所述流体腔室槽的所述第一安装侧和/或所述第二安装侧具有与所述流体出口相邻的出口扩展槽，所述出口扩展槽从所述流体出口向下游延伸，并且其中在所述流体出口处，所述出口扩展槽的外周轮廓位于所述流体出口的外周轮廓之外。

Description

微流体器件及其制造方法
技术领域
本申请涉及微流体技术领域，更具体地，涉及一种微流体器件及其制造方法。
背景技术
微流控技术是一种用于精确控制和操控微小体积流体的技术。在实际应用中，实现微流控的微流体器件中流体通道的尺度非常小，约为100纳米至500微米，甚至更小。
随着相关研究的持续发展，微流控技术在诸多领域开始得到应用。喷墨打印头就是微流控技术最成功的商业应用之一。此外，一些液体雾化器，特别是体积控制要求较高的医用雾化器，也逐渐开始使用微流体器件作为其雾化喷嘴。雾化喷嘴受到高压作用，将液体雾化成非常微小的液滴，以提高肺部对液滴的吸收率。
然而，现有的微流体器件对流体体积或流量的控制精度有限，因此需要一种改进的微流体器件。
发明内容
本申请的一个目的在于提供一种微流体器件，以提高流体体积和流量的控制精度。
在本申请的一个方面，提供了一种微流体器件，包括：第一基板，所述第一基板具有第一安装侧；第二基板，所述第二基板具有第二安装侧，所述第二安装侧能够与所述第一安装侧相互连接以将所述第一基板与所述第二基板安装在一起；其中，所述第一安装侧和所述第二安装侧中的至少一个具有流体腔室槽，在所述第一基板与所述第二基板安装在一起后，所述流体腔室槽形成具有流体入口和流体出口的流体腔室；以及其中，具有所述流体腔室槽的所述第一安装侧和/或所述第二安装侧具有与所述流体出口相邻的出口扩展槽，所述出口扩展槽从所述流体出口向下游延伸，并且其中在所述流体出口处，所述出口扩展槽的外周轮廓位于所述流体出口的外周轮廓之外。
在本申请的另一个方面，提供了一种微流体器件的制造方法，包括：提供第一基板，所述第一基板具有第一安装侧；提供第二基板，所述第二基板具有第二安装侧；在所述第一安装侧上形成多个流体腔室槽，每个所述流体腔室槽具有流体入口与流体出口；在所述第一安装侧上形成与每个所述流体出口相邻的出口扩展槽，所述出口扩展槽从所述流体出口向下游延伸，并且其中在所述流体出口处，所述出口扩展槽的外周轮廓位于所述流体出口的外周轮廓之外；将所述第一基板的第一安装侧与所述第二基板的第二安装侧相互连接以将所述第一基板与所述第二基板安装在一起，从而所述流体腔室槽形成流体腔室；以及在每个所述出口扩展槽处切割所述第一基板和所述第二基板，以分离所述多个流体腔室。
以上为本申请的概述，可能有简化、概括和省略细节的情况，因此本领域的技术人员应该认识到，该部分仅是示例说明性的，而不旨在以任何方式限定本申请范围。本概述部分既非旨在确定所要求保护主题的关键特征或必要特征，也非旨在用作为确定所要求保护主题的范围的辅助手段。
附图说明
通过下面说明书和所附的权利要求书并与附图结合，将会更加充分地清楚理解本申请内容的上述和其他特征。可以理解，这些附图仅描绘了本申请内容的若干实施方式，因此不应认为是对本申请内容范围的限定。通过采用附图，本申请内容将会得到更加明确和详细地说明。
图1示出了一种用作为雾化喷嘴的微流体器件在其液体出口处的局部示意图；
图2a示出了金刚石刀切割后的划片槽附近的晶圆表面；
图2b示出了激光切割后的划片槽附近的晶圆表面；
图3a至图3c示出了几种因划片缺陷引起流体出口的边缘不平整的示意图；图3d示出了存在图3a所示的划片缺陷时微流体器件射出的喷雾形状偏斜的仿真示意图；
图4a和4c示出了根据本申请一个实施例的微流体器件400的示意图；
图5a示出了包括多个如图4a所示的微流体器件的晶圆未被分割时第一基板和第二基板的结构；图5b则示出了第二基板的安装侧的结构；图5c示出了第一基板于第二基板上的结构相互重叠的情况；.
图6a至6c示出了根据本申请另一实施例的微流体器件600的示意图；
图7示出了根据本申请另一实施例的微流体器件700的示意图；
图8示出了根据本申请另一实施例的微流体器件800的示意图；
图9示出了根据本申请又一实施例的微流体器件的制造方法900。
具体实施方式
在下面的详细描述中，参考了构成其一部分的附图。在附图中，类似的符号通常表示类似的组成部分，除非上下文另有说明。详细描述、附图和权利要求书中描述的说明性实施方式并非旨在限定。在不偏离本申请的主题的精神或范围的情况下，可以采用其他实施方式，并且可以做出其他变化。可以理解，可以对本申请中一般性描述的、在附图中图解说明的本申请内容的各个方面进行多种不同构成的配置、替换、组合，设计，而所有这些都明确地构成本申请内容的一部分。
图1示出了一种用作为雾化喷嘴的微流体器件在其液体出口处的局部示意图。
如图1所示，该微流体器件在液体出口处具有两个流体通道102和104，这两个液体通道102和104分别形成射流106和108。两股射流106和108会交汇在微流体器件外部的交汇点110处，从而通过相互撞击而被雾化为微小液滴。理想状态下，流体通道102具有入口直径D1、出口直径d1以及通道长度L1，而流体通道104具有入口直径D2、出口直径d2以及通道长度L2等结构参数。这些结构参数会显著影响微流体器件所形成的喷雾的雾化压力、雾化流量、雾化锥角以及雾化粒径，因此需要采用具有极高加工精度的制造工艺来制造这种微流体器件。
在实际生产过程中，图1所示的微流体器件通可以采用微加工工艺来进行规模化生产。例如，可以在硅片、玻璃片或其他材料的晶圆上通过微加工工艺来形成阵列排布的多个重复的微流体器件的单元结构，并且之后通过划片工艺来切割晶圆，从而分离各个微流体器件的单元结构。本申请的发明人发现，对于通过微加工工艺制造的微流体器件，虽然其内部结构参数可以通过光刻、刻蚀等工艺精确控制，但是实际生产完成的器件性能仍存在显著差异，同一批生产的器件中的很多不符合设计标准和要求。这导致量产的微流体器件的良率较低。
经进一步研究，发明人发现，上述微流体器件实际性能的差异主要是由于划片工艺所产生的。具体地，晶圆切割通常采用机械式金刚石刀切割划片工艺，其采用高硬度的金刚石刀高速切割晶圆的划片槽，划出一道道刀痕。同时，承载着晶圆的工作台以一定的速度沿刀片与晶圆接触点的切线方向直线运动，从而晶圆沿刀痕裂开成一个个独立的微流体器件。但是，金刚石刀切割硬脆属性的硅片或玻璃片易产生机械应力，切割道越窄，其邻近区域承受的应力就越大，极易导致器件边缘产生崩缺、微裂纹、分层等缺陷，而缺陷会直接影响器件的各项性能。
图2a示出了金刚石刀切割后的划片槽附近的晶圆表面。如图2a所示，使用刀片切割后，晶圆的切割面毛刺多且不平整。对于如图1所示的微流体器件，因为流体通道的出入口均位于切割线边缘，因此轻微的缺陷都会导致产品质量缺陷。此外，多数的刀片切割中，切口损失和刀片宽度相当，在划片处理时还会产生大量固体颗粒或碎屑。当流体通道的出、入口位于切割线边缘时，划片后出入口将与外界连通，因而划片处理过程产生的颗粒或碎屑将会通过开放的出入口而进入到流体通道中，这容易造成流体通道堵塞。
另一种常用的晶圆切割技术是激光切割划片工艺。相比于机械切割划片工艺，激光切割可以显著减少晶圆切割后的切口损失和碎屑，参见图2b所示。然而，激光光源能量有限，有时需要进行多次切割才能完成器件分离。此外，对于厚度较大的复合晶圆，需要从复合晶圆上下表面分别开始向中间结合面进行切割。多次切割和二次对准不可避免地引入对准精度误差，因此，当微流体通道的出入口位于切割线附近时，对准精度误差有可能直接改变微流体流道出入口通道的长度和出入口的截面尺寸。此外，激光切割划片在切割后必须施加外力来裂片，这也可能会在界面处产生轻微损伤，而通道出入口附近轻微的崩裂毛刺都会影响喷嘴截面的完整性。因此，激光切割划片工艺对微流体器件良率的提高有限。
图3a至图3c示出了几种因划片缺陷引起流体出口的边缘不平整的示意图。图3d示出了存在图3a所示的划片缺陷时微流体器件射出的喷雾形状偏斜的仿真示意图。
为了解决上述划片引起的器件质量缺陷，经大量实验和工艺验证，本申请的发明人发明了一种新型的微流体器件，其在流体通道的出口和/或入口附近具有扩展槽，该扩展槽能够避免切割面与出口和/或入口相邻并直接接触到出口和/或入口，因而划片处理不会影响流体通道的出口或入口处的形状。因此，划片后得到的微流体器件的流体通道大体具有与设计参数精确符合的理想形状，能够极大地降低量产器件的质量缺陷。
图4a至4c示出了根据本申请一个实施例的微流体器件400的示意图。其中，图4a是微流体器件400的分解示意图，而图4b是微流体器件400在流体出口处的截面示意图。
如图4a所示，该微流体器件400包括第一基板402与第二基板404。其中，第一基板402和第二基板404各有一个安装侧402a与404a，其能够相互连接以将第一基板402与第二基板404安装在一起。在一些实施例中，基板402和404可以是硅晶圆、玻璃晶圆或者其他材料的晶圆。例如，第一基板402可以是硅晶圆，而第二基板404可以是玻璃晶圆，这两个基板402和404可以采用静电键合相互连接。再例如，第一基板402和第二基板404均可以是硅晶圆，其可以采用硅硅直接键合或粘合剂键合等方式相互连接。
第一基板402在其安装侧402a上具有流体腔室槽406。流体腔室槽406从安装侧402a的表面向下凹陷一定深度。在一些实施例中，流体腔室槽406的深度小于第一基板402的厚度。在另一些实施例中，流体腔室槽的深度可以等于第一基板的深度，也即流体腔室槽贯穿第一基板；在此情况下，微流体器件还可以包括第三基板，第二基板和第三基板分别从第一基板的两侧封闭流体腔室槽。在一些实施例中，流体腔室槽406可以通过等离子体刻蚀工艺或其他类似工艺形成。
仍参考图4a所示，当第一基板402与第二基板404相互连接后，第二基板404大体从流体腔室槽406的上方封闭流体腔室槽406，从而形成具有流体入口408和流体出口410的流体腔室。当微流体器件400工作时，液体从流体入口408流入流体腔室，并且经由流体出口410流出流体腔室。在图4a所示的实施例中，微流体器件400被用作为液体雾化器，相应地，流体腔室包括多个流体入口408，每个流体入口408通过其间的分隔柱412相互隔开。分隔柱412使得流入流体腔室的流体形成多束束流，这有利于在液体雾化前减小液滴的大小。在一些实施例中，在分隔柱412的下游，流体腔室中还可以设置有一级或多级过滤器结构(图中未示出)。过滤器结构一方面有助于减少流体中的固体颗粒进一步流向流体出口410而堵塞流体出口410，另一方面也有助于进一步分割流体腔室中的束流。
在流经整个流体腔室后，液体会经由流体出口410流出。在实际应用中，取决于施加在流体上的压力，流体会以一定的射速经由流体出口410喷射出去。图4c是图4a所示的微流体器件400在LL’方向(经过流体出口)的截面示意图。如图4c所示，流体腔室中的两股射流分别经由这两个流体出口410射出流体腔室，并且汇聚在交汇点416处。两股射流在交汇点416相互撞击，从而利用射流的动能实现液柱的破碎。流体出口410的直径和截面决定单股射流的流量，两股射流之间的夹角决定流体射出的阻力，角度越大，流动阻力越大。此外，流体出口410相连的流体通道的长径比(长度与直径之比)也会影响流动阻力和流量。因此，在实际应用中，需要精确设计流体通道的长度和直径、流体出口的直径、以及两个流体出口之间的间距等参数，才能够准确地确定两股射流的交汇点的位置，以及射流碰撞后的液滴大小以及喷雾形态。
仍参考图4c所示，第二基板404在其安装侧404a具有与流体出口410相邻的出口扩展槽418。该出口扩展槽418从流体出口410向下游延伸，也即大体朝向液体流出的方向延伸。可以看出，在流体出口处410处，出口扩展槽418的外周轮廓位于流体出口410的外周轮廓之外。例如，在图4a所示的具有两个流体出口410的实施例中，两个流体出口410均位于出口扩展槽418的外周轮廓内，因而出口扩展槽418的壁大体不会影响从流体出口410射出的液流。
图4a所示的微流体器件400中的流体腔室具有两个流体出口，并且分别经由其流程的射流相互交汇地碰撞。在另一些实施例中，流体腔室可以具有一个或多个相互独立的流体出口，这种情况下，每个流体出口可以分别具有一个对应的出口扩展槽。例如，流体出口410和出口扩展槽418均具有大体矩形的外周轮廓，而出口扩展槽418的外周轮廓的长度和宽度均分别比流体出口410的外周轮廓的长度和宽度要大，或者长度或宽度中的至少一个要更大(另一个相等)。再例如，流体出口410和出口扩展槽418可以均具有圆形的外周轮廓，而出口扩展槽418的外周轮廓的直径比流体出口410的外周轮廓的直径要大。可选地，多个相互独立的流体出口也可以共同地对应一个出口扩展槽；这种情况下，在每个流体出口处，出口扩展槽的外周轮廓均位于该流体出口的外周轮廓之外。
另外需要说明的是，在图4c所示的实施例中，出口扩展槽418大体呈立方体的形状，其在流体出口处410的外周轮廓和截面形状与在更下游处的外周轮廓和截面形状相同。在一些其他的实施例中，出口扩展槽418在流体出口处410的外周轮廓和截面形状与在更下游处的外周轮廓和截面形状也可以不同。例如，出口扩展槽418可以具有外扩的喇叭状结构，或者其他类似结构。
可以看出，设置在流体出口下游的出口扩展槽使得决定射流状态(形状、流量、流速)的流体出口与微流体器件的边缘间隔开来，从而有效地保护了流体出口不受划片缺陷的影响，这在量产加工微流体器件时能够有效地提高器件良率。
仍参考图4c所示，流体腔室的两股射流分别经由两个流体出口410射出流体腔室，并且汇聚在交汇点416处。交汇点416可以位于出口扩展槽418的外部，例如距离出口扩展槽418的末端数微米至数百微米，甚至数毫米。这种设计可以保证射流交汇形成的喷雾基本不会(至少尽可能少地)接触出口扩展槽418的壁，从而避免出口扩展槽418限制或影响喷雾中雾化液滴的粒径。
图5a示出了包括多个如图4a所示的微流体器件的晶圆未被分割时第一基板和第二基板的结构。图5b则示出了第二基板的安装侧的结构。图5c示意性地示出了第一基板于第二基板上的结构相互重叠的情况。
如图5a和5c所示，多个微流体器件阵列地排布在第一基板502上，并且通过多个长条状的划片区域516相互分离。该多个划片区域516包括位于微流体器件的流体入口与出口之间的第一划片区域516a，以及与第一划片区域516a相垂直的第二划片区域516b。其中，每个划片区域均具有中轴线517a或517b。第二基板504在其安装侧504a上形成有多个出口扩展槽区域518，这些出口扩展槽区域518相互平行，并且大体与第一基板502上的第一划片区域516a对准。在一些实施例中，出口扩展槽区域518可以具有与第一划片区域516a不同长度，但是其至少在流体出口处相互对准。
继续参见图5c，在制作微流体器件时，出口扩展槽区域518与第一划片区域516a相互对准后第一基板502与第二基板504相互连接，这样，出口扩展槽区域518即与流体出口510相邻，并且从流体出口510向其下游延伸。在切割相互连接的第一基板502和第二基板504时，出口扩展槽区域518与第一划片区域516a被切割，从而在流体出口的相邻下游形成出口扩展槽。
在一些实施例中，第一划片区域516a与出口扩展槽区域518可以具有大体相同的宽度，从而使得这两个区域基本相互重叠。例如，第一划片区域516a的宽度可以为30um，也即一个微流体器件的流体出口与相邻微流体器件的流体入口之间的间距为30um。出口扩展槽区域518的宽度同样为30um，因此一个出口扩展槽区域518的中轴线与相邻的流体入口及流体出口的距离均为15um。如果采用刀刃厚度为10um的金刚石刀对准划片区域的中轴线来切割基板，那么切割后的流体入口与流体出口距离切割道边缘分别有10um的间距。即使假设存在5um的对准误差，在切割后，出口扩展槽区域518限定的流体入口与流体出口距离切割道边缘也至少有5um的间距。换言之，出口扩展槽的末端(位于切割道边缘)距离流体出口的距离至少有5um，该距离对应于出口扩展槽的外延长度。可以看出，由于出口扩展槽具有一定的外延长度，因此流体出口的形状实质上是由第一基板上的出口扩展槽的内侧(远离切割道边缘)以及第二基板上的流体腔室槽共同限定的，而非由切割道边缘与流体腔室槽共同限定的。因此，流体出口的形状不会受到切割应力或颗粒引起的缺陷影响，而是能够与器件设计时的参数值一致。
图5c是第一划片区域516a和出口扩展槽区域518通过一次划片切割而分离的示意图。在另一些实施例中，第一划片区域和出口扩展槽区域可以通过多次划片切割而分离。例如，第一划片区域516a和出口扩展槽区域518可以均具有例如200um的宽度，假设出口扩展槽的外延长度设计值为10um，那么可以在距离流体出口15um以及距离流体入口15um的位置以金刚石刀切割第一划片区域516a和出口扩展槽区域518。可以看出，在第一划片区域较宽而需要多次划片切割晶圆的情况下，出口扩展槽从流体出口外延出来的外延长度主要取决于最靠近流体出口的一次切割的位置。
基于类似的构想，除了在流体出口处设置出口扩展槽之外，也可以在流体入口处设置入口扩展槽，该入口扩展槽也可以使得流体入口相对远离切割道。
图6a至6c示出了根据本申请另一实施例的微流体器件600的示意图。
如图6a至6c所示，不同于图4a所示的实施例，微流体器件600在第二基板604的安装侧604a同时具有出口扩展槽618和入口扩展槽630。在未划片时，出口扩展槽618与入口扩展槽630均位于划片区域616中。在第二基板604与具有流体腔室槽606的第一基板602相互对准地连接后，出口扩展槽618与流体出口610相邻，而入口扩展槽630与流体入口608相邻，并且入口扩展槽630从流体入口608向上游延伸。在流体入口608处，入口扩展槽630的外周轮廓位于流体入口608的外周轮廓之外。与出口扩展槽618的功能类似，入口扩展槽630使得流体入口608远离切割道，从而避免切割应力或颗粒引起的缺陷影响流体入口的形状。
如图6b所示，在第二基板604的安装侧604a上，入口扩展槽630大体横跨第二基板604，出口扩展槽618具有相对较窄的宽度，这是因为流体入口整体宽度较大，而流体出口的宽度较窄。可以理解，在实际应用中，出口扩展槽618的外周轮廓只要在流体出口处位于流体出口的外周轮廓之外即可，其具体的长度和宽度可以根据需要进行设计和调整。
图7示出了根据本申请另一实施例的微流体器件700的示意图。
如图7所示，该微流体器件700的流体腔室槽706被形成在第一基板702的安装侧702a上。此外，在安装侧702a还设置有与流体入口708相邻的入口扩展槽730，以及与流体出口710相邻的出口扩展槽718。从安装侧702a看，入口扩展槽730和出口扩展槽718均呈袋状结构。其中，入口扩展槽730具有大于流体入口708的宽度，并且其从流体入口708向上游延伸；出口扩展槽718具有大于流体出口710的宽度，并且其从流体出口710向下游延伸。
在一些实施例中，入口扩展槽730与出口扩展槽718的深度应大于流体腔室槽706的深度，以避免其壁阻挡流入或流出流体腔室槽706的液体流动。在实际加工过程中，可以通过例如等离子体刻蚀工艺选择性地刻蚀形成不同深度的流体腔室槽和入口扩展槽和/或出口扩展槽。
类似地，入口扩展槽730与出口扩展槽718的延伸长度取决于切割线732的位置，在此不再赘述。
虽然图4a-4c与图7所示的实施例分别在第一基板的安装侧和第二基板的安装侧中的一个形成了出口扩展槽和/或入口扩展槽，但是在实际应用中，可以根据需要在两个基板的安装侧同时形成出口扩展槽和/或入口扩展槽。在两个安装侧上的出口扩展槽可以均与流体出口相邻，并且至少在流体出口处相互对准；类似地，在两个安装侧上的入口扩展槽可以均与流体入口相邻，并且至少在流体入口处相互对准。
图8示出了根据本申请另一实施例的微流体器件800的示意图。
如图8所示，微流体器件800由第一基板802、第二基板804以及第三基板805共同形成。其中，第一基板802在其两侧分别形成有流体腔室槽806(图中仅示出了第一侧802a上的流体腔室槽)。此外，在第一侧802a上还形成有入口扩展槽830与出口扩展槽818，而在第二基板804的安装侧804a上没有形成入口扩展槽与出口扩展槽。与之相反，在第二侧802b没有形成入口扩展槽与出口扩展槽，而是在第三基板805的安装侧805a上形成入口扩展槽830’与出口扩展槽818’。这样，在三个基板相互连接后，第一侧802a与第二侧802b上的流体腔室槽的上下游均具有扩展槽，从而避免了流体入口与流体出口与切割道直接相邻。出口扩展槽与入口扩展槽的延伸长度可以通过切割线832的位置进行调整。
图9示出了根据本申请一个实施例的微流体器件的制造方法。
如图9所示，所述制造方法包括：在步骤S902中，提供第一基板，所述第一基板具有第一安装侧；在步骤S904中，提供第二基板，所述第二基板具有第二安装侧；在步骤S906中，在所述第一安装侧上形成多个流体腔室槽，每个所述流体腔室槽具有流体入口与流体出口；在步骤S908中，在所述第一安装侧上形成与每个所述流体出口相邻的出口扩展槽，所述出口扩展槽从所述流体出口向下游延伸，并且其中在所述流体出口处，所述出口扩展槽的外周轮廓位于所述流体出口的外周轮廓之外；在步骤S910中，将所述第一基板的第一安装侧与所述第二基板的第二安装侧相互连接以将所述第一基板与所述第二基板安装在一起，从而所述流体腔室槽形成流体腔室；以及在步骤S912中，在每个所述出口扩展槽处切割所述第一基板和所述第二基板，以分离所述多个流体腔室。
在一些实施例中，每个所述流体腔室具有多个流体出口，在所述多个流体出口中的每个流体出口处，所述出口扩展槽的外周轮廓均位于所述流体出口的外周轮廓之外。
在一些实施例中，所述多个流体出口具有各自的流体出射方向，并且所述流体出射方向交汇在一起。
在一些实施例中，所述多个流体出口的流体出射方向的交汇点位于所述出口扩展槽的外部。
在一些实施例中，位于同一基板上的所述出口扩展槽的深度大于所述流体腔室槽的深度。
在一些实施例中，位于同一基板上的所述出口扩展槽的宽度大于所述流体腔室槽的宽度。
在一些实施例中，还包括：在所述第二安装侧形成另一出口扩展槽，其与所述第一安装侧上的出口扩展槽至少在所述流体出口处相互对准。
在一些实施例中，还包括：在所述第一安装侧上形成与所述流体入口相邻的入口扩展槽，所述入口扩展槽从所述流体入口向上游延伸，并且其中在所述流体入口处，所述入口扩展槽的外周轮廓位于所述流体入口的外周轮廓之外。
在一些实施例中，所述流体腔室具有多个流体入口，在所述多个流体入口中的每个流体入口处，所述入口扩展槽的外周轮廓位于所述多个流体入口的外周轮廓之外。
关于本申请的微流体器件的制造方法的具体细节，可以参考本申请的微流体器件的细节，在此不再赘述。
本申请的微流体器件可以应用于各种需要精确流体控制的场合，特别是液体雾化器。
应当注意，尽管在上文详细描述中提及了微流体器件的若干模块或子模块，但是这种划分仅仅是示例性的而非强制性的。实际上，根据本申请的实施例，上文描述的两个或更多模块的特征和功能可以在一个模块中具体化。反之，上文描述的一个模块的特征和功能可以进一步划分为由多个模块来具体化。
那些本技术领域的一般技术人员可以通过研究说明书、公开的内容及附图和所附的权利要求书，理解和实施对披露的实施方式的其他改变。在权利要求中，措词“包括”不排除其他的元素和步骤，并且措辞“一”、“一个”不排除复数。在本申请的实际应用中，一个零件可能执行权利要求中所引用的多个技术特征的功能。权利要求中的任何附图标记不应理解为对范围的限制。

Claims (20)

1.一种微流体器件，包括：
第一基板，所述第一基板具有第一安装侧；
第二基板，所述第二基板具有第二安装侧，所述第二安装侧能够与所述第一安装侧相互连接以将所述第一基板与所述第二基板安装在一起；
其中，所述第一安装侧和所述第二安装侧中的至少一个具有流体腔室槽，在所述第一基板与所述第二基板安装在一起后，所述流体腔室槽形成具有流体入口和流体出口的流体腔室；以及
其中，具有所述流体腔室槽的所述第一安装侧和/或所述第二安装侧具有与所述流体出口相邻的出口扩展槽，所述出口扩展槽从所述流体出口向下游延伸，并且其中在所述流体出口处，所述出口扩展槽的外周轮廓位于所述流体出口的外周轮廓之外。
2.根据权利要求1所述的微流体器件，其特征在于，所述流体腔室具有多个流体出口，在所述多个流体出口中的每个流体出口处，所述出口扩展槽的外周轮廓均位于所述流体出口的外周轮廓之外。
3.根据权利要求2所述的微流体器件，其特征在于，所述多个流体出口具有各自的流体出射方向，并且所述流体出射方向交汇在一起。
4.根据权利要求3所述的微流体器件，其特征在于，所述多个流体出口的流体出射方向的交汇点位于所述出口扩展槽的外部。
5.根据权利要求1所述的微流体器件，其特征在于，位于同一基板上的所述出口扩展槽的深度大于所述流体腔室槽的深度。
6.根据权利要求1所述的微流体器件，其特征在于，位于同一基板上的所述出口扩展槽的宽度大于所述流体腔室槽的宽度。
7.根据权利要求1所述的微流体器件，其特征在于，所述流体腔室内具有过滤器结构。
8.根据权利要求1所述的微流体器件，其特征在于，所述第一安装侧和所述第二安装侧均具有出口扩展槽，所述出口扩展槽至少在所述流体出口处相互对准。
9.根据权利要求1所述的微流体器件，其特征在于，具有所述流体腔室槽的所述第一安装侧和/或所述第二安装侧具有与所述流体入口相邻的入口扩展槽，所述入口扩展槽从所述流体入口向上游延伸，并且其中在所述流体入口处，所述入口扩展槽的外周轮廓位于所述流体入口的外周轮廓之外。
10.根据权利要求9所述的微流体器件，其特征在于，所述流体腔室具有多个流体入口，在所述多个流体入口中的每个流体入口处，所述入口扩展槽的外周轮廓位于所述多个流体入口的外周轮廓之外。
11.一种液体雾化器，其特征在于，包括根据前述权利要求1至10中任一项所述的微流体器件。
12.一种微流体器件的制造方法，其特征在于，包括：
提供第一基板，所述第一基板具有第一安装侧；
提供第二基板，所述第二基板具有第二安装侧；
在所述第一安装侧上形成多个流体腔室槽，每个所述流体腔室槽具有流体入口与流体出口；
在所述第一安装侧上形成与每个所述流体出口相邻的出口扩展槽，所述出口扩展槽从所述流体出口向下游延伸，并且其中在所述流体出口处，所述出口扩展槽的外周轮廓位于所述流体出口的外周轮廓之外；
将所述第一基板的第一安装侧与所述第二基板的第二安装侧相互连接以将所述第一基板与所述第二基板安装在一起，从而所述流体腔室槽形成流体腔室；以及
在每个所述出口扩展槽处切割所述第一基板和所述第二基板，以分离所述多个流体腔室。
13.根据权利要求12所述的制造方法，其特征在于，每个所述流体腔室具有多个流体出口，在所述多个流体出口中的每个流体出口处，所述出口扩展槽的外周轮廓均位于所述流体出口的外周轮廓之外。
14.根据权利要求13所述的制造方法，其特征在于，所述多个流体出口具有各自的流体出射方向，并且所述流体出射方向交汇在一起。
15.根据权利要求14所述的制造方法，其特征在于，所述多个流体出口的流体出射方向的交汇点位于所述出口扩展槽的外部。
16.根据权利要求12所述的制造方法，其特征在于，位于同一基板上的所述出口扩展槽的深度大于所述流体腔室槽的深度。
17.根据权利要求12所述的制造方法，其特征在于，位于同一基板上的所述出口扩展槽的宽度大于所述流体腔室槽的宽度。
18.根据权利要求12所述的制造方法，其特征在于，还包括：
在所述第二安装侧形成另一出口扩展槽，其与所述第一安装侧上的出口扩展槽至少在所述流体出口处相互对准。
19.根据权利要求12所述的制造方法，其特征在于，还包括：
在所述第一安装侧上形成与所述流体入口相邻的入口扩展槽，所述入口扩展槽从所述流体入口向上游延伸，并且其中在所述流体入口处，所述入口扩展槽的外周轮廓位于所述流体入口的外周轮廓之外。
20.根据权利要求19所述的制造方法，其特征在于，所述流体腔室具有多个流体入口，在所述多个流体入口中的每个流体入口处，所述入口扩展槽的外周轮廓位于所述多个流体入口的外周轮廓之外。
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