CN111880689A - 掩膜板、显示面板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种掩膜板、显示面板及其制备方法。所述显示面板通过所述掩膜板制备。所述显示面板包括基板、触控层、一第一接地线以及一第二接地线。所述第一接地线和所述第二接地线从所述显示面板相对的两侧分别延伸并半包围所述触控层。所述第一接地线与所述第二接地线之间绝缘。

Description

掩膜板、显示面板及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示设备领域，特别是一种掩膜板、显示面板及其制备方法。

背景技术

智能电子设备是现代经济社会发展的基础。作为人机交互的主要手段，触控屏是智能电子设备的核心电子部件之一。由于支持多点触控、抗噪声能力强技术成熟、制备成本低廉等优势，目前电容式触摸屏是触控屏的主流技术。随着电容式触摸屏的持续发展，电容式触控屏的应用领域在近十年内迅速地扩张。更高分辨率、更大尺寸是下一代电容式触控屏的重要发展方向。

大尺寸电容触控屏(Touch Panel，TP)的工艺流程类似液晶显示器(LiquidCrystal Display，LCD)的工艺流程，由于掩模板(Mask)尺寸远远小于我们需求制作的TP尺寸，所以需要用同一张掩模板(Mask)进行多次曝光(shot)拼接出大尺寸的TP，而拼接屏由于是利用尺寸较小的Mask对某个区域的图案(Pattern)进行多次shot，进行重复曝光拼接成我们需求的TP，如图1所示，拼接产品需求拼接线附近有一定宽度范围的拼接过渡区，保证在两次shot时拼接线附近的拼接区图案均匀变化使得拼接效果更好，所以要求拼接区1和2所有图案要保持完全一致。

而TP为了预防静电释防(ESD)而在TP整个外围包裹一圈地线(GND Electrode)，来屏蔽TP成品使用环境中的ESD，但是由于大尺寸TP在光刻制作过程中，围绕TP一圈的GND走线由于线路太长会造成天线效应聚集刻蚀过程中的游离电荷造成ESD，破坏周围有效的走线以及器件。

发明内容

本发明的目的是提供一种掩膜板、显示面板及其制备方法，以解决现有技术中接地线由于线路太长会造成天线效应聚集刻蚀过程中的游离电荷造成的静电释放，破坏周围有效的走线以及器件。

为实现上述目的，本发明提供一种掩膜板，所述掩膜板包括一第一镂空部、一第二镂空部以及一第三镂空部。

所述第一镂空部设于所述掩膜板的中部。所述一第二镂空部和所述一第三镂空部从所述掩膜板相对的两侧分别延伸并半包围所述第一镂空部。两个第二镂空部之间具有相互间隔且平行的部分。

进一步地，所述掩膜板还包括一第一曝光区、一第二曝光区以及一第三曝光区，所述第一曝光区和所述第三曝光区分别对应设于所述第二曝光区的两侧。

所述第一镂空部从所述第一曝光区经过所述第二曝光区延伸至所述第三曝光区。所述第二镂空部具有一第一延伸部，所述第一延伸部从所述第一曝光区延伸至所述第三曝光区。所述第三镂空部具有一第二延伸部，所述第二延伸部从所述第三曝光区延伸至所述第一曝光区。所述第一延伸部和所述第二延伸部之间互相平行。

进一步地，所述掩膜版还包括第一拼接区和第二拼接区，所述第一拼接区位于所述第一曝光区和所示第二曝光区之间，所述第二拼接区位于所示第二曝光区和所示第三曝光区之间。

所述第一拼接区和所述第二拼接区分别穿过所述第一镂空部、所述第二镂空部以及第三镂空部，且所述第一拼接区和所述第二拼接区中的图案一致。

本发明中还提供一种显示面板，所述显示面板包括基板、触控层、一第一接地线以及一第二接地线。

所述触控层设于所述基板上。所述第一接地线和所述第二接地线从所述显示面板相对的两侧分别延伸并半包围所述触控层。所述第一接地线与所述第二接地线之间绝缘。

进一步地，所述显示面板具有一第一触控区以及与所述第一触控区连接的第二触控区，所述触控层从所述第一触控区延伸至所述第二触控区。

所述第一接地线具有一第一延伸段，所述第一延伸段从所述第一触控区延伸至所述第二触控区。所述第二接地线的一第二延伸段，所述第二延伸段设于所述第二接地线靠近所述第一延伸段的一端，其从所述第二触控区延伸至所述第一触控区。所述第一延伸段和所述第二延伸段互相平行。

进一步地，所述显示面板具有一连接区，所述连接区穿过所述触控层、所述第一接地线以及所述第二接地线。

所述触控层包括一第一金属层和一第二金属层，分别设于所述连接区的两侧。

所述第一金属层具有一第一拼接部，所述第一拼接部从所述第一触控区延伸至所述连接区。所述第二金属层具有一第二拼接部，所述第二拼接部从所述第二触控区延伸至所述连接区。所述第一拼接部与所述第二拼接部在所述连接区内叠加连接。

进一步地，在所述连接区内，所述第一拼接部的走线团与所述第二拼接部的走线图案相同。

本发明还提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板制备方法包括以下步骤：

提供基板。在所述基板上沉积导电材料。使用如上所述的掩膜板进行曝光刻蚀工艺所述基板上的导电材料图案化，形成触控层、第一接地线以及第二接地线。

进一步地，在使用所述掩膜板进行曝光刻蚀工艺所述基板上的导电材料图案化步骤中包括以下步骤：

第一次曝光：在所述基板上沉积一层导电材料，将所述掩膜板的第三曝光区遮盖住，对所述导电材料进行曝光。

第二次曝光：将所述掩膜板的第一曝光区遮盖住，对所述基板上的导电材料进行第二次曝光。

显影并蚀刻：对曝光后的基板进行显影并蚀刻，形成第一触控区内的走线图案、第一拼接部的走线图案、第二触控区内的走线图案以及第二拼接部的走线图案。

进一步地，所述显示面板制备方法还包括以下步骤：

拼接面板：将所述第一拼接部的走线图案与所述第二拼接部的走线图案拼接形成所述显示面板。

本发明的优点是：本发明的一种掩膜板、显示面板及其制备方法，所述显示面板通过所述掩膜板制备。并且所述显示面板通过两条接地线配合包围所述触控层，从而防止由于接地线的线路太长而造成天线效应，防止由于游离电荷聚集而产生的静电释放，提高显示面板的稳定性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中显示面板的俯视图；

图2为本发明实施例中掩膜板的俯视图；

图3为本发明实施例中制备方法的流程示意图。

图中部件表示如下：

显示面板100；

第一触控区101；第二触控区102；连接区103；

触控层110；第一金属层111；第二金属层112；

第一接地线120；第一延伸段121；

第二接地线130；第二延伸段131；

基板140；

掩膜板200；

第一曝光区201；第二曝光区202；第三曝光区203；

第一拼接区204；第二拼接区205；第一镂空部210；

第二镂空部220；第一延伸部221；

第三镂空部230；第二延伸部231。

具体实施方式

以下参考说明书附图介绍本发明的优选实施例，证明本发明可以实施，所述发明实施例可以向本领域中的技术人员完整介绍本发明，使其技术内容更加清楚和便于理解。本发明可以通过许多不同形式的发明实施例来得以体现，本发明的保护范围并非仅限于文中提到的实施例。

在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。附图所示的每一部件的尺寸和厚度是任意示出的，本发明并没有限定每个组件的尺寸和厚度。为了使图示更清晰，附图中有些地方适当夸大了部件的厚度。

此外，以下各发明实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定发明实施例。本发明中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本发明，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

当某些部件被描述为“在”另一部件“上”时，所述部件可以直接置于所述另一部件上；也可以存在一中间部件，所述部件置于所述中间部件上，且所述中间部件置于另一部件上。当一个部件被描述为“安装至”或“连接至”另一部件时，二者可以理解为直接“安装”或“连接”，或者一个部件通过一中间部件间接“安装至”、或“连接至”另一个部件。

本发明实施例中提供了一种显示装置，所述显示装置为大尺寸触控显示设备，其包含一显示面板100，所述显示面案为拼接触控显示面板100，其在为所述显示装置提供显示画面的同时还能实现触摸控制。所述显示装置可以为交互电视、大尺寸手机等任何具有显示功能的产品或者部件。

如图1所示，所述显示面板100具有一第一触控区101、一第二触控区102以及一连接区103，所述第一触控区101和所述第二触控区102分别设于所述连接区103的两侧。

所述显示面板100具有一触控层110，所述触控层110从所述第一触控区101经过所述连接区103延伸至所述第二触控区102，其设于显示面板100的基板140上。所述触控层110用于实现显示装置的触摸控制。本发明实施例中采用电容式感应控制，其具有若干走线，当所述显示面板100有导电物体(例如手指)触碰时，触点对应位置的走线就会根据电容的变化发送相应的信号从而实现触控显示。

所述触控层110包括一第一金属层111和一第二金属层112。所述第一金属层111对应于所述第一触控区101，其靠近所述第二触控区102的一侧延伸至所述连接区103内形成一第一拼接部。所述第二金属层112对应于所述第二触控区102，其靠近所述第一触控区101的一侧延伸至所述连接区103内形成第二拼接部。所述第一拼接部和所述第二拼接部在所述连接区103内叠加拼接，从而使第一触控层110与第二触控层110电连接。并且，所述第一拼接部的走线图案与所述第二拼接部的走线图案相同，从而防止拼接后发生短路等现象，提高显示面板100的稳定性。

如图1所示，所述显示面板100还包括一第一接地线120和一第二接地线130。

所述第一接地线120在所述第一触控区101内半包围所述触控层110的第一金属层111，其具有一第一延伸段121，所述第一延伸段121从所述第一触控区101经过所述连接区103延伸至所述第二触控区102内。

所述第二接地线130在所述第二触控区102内半包围所述第二金属层112，其具有一第二延伸段131，所述第二延伸段131设于所述第二接地线130靠近所述第一接地线120的第一延伸段121的一端，所述第二延伸段131从所述第二触控区102经过所述连接区103延伸至所述第一触控区101内。

所述第一延伸段121和所述第二延伸端之间互相平行且保持绝缘。所述第一接地线120和所述第二接地线130用于预防显示面板100在使用中发生的静电释防(ESD)。并且，第一接地线120和第二接地线130的两条接地线的走线设计可以防止现有技术中由于单条接地线的线路太长而造成天线效应，从而进一步保护触控层110走线。

本发明实施例中还提供了一种掩膜板200，所述掩膜板200用于制备上述显示面板100。如图2所示，所述掩膜板200具有一第一曝光区201、一第二曝光区202以及一第三曝光区203。所示第一曝光区201和所述第三曝光区203分别对应设于所述第二曝光区202的两侧。

如图2所示，所述掩膜板200上包括一第一镂空部210、一第二镂空部220以及一第三镂空部230。

所述第一镂空部210设于所述掩膜板200的中部，其从所述第一曝光区201经过所述第二曝光区202延伸至所述第三曝光区203。所述第一镂空部210对应于所述触控层110的第一金属层111和第二金属层112，所述第一镂空部210用于曝光第一金属层111和第二金属层112内的走线图案。

所述第二镂空部220和所述第三镂空部230从所述掩膜板200相对的两侧分别延伸并半包围所述第一镂空部210。所述第二镂空部220半包围所述第一曝光区201内的第一镂空部210，其具有一第一延伸部221，所述第一延伸部221从所述第一曝光区201经过所述第二曝光区202延伸至所述第三曝光区203内。所述第二镂空部220对应于所述显示面板100的第一接地线120，其用于曝光所述第一接地线120的走线图案。

所述第三镂空部230半包围所述第三曝光区203内的第一镂空部210，其具有一第二延伸部231，所述第二延伸部231位于所述第三镂空部230靠进所述第二镂空部220的一端，所述第二延伸部231从所述第三曝光区203经过所述第二曝光区202延伸至所述第一曝光区201内。所述第三镂空部230对应于所述显示面板100的第二接地线130，其用于曝光所述第二接地线130的走线图案。

所述第一延伸部221和所述第二延伸部231之间互相平行且互相间隔不连通。

所述掩膜板200还具有一第一拼接区204和一第二拼接区205，所述第一拼接区204和所述第二拼接区205分别穿过所述第一镂空部210、所述第二镂空部220以及第三镂空部230。

所述第一拼接区204设于所述第一曝光区201和所述第二曝光区202之间，所述第二拼接区205设于所述第二曝光区202和所述第三曝光区203之间。所述第一拼接区204和所述第二拼接区205分别穿过所述第一镂空部210、所述第二镂空部220以及第三镂空部230，且所述第一拼接区204和所述第二拼接区205之间互相平行。所述第一拼接区204内的曝光图案与所述第二拼接区205内的曝光图案相同。所述第一拼接区204的曝光图案对应于所述触控层110的第二拼接部的走线图案，所述第二拼接区205的曝光图案对应于所述触控层110第一拼接部的走线图案。

本发明实施例中还提供了一种显示面板100的制备方法，所述制备方法采用了上述掩膜板200，其用于制备上述显示面板100，其制备流程如图3所示，其包括以下制备步骤：

步骤S10)提供基板140。

步骤S20)第一次曝光：在所述基板140上沉积一层导电材料，例如包含镁、钼、铝、铜等的金属或合金。将所述掩膜板200的第三曝光区203遮盖住，对导电材料层进行第一次曝光，在导电材料层上形成第一曝光区201、第二曝光区202以及第二拼接区205的曝光图案。

步骤S30)第二次曝光：将所述掩膜板200的第一曝光区201遮盖住，对此块基板140上的导电材料层进行第二次曝光，在所述导电材料层上形成第二曝光区202、第三曝光区203以及第一拼接区204的曝光图案。

步骤S40)显影并蚀刻：对曝光后的导电材料层进行显影并蚀刻，形成第一触控区101内的走线图案、第一拼接部的走线图案、第二触控区102内的走线图案以及第一拼接区204的走线图案。

步骤S50)拼接面板：所述第一拼接部的走线图案与所述第二拼接部的走线图案拼接形成所述显示面板100。

本发明实施例中所提供的一种显示面板100，其通过两条接地线配合包围所述触控层110，从而防止由于接地线的线路太长而造成天线效应，屏蔽触控层110在使用过程中发生的静电释放，也防止由于游离电荷聚集而产生的静电释放，提高显示面板100的稳定性。同时，本发明实施例所提供的显示面板100为大尺寸拼接显示面板100，其使用一块掩膜板200在有限的空间内进行多次曝光刻蚀制程，并将制备出来的面板进行拼接形成一个大尺寸的显示面板100。

在本发明实施例中提供了一种大尺寸拼接显示面板100，但在本发明的其他实施例中，还提供多层金属层的触控显示面板100或小尺寸显示面板100及显示装置，其接地线的走线结构与本发明实施例中的相似，因此不在此做过多赘述。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。

虽然在本文中参照了特定的实施方式来描述本发明，但是应该理解的是，这些实施例仅仅是本发明的原理和应用的示例。因此应该理解的是，可以对示例性的实施例进行许多修改，并且可以设计出其他的布置，只要不偏离所附权利要求所限定的本发明的精神和范围。应该理解的是，可以通过不同于原始权利要求所描述的方式来结合不同的从属权利要求和本文中所述的特征。还可以理解的是，结合单独实施例所描述的特征可以使用在其他所述实施例中。

Claims (10)

1.一种掩膜板，其特征在于，包括：

一第一镂空部，设于所述掩膜板的中部；

一第二镂空部以及一第三镂空部，从所述掩膜板相对的两侧分别延伸并半包围所述第一镂空部；

所述第二镂空部与所述第三镂空部之间具有相互间隔且平行的部分。

2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，还包括一第一曝光区、一第二曝光区以及一第三曝光区，所述第一曝光区和所述第三曝光区分别对应设于所述第二曝光区的两侧；

所述第一镂空部从所述第一曝光区经过所述第二曝光区延伸至所述第三曝光区；

所述第二镂空部具有一第一延伸部，所述第一延伸部从所述第一曝光区延伸至所述第三曝光区；

所述第三镂空部具有一第二延伸部，所述第二延伸部从所述第三曝光区延伸至所述第一曝光区；

所述第一延伸部和所述第二延伸部之间互相平行。

3.如权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，还包括第一拼接区和第二拼接区，所述第一拼接区位于所述第一曝光区和所示第二曝光区之间，所述第二拼接区位于所示第二曝光区和所示第三曝光区之间；

所述第一拼接区和所述第二拼接区分别穿过所述第一镂空部、所述第二镂空部以及第三镂空部，且所述第一拼接区和所述第二拼接区中的图案一致。

4.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板；

触控层，设于所述基板上；

一第一接地线和一第二接地线，从所述显示面板相对的两侧分别延伸并半包围所述触控层；

所述第一接地线与所述第二接地线之间绝缘。

5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，具有一第一触控区以及与所述第一触控区连接的第二触控区，所述触控层从所述第一触控区延伸至所述第二触控区；

所述第一接地线具有一第一延伸段，所述第一延伸段从所述第一触控区延伸至所述第二触控区；

所述第二接地线的一第二延伸段，所述第二延伸段设于所述第二接地线靠近所述第一延伸段的一端，其从所述第二触控区延伸至所述第一触控区；

所述第一延伸段和所述第二延伸段互相平行。

6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，具有一连接区，穿过所述触控层、所述第一接地线以及所述第二接地线；

所述触控层包括一第一金属层和一第二金属层，分别设于所述连接区的两侧；

所述第一金属层具有一第一拼接部，所述第一拼接部从所述第一触控区延伸至所述连接区；

所述第二金属层具有一第二拼接部，所述第二拼接部从所述第二触控区延伸至所述连接区；

所述第一拼接部与所述第二拼接部在所述连接区内叠加连接。

7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，在所述连接区内，所述第一拼接部的走线团与所述第二拼接部的走线图案相同。

8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供基板；

在所述基板上沉积导电材料；

使用如权利要求1-3中任意一项所述的掩膜板进行曝光刻蚀工艺所述基板上的导电材料图案化，形成触控层、第一接地线以及第二接地线。

9.如权利要求8所述的显示面板制备方法，其特征在于，在使用所述掩膜板进行曝光刻蚀工艺所述基板上的导电材料图案化步骤中包括以下步骤：

第一次曝光：在所述基板上沉积一层导电材料，将所述掩膜板的第三曝光区遮盖住，对所述导电材料进行曝光；

第二次曝光：将所述掩膜板的第一曝光区遮盖住，对所述基板上的导电材料进行第二次曝光；

显影并蚀刻：对曝光后的基板进行显影并蚀刻，形成第一触控区内的走线图案、第一拼接部的走线图案、第二触控区内的走线图案以及第二拼接部的走线图案。

10.如权利要求9所述的显示面板制备方法，其特征在于，还包括以下步骤：

拼接面板：将所述第一拼接部的走线图案与所述第二拼接部的走线图案拼接形成所述显示面板。

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