CN111864160A - 隔膜的制造方法及隔膜的制造装置 - Google Patents

隔膜的制造方法及隔膜的制造装置 Download PDF

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Abstract

容易检出隔膜上形成的微小缺损,特别是凹部。进行检出隔膜(1)的缺损的针对隔膜(1)的耐电压检查,隔膜(1)为在基材的至少一个面上形成功能层而成。

Description

隔膜的制造方法及隔膜的制造装置
技术领域
本发明涉及隔膜的制造方法及隔膜的制造装置。
背景技术
锂离子二次电池等的非水电解液二次电池作为个人电脑、手机和便携信息终端等的电池被广泛使用。特别地,锂离子二次电池与以往的二次电池相比,作为削减CO2的排放量、有助于节省能源的电池而受到瞩目。
以非水电解液二次电池用隔膜为代表的隔膜的制造工序包括检出隔膜的缺陷的针对隔膜的检查工序(参照专利文献1)。
【现有技术文献】
【专利文献】
【专利文献1】日本国公开专利公报“特开2016-133325号公报(2016年7月25日公开)”
发明内容
【发明要解决的课题】
专利文献1公开的技术以导电性异物的检出为目的。另一方面,与导电性异物的检出不同,针对隔膜的检查工序需要检出隔膜的微小缺损。
隔膜在基材的至少一个面上形成功能层。作为这样的隔膜的微小缺损的一例,可举出贯通隔膜的孔即针孔,隔膜上形成的凹陷即凹部和以贯通隔膜的方式形成的切口即裂缝。针对隔膜的检查工序中需要检出这些针孔、凹部和裂缝等。
为了检出隔膜的微小缺损,考虑采用针对隔膜的光学检查。但是,针对隔膜的光学检查中产生难以检出隔膜上形成的100μm以下的微小缺损的问题。特别地,针对隔膜的光学检查中产生不适合检出隔膜上形成的凹部的问题。
本发明的一个方式的目的在于,容易检出隔膜上形成的100μm以下的微小缺损,特别是凹部。
【用于解决课题的手段】
为了解决上述课题,本发明的一个方式涉及的隔膜的制造方法和隔膜的制造装置进行检出隔膜的缺损的针对该隔膜的耐电压检查,所述隔膜为在基材的至少一个面上形成功能层而成。
根据上述构成,可容易地检出隔膜上形成的100μm以下的微小缺损。作为该微小缺损的一例,可举出针孔、凹部和裂缝。特别地,针对隔膜的光学检查不适合检出隔膜上形成的凹部,但根据上述构成容易检出凹部。
【发明效果】
根据本发明的一个方式,可容易地检出隔膜上形成的100μm以下的微小缺损,特别是凹部。
附图说明
【图1】表示隔膜上形成缺损的多个例子。
【图2】表示针对隔膜的耐电压检查的基本原理的示意图。
【图3】表示针对隔膜的耐电压检查的基本原理的其他示意图。
【图4】示意性地表示本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第1步骤的主视图。
【图5】示意性地表示本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第2步骤的主视图。
【图6】示意性地表示本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第3步骤的主视图。
【图7】用于具体说明本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第4步骤中的优劣判定的概念图。
【图8】示意性地表示本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第5步骤的主视图。
【图9】示意性地表示本发明的实施方式1涉及的隔膜的制造方法中的第6步骤的主视图。
【图10】表示隔膜、隔膜片和卷取隔膜片而制成的卷绕体的主视图。
【图11】示意性地表示本发明的实施方式2涉及的分切隔膜的制造方法中的步骤1的斜视图。
【图12】示意性地表示本发明的实施方式2涉及的分切隔膜的制造方法中的步骤2的主视图。
【图13】示意性地表示本发明的实施方式2涉及的分切隔膜的制造方法中的步骤3的主视图。
【图14】表示分切隔膜和卷取分切隔膜而制成的卷绕体的主视图。
【图15】示意性地表示变形例1涉及的隔膜的检查装置和检查方法的斜视图。
【图16】示意性地表示变形例2涉及的隔膜的检查装置和检查方法的主视图。
【图17】(a)是表示图16所示的检查装置的具体构成例的斜视图,(b)是从隔膜的长度方向观察该检查装置的侧视图。
【图18】是表示作为针对图17所示的检查装置的比较例的2个装置的结构的斜视图。
【图19】(a)为表示图16所示的检查装置的变形例的斜视图,(b)为从隔膜的长度方向观察该检查装置的侧视图。
【图20】(a)为表示图16所示的检查装置的其他变形例的斜视图,(b)为从隔膜的长度方向观察该检查装置的侧视图。
附图标记
1 隔膜
2 基材
3 功能层
4,7 裂缝(缺陷、缺损)
5 针孔(缺陷、缺损)
6 凹部(缺陷、缺损)
10,11,24,25,42,43,47,48,51,52 电极
12 缺损(缺陷)
13,13a,26,33,39,80 辊
14,18 卷绕装置
17,31,44 卷绕体
20 被卷出部分
21 检查实行装置
22 被检查部分
27 缺陷
28 切断装置
29 标签
30 隔膜片
32 分切隔膜
34 分切装置
35 预检查装置
40,45,49,58,60 检查装置
59,61 绝缘体
具体实施方式
对于用于实施本发明的方式进行说明前,对于针对隔膜的耐电压检查进行说明,该耐电压检查检出隔膜的缺损。
图1表示隔膜1上形成缺损的多个例子。
隔膜1具有基材2和在基材2上的一个面上形成的功能层3。作为基材2的一例,可举出以聚烯烃为主成分的多孔质薄膜。作为功能层3的一例,可举出以聚芳酰胺为主成分的耐热膜、以陶瓷为主成分的膜和以PVdF(聚偏氟乙烯)为主成分的膜。此外,功能层3可在基材2的两个面上形成。
以隔膜1的制造工序中产生的异物等为起因,隔膜1上有形成缺损的可能性。因此,隔膜1的制造中,需要进行用于检出该缺损的检查。
作为隔膜1的缺损的一例,可举出裂缝4、针孔5、凹部6和裂缝7。图1中表示了膜1的截面视上的裂缝4、针孔5、凹部6和裂缝7各自缺损的样子。
裂缝4是形成至隔膜1的厚度方向中途的切口,具有底部8。从隔膜1的一个面观察时,裂缝4的长度(切口的长度)大概为容纳于Φ50μm以上200μm以下的圆中的程度。
针孔5是贯通隔膜1的孔。针孔5大约为Φ5μm以上Φ200μm以下。
凹部6形成于隔膜1上的任一个面上,是具有底部8的凹陷。从隔膜1上的形成有凹部6的面观察时,凹部6的尺寸大致为容纳于Φ10μm圆的中的程度。
图1中,凹部6在隔膜1的功能层3一侧的面上形成,底部8在基材2上形成。不过,凹部6有时也在隔膜1上的基材2一侧的面上形成。此外,凹部6在隔膜1的任一个面上形成时,底部8有时在基材2上形成,有时在功能层3上形成。
裂缝7是以贯通隔膜1的方式形成的切口。从隔膜1上的一个面观察时,裂缝7的长度(切口的长度)大致为容纳于Φ50μm以上200μm以下的圆中的程度。
以往,为了检出隔膜1的缺损,可采用针对隔膜1的光学检查。针对隔膜1的光学检查是指通过照相机拍摄隔膜1,从摄影图像检出隔膜1的缺损。但是,针对隔膜1的光学检查中,存在以下的缺点(A)和(B)。
(A)针对隔膜1的光学检查,不适合一边运送隔膜1一边检出隔膜1的缺损。作为第1个理由,可举出基于照相机的摄影的1个周期是比较长的时间,因而隔膜1的运送速度高时,有照相机漏拍隔膜1的缺损的可能性。作为第2个理由,可举出为了检出针孔5等的隔膜1的微小缺损,要避免摄影图像上该缺损拍摄不清晰,因而隔膜1的运送速度显著降低,此外有时需要停止隔膜1的运送。
(B)针对隔膜1的光学检查不适合检出隔膜1上形成的凹部6。这是因为,凹部6由于底部8的存在,有时在摄影图像中不明显,此时,观察该摄影图像也难以检出。此外,针对隔膜1的光学检查不适合检出隔膜1上形成的裂缝7。这是因为,裂缝7并非在铅直方向上连续的孔,因而有时在摄影图像上不明显,此时,观察该摄影图像也难以检出。具有底部8的裂缝4更加难以基于光学检查检出。
因此,为了检出隔膜1的缺损,考虑进行针对隔膜1的耐电压检查。
图2和图3分别为表示针对隔膜1的耐电压检查的基本原理的示意图。针对隔膜1的耐电压检查是通过以下方式进行的:一边施加电源9的电压,一边通过与电源9的正极连接的电极10、与电源9的负极连接的电极11将隔膜1夹入。电极10和电极11作为1个电容器起作用,隔膜1上的位于电极10和电极11之间的部分作为电介质起作用。在图2和图3所示的例子中,电极10和电极11之间介入有空气,此时,位于电极10和电极11之间的空气也作为电介质起作用。
图2中表示隔膜1中的位于电极10和电极11之间的部分上未形成缺损的例子。隔膜1上的位于电极10和电极11之间的部分上未形成缺损时,由于隔膜1,电极10和电极11相互绝缘。
图3中表示隔膜1上的位于电极10和电极11之间的部分上形成缺损12的例子。相比隔膜1上未形成缺损12的部分,隔膜1上形成缺损12的部分电阻值变低。因此,隔膜1上的位于电极10和电极11之间的部分上形成缺损12时,电极10和电极11之间的电场集中到缺损12及其附近,电极10和电极11相互通电。
因此,在施加电源9的电压,且通过电极10和电极11夹入隔膜1的状态下电极10和电极11相互通电时,可以检出隔膜1上的位于电极10和电极11之间的部分上形成的缺损12。
基于以上原理,为了检出隔膜1的缺损12,进行针对隔膜1的耐电压检查。针对隔膜1的耐电压检查不同于基于照相机的光学检查,无需拍摄缺损12,因而即便隔膜1的运送速度为一定程度的高速,也能检出针孔5(参照图1)等隔膜1的微小缺损12。因此,针对隔膜1的耐电压检查适合一边运送隔膜1一边检出隔膜1的缺损12。此外,针对隔膜1的耐电压检查不同于基于照相机的光学检查,无需拍摄缺损12,因而容易检出裂缝4、裂缝7和凹部6(参照图1)。该运送速度虽无特别限定,但可以是1m/min以上200m/min以下,优选30m/min以上100m/min以下。
电源9的电压值由隔膜1的电阻值、电极10和隔膜1的间隔距离以及隔膜1和电极11的间隔距离等来决定。上述电压值和上述各间隔距离只要是能实现上述耐电压检查的原理的条件即可,但电源9的电压值例可以为1.8kV以上3kV以下,也可以为2.1kV以上2.4kV以下。此外,电极10和电极11间的间隔距离优选100μm左右。即,可适宜地采用使电极10和电极11间的间隔距离为100μm、电源9的电压值为1.8kV以上3kV以下的条件。此外,由于优选分别对电极10和电极11连续施加期望值的电压,因而相比交流电压,分别对电极10和电极11施加的电压优选如图2和图3所示的直流电压。通过连续施加直流电压可进一步提高运送速度。此外,分别对电极10和电极11施加的电压值越大,由于高电阻值,电极10和电极11越能通电。因此,为了避免电极10和电极11的通电条件变化,该直流电压优选恒压。此外,空气的耐电压一般说是3kV/mm,但由于温度·湿度·飞散异物而容易增减,因而基于再现性的观点,该检查期望在温度·湿度恒定、飞散异物少的洁净室环境实施。
此外,图2和图3中,电极10和隔膜1互不接触,电极11和隔膜1相互接触。不过,电极10和隔膜1可相互接触,电极11和隔膜1可互不接触。
电极10和隔膜1互不接触时,可降低对电极10的表面伤害,使电极10耐用。对于电极11和隔膜1互不接触时也是一样。电极10和隔膜1相互接触时,无需考虑电极10和隔膜1的间隔距离,因而针对隔膜1的耐电压检查变容易。关于电极11和隔膜1相互接触时也是一样。
〔实施方式1〕
本发明的实施方式1涉及的隔膜1的制造方法包含检查工序。该检查工序中,至少进行包含以下的第1步骤~第6步骤的检查。
图4是示意性地表示第1步骤的主视图。图5是示意性地表示第2步骤的主视图。图6是示意性地表示第3步骤主视图。图7是用于具体说明第4步骤中的优劣判定的图案图。图8是示意性地表示第5步骤的主视图。图9是示意性地表示第6步骤的主视图。此外,图4和图5中,将隔膜1从下侧进行卷取和抽引,但隔膜1的卷取和抽引没有特别限制,也可从上侧实施。
第1步骤中进行以下工序。将隔膜1通过多个辊13运送。基于多个辊13的隔膜1的运送目的地上设有卷绕装置14。卷绕装置14具有大致沿着隔膜1的运送方向旋转的旋转机构15。旋转机构15上安装有卷芯16。卷绕装置14通过旋转机构15使卷芯16旋转,由此,卷芯16卷取隔膜1。如此,通过卷芯16制成卷取隔膜1而成的卷绕体17。
这里,辊13的表面上附着异物时,该异物与运送对象隔膜1表面接触,由此,隔膜1上会形成缺陷。本实施方式中,以辊13的表面上附着的异物为起因的隔膜1的缺陷称为辊导致的缺陷。辊13的表面上附着的异物在辊13的每1次旋转与隔膜1的表面接触,因而辊导致的缺陷沿隔膜1的运送方向每隔固定的间隔形成。换言之,辊13的表面上附着异物时,在隔膜1上,多个辊导致的缺陷沿着隔膜1的长度方向会周期性地形成。作为辊导致的缺陷的一例,可举出裂缝4、针孔5、凹部6、裂缝7(以上参照图1)和缺损12(参照图2和图3)。
第2步骤中进行以下工序。卷绕装置18从卷绕体17将隔膜1的一部分卷出。卷绕体17安装在卷绕装置18的旋转机构19上。旋转机构19沿从卷芯16送出隔膜1的方向旋转。由此,卷芯16将隔膜1卷出。隔膜1上的在第2步骤中卷出的部分为被卷出部分20。旋转机构19和卷绕装置18的组合可以是旋转机构15和卷绕装置14的组合。此外,可在旋转机构15和卷绕装置14的组合之外,准备旋转机构19和卷绕装置18的组合。
这里,从卷绕体17卷出隔膜1的长度,换言之沿隔膜1的长度方向的被卷出部分20的长度优选为多个辊13中具有最大直径的辊13a的圆周的长度以上。其理由如后述。
第3步骤中,进行以下工序。通过检查实行装置21,针对被卷出部分20的至少一部分,检查是否包含辊导致的缺陷等缺陷。图6中表示对于作为被卷出部分20的一部分的被检查部分22,进行上述的检出隔膜1的缺损的针对隔膜1的耐电压检查的例子。检查实行装置21具有电源23、电极24、电极25、多个辊26和辊80。电源23、电极24和电极25分别对应电源9、电极10和电极11(参照图2和图3)。此外,图6中,展示了使用直流电压的情况,但分别对电极24和电极25施加的电压可以是直流电压,也可以是交流电压。此外,图6中,电极24与电源23的正极连接,电极25与电源23的负极连接,但也可以电极25与电源23的正极连接,电极24与电源23的负极连接。并且,图6中,通过多个辊26和辊80运送被卷出部分20,将被检查部分22运送到电极24电极25之间,针对被检查部分22进行耐电压检查。此外,辊80是配置在被检查部分22上的电极25的下游侧、运送隔膜1的运送辊。通过上述构成,基于多个辊26和辊80的隔膜1的运送速度即便为一定程度的高速,也能检出针孔5(参照图1)等的隔膜1的微小缺损。因此,针对隔膜1的耐电压检查适合一边运送隔膜1一边检出隔膜1的缺损。不过,针对第3步骤中的被检查部分22的检查,不限于针对隔膜1的耐电压检查,也可以是针对隔膜1的光学检查,还可以是检出隔膜1的缺陷的针对隔膜1的其他检查。
这里,第2步骤中的从卷绕体17将隔膜1卷出的长度为多个辊13中具有最大直径的辊13a的圆周长度以上时,有以下优点。此时,隔膜1上产生的辊导致的缺陷容易位于被卷出部分20。第3步骤中,将被卷出部分20中至少该圆周部分的长度作为被检查部分22进行检查,由此,容易检出辊导致的缺陷,因而可提高基于第3步骤的检查精度。
本实施方式中,仅对于不将多个辊26视为隔膜1的制造工序中的辊、隔膜1的制造工序中的辊仅为多个辊13的例子进行了说明。考虑上述优点时,隔膜1的制造工序中,存在比辊13a直径更大的辊时,从卷绕体17将隔膜1卷出的长度优选该辊的圆周长度以上。即,从卷绕体17将隔膜1卷出的长度优选隔膜1的制造工序中的辊中具有最大直径的辊的圆周长度以上。从卷绕体17将隔膜1卷出的长度可以是隔膜1的制造工序中的辊中具有最大直径的辊的圆周的2倍以上的长度,也可以是3倍以上的长度。通过使之为具有最大直径的辊的圆周的2倍以上,容易将检出的缺陷观察为周期性的缺陷。
第4步骤中进行以下工序。基于根据第3步骤的对被检查部分22的检查结果,判定卷绕体17的优劣。若举出优劣判定的具体例,将具有被检查部分22中未检出缺陷的隔膜1的卷绕体17视为良品,将具有被检查部分22中检出缺陷的隔膜1的卷绕体17视为不良品。
根据上述的辊导致的缺陷的形成机理,辊导致的缺陷在隔膜1上,以缺陷27(1)、27(2)、···、27(n)、27(n+1)、···的状态,沿隔膜1的长度方向周期性地形成。根据第3步骤中的针对被检查部分22的检查,可检出缺陷27(1)、27(2)和27(3)。并且,被检查部分22中检出缺陷27(1)、27(2)和27(3)的隔膜1在被检查部分22以外的部分上不必检查,也可推测形成缺陷27(4)、27(5)、···的可能性高。因此,被检查部分22上检出缺陷27(1)、27(2)和27(3)的隔膜1可视为具有辊导致的缺陷的不良品。
第5步骤中进行以下的工序。将第4步骤中被视为不良品的卷绕体17的隔膜1全部废弃。此外,对于第4步骤中被视为良品的卷绕体17,也通过切断装置28将至少被检查部分22从隔膜1上的其他部分上切断,将切断的部分废弃。运送被检查部分22的辊80的表面上附着异物时,存在被检查部分22上存在特有的缺陷在被检查部分22上形成的可能性。通过将被检查部分22废弃,可从隔膜1中将会以辊80的表面上附着的异物为起因形成缺陷的部分排除。此外,由于第3步骤中的检查,有被检查部分22的物性变动的可能性时,通过将被检查部分22废弃,可从隔膜1将会由于检查而物性变动的部分排除。此外,辊26优选与之前的其他工序中使用的辊不同直径的辊。辊26的直径与其他辊的直径不同时,假如以辊26为起点产生周期缺陷,也能通过测定缺陷的长度方向的周期判断耐电压不良的原因为辊26。
此外,第5步骤中,被检查部分22切断后,若从卷绕体17卷出的被卷出部分20部分残存,将该部分用卷绕装置18卷回。旋转机构19沿在第2步骤中的隔膜1卷出时的反方向旋转。由此,卷芯16将被卷出部分20卷回。
第6步骤中进行以下工序。对于第4步骤中被视为良品的卷绕体17,贴上表示其为良品的标签29。在卷绕体17上粘贴标签29可通过装置进行,也可通过人工作业进行。此外,可在第4步骤中被视为不良品的卷绕体17上粘贴表示其为不良品的标签。标签29上含有表示卷绕体17是否为良品的信息,但也可以含有其他例如用于将该信息通过系统(未图示)确认的与该系统绑定的信息。由此,可通过标签29知道卷绕体17是否为良品。
标签29上可包含卷绕体17的检查结果和卷绕体17所具有的隔膜1的全长等第3步骤后判明的关于卷绕体17的信息。由此,可通过标签29详细知晓第3步骤后判明的关于卷绕体17的信息。
可在第4步骤后和第5步骤前进行第6步骤。
根据上述方法,不从卷绕体17将隔膜1全部卷出,就能检出辊导致的缺陷等沿着隔膜1的长度方向周期性地形成的缺陷。因此,可预计卷绕体17的隔膜1上形成周期性的缺陷,实施高效率的检查工序。
本发明的实施方式1涉及的隔膜1的制造装置含有检查装置。该检查装置至少具备:从卷绕体17将隔膜1卷出的卷绕装置18,针对卷出的隔膜1检查是否形成缺陷的检查实行装置21和将检查的隔膜1切断的切断装置28。并且,卷绕装置18是将在卷出的隔膜1中的在隔膜1切断后与卷绕体17连续的部分卷回卷绕体17的结构。本发明的实施方式1涉及的隔膜1的制造装置中的卷绕装置18、检查实行装置21和切断装置28以外的结构可通过公知的技术实现,因而这里省略详细说明。根据上述构成,从卷绕体17将隔膜1的一部分卷出,针对被卷出部分20的至少一部分检查是否形成缺陷时,该卷出是可能的。此外,通过切断装置28,可将废弃的被检查部分22从隔膜1上的未检查部分上切断。因此,可实现适合高效率的检查工序的隔膜1的制造装置。此外,废弃的被检查部分22可在检查后不立刻废弃而是与接下来检查的隔膜,通过基于胶带的粘贴或基于热封机的热熔融等结合,作为用于将后续的隔膜进行耐电压检查的运送用隔膜片使用。由此,可削减用于随后的隔膜的运送的引纸操作,高效实施隔膜的耐电压检查。
〔实施方式2〕
本发明的实施方式2涉及的分切隔膜32的制造方法至少包含以下步骤1~步骤3。
图11是示意性地表示步骤1的斜视图。图12是示意性地表示步骤2的主视图。图13是示意性地表示步骤3的主视图。
步骤1中进行以下工序。将隔膜1通过多个辊33运送。基于多个辊33的隔膜1的运送目的地上设有分切装置34。分切装置34沿着隔膜1的运送方向,即沿着隔膜1的长度方向将隔膜1分切为多条,制成多个分切隔膜32。
此外,隔膜1的运送路线上的分切装置34的上游设置有预检查装置35。预检查装置35在隔膜1分切前检查隔膜1上是否形成缺陷。预检查装置35具有照射隔膜1的光源36,拍摄被光源36照射的隔膜1的照相机37,从照相机37的摄影图像检出隔膜1的缺损的检出部38。预检查装置35是用于检出隔膜1的缺损的针对隔膜1进行光学检查的装置。
步骤2中进行以下工序。将分切隔膜32通过多个辊39运送。辊39的表面上附着异物时,该异物接触运送对象的分切隔膜32的表面,由此,分切隔膜32上会形成缺陷。本实施方式中,以辊39的表面上附着的异物为起因的分切隔膜32的缺陷称为辊导致的缺陷。辊39的表面上附着的异物在辊39的每1次旋转时接触分切隔膜32的表面,因而辊导致的缺陷沿着分切隔膜32的运送方向每隔固定间隔形成。换言之,辊39的表面上附着异物时,对于分切隔膜32,多个辊导致的缺陷会沿着分切隔膜32的长度方向周期性地形成。作为辊导致的缺陷的一例,可举出裂缝4、针孔5、凹部6、裂缝7(以上参照图1)和缺损12(参照图2和图3)。
步骤3中进行以下工序。通过检查装置40,针对通过多个辊39运送的分切隔膜32,检查是否包含辊导致的缺陷等的缺陷。图13中显示,针对于分切隔膜32,进行与上述的检出隔膜1的缺损的针对隔膜1的耐电压检查同样的耐电压检查的例子。检查装置40,具有电源41、电极42和电极43。电源41、电极42和电极43分别对应电源9、电极10和电极11(参照图2和图3)。并且,图13中,将分切隔膜32通过多个辊39运送到电极42和电极43之间,针对分切隔膜32进行耐电压检查。由此,即便基于多个辊39的分切隔膜32的运送速度为一定程度的高速,也能检出针孔5(参照图1)等的分切隔膜32的微小缺损。因此,针对分切隔膜32的耐电压检查适合一边运送分切隔膜32一边检出分切隔膜32的缺损。不过,步骤3中的针对分切隔膜32的检查,不限于针对分切隔膜32的耐电压检查,也可以是针对分切隔膜32的光学检查,也可以是检出分切隔膜32的缺陷的针对分切隔膜32的其他检查。
本发明的实施方式2涉及的分切隔膜32的制造装置具备:将隔膜1分切、制成分切隔膜32的分切装置34,运送分切隔膜32的(多个)辊39和和检查通过辊39运送的分切隔膜32的检查装置40。此外,本发明的实施方式2涉及的分切隔膜32的制造装置具备在将隔膜1分切前检查隔膜1的预检查装置35。本发明的实施方式2涉及的分切隔膜32的制造装置中的分切装置34、预检查装置35、辊39和检查装置40以外的构成,可通过公知的技术实现,因而这里省略详细说明。
以往,未曾设想在隔膜1的运送路线上的预检查装置35的下游检出隔膜1或分切隔膜32上形成的缺陷。根据上述方法,通过进行用辊39运送的分切隔膜32的检查,可检出辊导致的缺陷等的缺陷。即,在隔膜1的分切后的工序中,可检出由于运送分切隔膜32的辊39的表面上附着的异物与分切隔膜32接触而形成的分切隔膜32的缺陷。因此,可降低该缺陷残存的低质量的分切隔膜32作为产品出货的可能性。此外,通过步骤1中的基于预检查装置35的检查与步骤3的组合,在步骤3中未检出缺陷时,可推定该缺陷是辊导致的缺陷。
图14表示分切隔膜32和卷取分切隔膜32而制成的卷绕体44的主视图。用与第1步骤(参照图4)同样的要领,通过辊运送分切隔膜32,制成卷绕体44。用与第2步骤(参照图5)同样的要领,从卷绕体44将分切隔膜32的一部分卷出。用与第3步骤(参照图6)同样的要领,针对分切隔膜32上的从卷绕体44卷出的部分的至少一部分,检查是否包含辊导致的缺陷等的缺陷。用与第4步骤(参照图7)同样的要领,基于该检查的结果判定卷绕体44的优劣。
根据上述方法,不将分切隔膜32从卷绕体44全部卷出,就能检出辊导致的缺陷等的沿着分切隔膜32的长度方向周期性地形成的缺陷。因此,预想卷绕体44的分切隔膜32上形成周期性的缺陷时,可实施高效率的检查工序。
〔实施方式3〕
以下,再次参照图1~图3,关于本发明的实施方式3涉及的隔膜1的制造方法进行说明。
在基材2上的至少一个面上形成功能层3的隔膜1的制造方法包括检出隔膜1的缺损的针对隔膜1的耐电压检查。将该隔膜1的制造方法作为本发明的实施方式3涉及的隔膜1的制造方法。
根据本发明的实施方式3涉及的隔膜1的制造方法,可容易地检出隔膜1上形成的数百μm以下的有序的微小缺损。作为该微小缺损的一例,可举出裂缝4、针孔5、凹部6、裂缝7和缺损12。关于上述各辊导致的缺陷,也包含于该微小缺损。特别地,针对隔膜1的光学检查不适合检出隔膜1上形成的凹部6,根据针对隔膜1的耐电压检查,容易检出凹部6。
针对隔膜1的耐电压检查是通过使夹住隔膜1而相向的电极10和电极11通电来进行的。关于隔膜1上的由电极10和电极11夹住的部分,决定分别对电极10和电极11施加的电压值,以使无缺损12时不通电、有缺损12时通电。由此,可准确检出隔膜1上形成的数百μm以下的有序的微小缺损,容易准确检出凹部6。
分别对电极10和电极11施加的电压优选为直流电压且恒压。由此,可分别对电极10和电极11连续施加期望值的电压,并且可使电极10和电极11的通电条件恒定。因此,针对隔膜1的耐电压检查可连续且在恒定的条件下实施。
针对隔膜1的耐电压检查中,检出基材2和功能层3的至少一个上形成的孔或凹陷。此外,针对隔膜1的耐电压检查中,优选检出作为功能层3具有以聚芳酰胺为主成分的耐热膜、以陶瓷为主成分的膜或者以PVdF为主成分的膜的隔膜1的缺损12。
本发明的实施方式3涉及的隔膜1的制造装置具备电源9、电极10和电极11。本发明的实施方式3涉及的隔膜1的制造装置中的电源9、电极10和电极11以外的结构可通过公知的技术实现,因而这里省略详细说明。
〔变形例1〕
图15是示意性地说明变形例1涉及的隔膜1的检查装置45和检查方法的斜视图。
检查装置45具备电源46、电极47和电极48。电源46、电极47和电极48分别对应电源9、电极10和电极11(参照图2和图3)。此外,图15中表示使用直流电压的情况,但分别对电极47和电极48施加的电压可以是直流电压,也可以是交流电压。此外,图15中,电极47与电源46的正极连接,电极48与电源46的负极连接,但也可以是电极48与电源46的正极连接,电极47与电源46的负极连接。电极47为圆柱形状,电极48为平板状。并且,图15中,将隔膜1载置于电极48上,在与隔膜1上的电极48相反的一侧上设置电极47,由此进行针对隔膜1的耐电压检查。电极47为圆柱形状,因而可使之在与隔膜1上的电极48相反的一侧的面上以滚动的方式移动。电极47的移动可通过装置进行,也可通过人工作业进行。针对隔膜1的耐电压检查中,电极47和电极48两者与隔膜1接触。由此,即使电极47的移动速度为一定程度的高速,也能检出针孔5(参照图1)等的隔膜1的微小缺损。
由电源9、电极10和电极11构成的隔膜1的检查装置是固定电极10和电极11,使隔膜1移动的方式。另一方面,检查装置45是固定隔膜1和电极48,使电极47移动的方式。分别对电极47和电极48施加的电压分别以与电极10和电极11的这一点上同样的理由,优选直流电压且恒压。电极47只要是具有为防止缺损的充分硬度的导电体则无特别限制,可使用SUS(不锈钢)或钨、导电性陶瓷等。另一方面,电极48优选非金属系的导电性片材,例如优选导电性的橡胶片材。
检查装置45在针对隔膜1的耐电压检查中无需运送隔膜1,因而在隔膜1的面积大时检查简単。另一方面,使用检查装置45进行针对隔膜1的耐电压检查时,为了使隔膜1上不产生褶皱,需要在不松弛隔膜1的状态下将其配置在电极48上。
此外,上述第3步骤中,可将相当于被卷出部分20(参照图5)的隔膜1部分切断,通过检查装置45,针对该切断的部分的至少一部分,检查是否包含辊导致的缺陷等缺陷。未检出该缺陷时,可将该切断的部分废弃,将隔膜1中的其以外的部分分切。检出该缺陷时,针对前后的批次所含的隔膜1,进行是否形成同样的缺陷的确认和/或辊13的清扫。沿隔膜1的长度方向的被卷出部分20的长度优选辊13a(参照图4)的圆周的长度以上。该长度可以为辊13a的圆周的2倍以上的长度,也可以是3倍以上的长度。通过使之为具有最大直径的辊的圆周的2倍以上,可容易地将检出的缺陷观察为周期性的缺陷。
也可以不用隔膜1,而是针对被检查部分22或分切隔膜32进行基于检查装置45的检查。
〔变形例2〕
图16是示意性地表示变形例2涉及的隔膜1的检查装置49和检查方法的主视图。
检查装置49具备电源50、电极51和电极52。电源50、电极51和电极52分别对应电源9、电极10和电极11(参照图2和图3)。电极51和电极52均为平板状。并且,图16中,将隔膜1夹入电极51和电极52之间,进行针对隔膜1的耐电压检查。针对隔膜1的耐电压检查中,电极51和电极52二者与隔膜1接触。此外,图16中,表示使用直流电压的情况,但分别对电极51和电极52施加的电压可以是直流电压,也可以是交流电压。此外,图16中,电极51与电源50的正极连接,电极52与电源50的负极连接,但也可以是电极52与电源50的正极连接,电极51与电源50的负极连接。
图17的(a)是表示检查装置49的具体的构成例的斜视图,图17(b)是从隔膜1的长度方向观察检查装置49的侧视图。检查装置49具有电源50、电极51、电极52、壁部53、壁部54、台座部55和升降部56。此外,为了图示的简略化,图17(b)中省略电源50和升降部56。
壁部53和壁部54均以沿着电极52的方式设置。壁部53和壁部54以夹住电极52而相向的方式设置。电极52的上表面,壁部53和壁部54形成槽57,隔膜1上的进行耐电压检查的部分配置在该槽57中。电极52上的从壁部53一侧的端部到壁部54一侧的端部的长度与隔膜1的短边方向等宽或稍稍大于其宽度。电极51和电极52的短边方向的长度没有特别限制,基于防止电极51和电极52接触短路的观点,如图17(b),电极51的短边方向的长度可以比电极52的短边方向的长度短。
台座部55承载电极51。电极51设置在台座部55的电极52一侧,以与电极52相向的方式设置。电极51为可进入槽57的尺寸及形状。升降部56是使承载电极51的台座部55升降的机构。在电极51未进入槽57的状态下,升降部56降低台座部55时,电极51与台座部55一同降低,电极51随即进入槽57。反过来,在电极51进入槽57的状态下,升降部56提高台座部55时,电极51与台座部55一同上升,电极51随即从槽57出来。
针对隔膜1的耐电压检查时,隔膜1以大致正好嵌入槽57的方式载置于电极52的上表面。由此,确定相对于电极52的隔膜1的位置。该状态下,通过升降部56降低台座部55,电极51进入槽57时,可通过电极51和电极52夹入隔膜1。此时,与隔膜1的表面平行的方向上的电极51的位置由台座部55和升降部56预先规定。因此,确定了台座部55下降完毕的时间点上,相对于隔膜1的电极51的位置。
根据图17所示的检查装置49,可使隔膜1上的进行耐电压检查的部分相对于电极51和电极52对准。
图18是表示作为针对图17所示的检查装置49的比较例的2个装置的结构的斜视图。
从图17所示的检查装置49省略壁部53和壁部54,不形成槽57时,隔膜1在电极52上自由移动。其结果是,相对于电极52的隔膜1的位置难以确定。
从图17所示的检查装置49省略升降部56时,与隔膜1的表面平行的方向上的电极51的位置难以确定。其结果是,产生相对于隔膜1和/或电极52的电极51的位置偏差。此外,让电极51从斜方向进入槽57时,电极51与壁部53和/或壁部54碰撞,电极51损伤。
图19(a)为表示作为检查装置49的变形例的检查装置58的斜视图,图19(b)是从隔膜1的长度方向观察检查装置58的侧视图。图19的(a)和(b)所示的检查装置58在电极51的长度方向的两端部上具有绝缘体59,这一点分别与图17(a)和(b)的结构不同。根据上述构成,可进一步抑制电极51和电极52接触短路。
图20(a)是表示作为检查装置49的其他变形例的检查装置60的斜视图,图20(b)是从隔膜1的长度方向观察检查装置60的侧视图。图20(a)和(b)所示的检查装置60在电极51和电极52的长度方向的两端部上分别具有绝缘体59及61,这一点分别与图17(a)和(b)的结构不同。根据上述构成,可进一步抑制电极51和电极52接触短路。
可以不用隔膜1,而是对被检查部分22或分切隔膜32,进行基于检查装置49的检查。
(总结)
本发明的一个方式涉及的隔膜的制造方法及隔膜的制造装置,进行针对该隔膜的耐电压检查,该耐电压检查检出隔膜的缺损,所述隔膜为在基材的至少一个面上形成功能层而成。
根据上述构成,容易检出隔膜上形成的100μm以下微小缺损。作为该微小缺损的一例,可举出针孔、凹部和裂缝。特别地,针对隔膜的光学检查不适合检出隔膜上形成的凹部,但根据上述构成容易检出凹部。
本发明的一个方式涉及的隔膜的制造方法中,针对上述隔膜的耐电压检查通过将夹有该隔膜而相向2个电极通电来进行。本发明的一个方式涉及的隔膜的制造方法,确定分别对上述2个电极施加的电压值,以使上述隔膜无缺损时不通电,上述隔膜有缺损时通电。
本发明的一个方式涉及的隔膜的制造装置具备针对上述隔膜的耐电压检查时夹有该隔膜而相向的2个电极,针对上述隔膜的耐电压检查通过将上述2个电极通电而进行。本发明的一个方式涉及的隔膜的制造装置,确定对上述2个电极分别施加的电压值,以使在没有上述隔膜的缺损时不通电,有上述隔膜的缺损时通电。
根据上述构成,可准确检出隔膜上形成的100μm以下的微小缺损,容易准确检出凹部。
本发明的一个方式涉及的隔膜的制造方法及隔膜的制造装置中,分别对上述2个电极施加的电压是直流电压且恒压。
根据上述构成,可分别对2个电极连续施加期望值的电压,且可使2个电极的通电条件一定。因此,可在连续且固定的条件下实施针对隔膜的耐电压检查。
本发明的一个方式涉及的隔膜的制造方法在针对上述隔膜的耐电压检查中检出形成于上述基材和上述功能层中的至少一个上的孔或凹陷。
本发明的一个方式涉及的隔膜的制造方法在针对上述隔膜的耐电压检查中检出隔膜的缺损,所述隔膜具有以聚芳酰胺为主成分的耐热膜、以陶瓷为主成分的膜或者以PVdF为主成分的膜作为上述功能层。
本发明不限于上述各实施方式,在权利要求所示的范围内可进行种种变更,将不同实施方式分别公开的技术的手段适当组合而得到的实施方式也包含于本发明的技术的范围内。

Claims (10)

1.一种隔膜的制造方法,进行针对该隔膜的耐电压检查,该耐电压检查检出隔膜的缺损,所述隔膜为在基材的至少一个面上形成功能层而成。
2.根据权利要求1所述的隔膜的制造方法,针对所述隔膜的耐电压检查通过将夹有该隔膜而相向的2个电极通电来进行。
3.根据权利要求2所述的隔膜的制造方法,确定分别对所述2个电极施加的电压值,以使所述隔膜无缺损时不通电,所述隔膜有缺损时通电。
4.根据权利要求2或3所述的隔膜的制造方法,分别对所述2个电极施加的电压为直流电压且恒压。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的隔膜的制造方法,在针对所述隔膜的耐电压检查中,检出形成于所述基材和所述功能层中的至少一个上的孔或凹陷。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的隔膜的制造方法,针对所述隔膜的耐电压检查中检出隔膜的缺损,所述隔膜具有以聚芳酰胺为主成分的耐热膜、以陶瓷为主成分的膜或者以聚偏氟乙烯为主成分的膜作为所述功能层。
7.一种隔膜的制造装置,进行针对该隔膜的耐电压检查,该耐电压检查检出隔膜的缺损,所述隔膜为在基材的至少一个面上形成功能层而成。
8.根据权利要求7所述的隔膜的制造装置,具备:在针对所述隔膜的耐电压检查时夹有该隔膜而相向的2个电极,
针对所述隔膜的耐电压检查为通过将所述2个电极通电而进行。
9.根据权利要求8所述的隔膜的制造装置,确定分别对所述2个电极施加的电压值,以使所述隔膜无缺损时不通电,所述隔膜有缺损时通电。
10.根据权利要求8或9所述的隔膜的制造装置,分别对所述2个电极施加的电压为直流电压且恒压。
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