CN111863922A - 一种提高显示效果的面板结构及制作驱动方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种提高显示效果的面板结构及制作驱动方法,包括步骤:制作具有基板、第一栅极层、第二栅极层、栅极绝缘层、第一有源层、第二有源层、第一源漏极层、第二源漏极层、钝化层、平坦层、透明阳极、像素定义层的像素电极;并蚀刻位于像素电极顶部的像素定义层,制得第一通孔;制作电致变色层,并蚀刻第一通孔内的所述电致变色层;于第一通孔内蒸镀有机发光层;蒸镀透明阴极,形成面板结构;或者于第一通孔内蒸镀有机发光层;蒸镀透明阴极;于蒸镀透明阴极上制作电致变色层,并蚀刻所述电致变色层,形成第二通孔,所述第二通孔位于有机发光层上方,形成面板结构。以提高屏下摄像头上方显示面板的透光度,以及提高画面对比度。
Description
技术领域
本发明涉及面板结构制作领域,尤其涉及一种提高显示效果的面板结构及制作驱动方法。
背景技术
智能手机发展到现在,能实现的功能已经越来越多,人们已经逐渐习惯用手机来进行社交、玩游戏和看视频等日常生活中必不可少的活动,与此同时人们也越来越喜欢可视角度大,大屏幕的手机,但前置摄像头占据了很多屏幕位置,为了达到更高的屏占比,提高显示效果,全面屏的概念应运而生。全面屏的“全面”,可以说是我们的美好愿望,但由于种种技术原因,全面屏无法达到真全面,虽然视觉趋向性让自动弹出、推滑盖的机械式设计大行其道,但无需质疑的是,兼顾美感和使用效率的设计方案才是手机设计的终途。屏下摄像头恰恰就是一个兼顾美学和使用效率的设计方案,而且似乎即将成为趋势。当前屏下摄像头存在的问题是,摄像头模组区上方显示面板的透光度不佳;同时对摄像头模组区上方的偏光片进行“挖孔”造成的该区域因无偏光片造成画面对比度下降。
发明内容
为此,需要提供一种提高显示效果的面板结构及制作驱动方法,提高屏下摄像头上方显示面板的透光度,以及提高画面对比度。
为实现上述目的,本申请提供了一种提高显示效果的面板结构的制作方法,包括步骤:
制作具有基板、第一栅极层、第二栅极层、栅极绝缘层、第一有源层、第二有源层、第一源漏极层、第二源漏极层、钝化层、平坦层、透明阳极和像素定义层的像素电极结构,像素电极结构的一侧设置有以基板为底部的透光通孔;并蚀刻位于像素电极结构顶部的像素定义层,制得第一通孔;
制作电致变色层,电致变色层覆盖像素电极结构和透光通孔,并蚀刻第一通孔内的所述电致变色层;于第一通孔内蒸镀有机发光层;蒸镀透明阴极,形成面板结构;
或者于第一通孔内蒸镀有机发光层;蒸镀透明阴极;于蒸镀透明阴极上制作电致变色层,电致变色层覆盖像素电极结构和透光通孔,并蚀刻机发光层上的所述电致变色层,形成第二通孔,所述第二通孔位于有机发光层上方,形成面板结构。
进一步地,制作所述像素电极结构步骤:
在基板上同时制作第一栅极层、第二栅极层;
制作栅极绝缘层,并于第二栅极层上蚀刻栅极绝缘层,形成第三通孔;
制作第一有源层、第二有源层,所述第一有源层、第二有源层分别位于第一栅极层、第二栅极层上方的栅极绝缘层上;
制作第一源漏极层、第二源漏极层,所述第二源漏极层设置于第二有源层两侧;所述第一源漏极层设置于第一有源层两侧,且一侧的第一源漏极层通过第三通孔与第二栅极层连接;
制作钝化层;并以第二有源层一侧的第二源漏极层为底,蚀刻钝化层形成第四通孔,同时以所述基板为底,蚀刻钝化层和栅极绝缘层形成第五通孔;
制作平坦层,在第四通孔、第五通孔所在位置上蚀刻平坦层;
制作透明阳极,所述阳极通过第四通孔与第二源漏极层连接;
制作像素定义层,在阳极上蚀刻像素定义层形成以阳极上表面为底的第一通孔,同时在第五通孔上蚀刻像素定义层。
进一步地,还包括步骤,盖设封装盖板。
进一步地,所述电致变色层的制作包括步骤:
依次制作层叠的第一透明电极层、电解质层、变色层、离子存储层和第二透明电极层。
为实现上述目的,本申请还提供了一种提高显示效果的面板结构,包括:像素电极结构、电致变色层、有机发光层、阴极,像素电极结构的一侧设置有以基板为底部的透光通孔;所述有机发光层位于所述像素电极结构内的第一通孔中,且与所述像素电极结构中的阳极连接;
所述电致变色层设置于像素电极结构和透光通孔的上表面,且于有机发光层上方设置有一通孔;所述阴极位于电致变色层和有机发光层上;
或者所述阴极位于像素电极结构和有机发光层上,所述电致变色层设置于所述阴极和透光通孔的上表面,且位于有机发光层上方设置有一通孔。
进一步地,所述像素电极结构包括:基板、第一栅极层、第二栅极层、栅极绝缘层、第一有源层、第二有源层、第一源漏极层、第二源漏极层、钝化层、平坦层、阳极、像素定义层;
所述第一栅极层、第二栅极层设置于基板上,所述栅极绝缘层设置于第一栅极层、第二栅极层上;所述第一有源层、第二有源层置于栅极绝缘层上,且所述第一有源层、第二有源层分别位于第一栅极层、第二栅极层上方;所述第一源漏极层、第二源漏极层分别置于第一有源层、第二有源层上,且所述第以源漏极层通过位于栅极绝缘层上的第三通孔与第二栅极层连接;于第一有源层、第二有源层、第一源漏极层、第二源漏极层、栅极绝缘层上依次设置有钝化层、平坦层;所述阳极设置于平坦层上,并通过钝化层、平坦层上的第四通孔与第二源漏极层连接;所述阳极、平坦层上还设置有像素定义层,所述像素定义层上设置有以阳极为底的第一通孔;于第二栅极层远离第一栅极层的一侧还设置有以基板为底的第五通孔。
进一步地,所述屏下摄像头面板结构还包括设置在屏下摄像头面板结构上的封装盖板。
进一步地,所述电致变色层包括依次层叠的第一透明电极层、电解质层、变色层、离子存储层和第二透明电极层,且所述第二透明电极层或第一透明电极层与阴极连接。
进一步地,所述变色层材料为:WO3、MoO3、Nb2O5、TiO2、NiO、IrOx、Co2O3、Rh2O3、MnO2、聚噻吩类及其衍生物、四硫富瓦烯、紫罗精类和金属酞菁类化合物。
为实现上述目的,本申请还提供了一种提高显示效果的面板结构的驱动方法,所述驱动方法用于驱动任意一项所述一种提高显示效果的面板结构的实施例,所述一种提高显示效果的面板结构还包括;驱动单元和摄像头,摄像头置于面板结构的透光通孔下;面板结构与驱动单元相连;所述驱动方法执行如下步骤:
判断是否调用摄像头;
若调用摄像头,驱动单元不输送电压信号至所述面板结构的电致变色层;
若不调用摄像头,驱动单元输送电压信号至所述面板结构的电致变色层。
区别于现有技术,上述技术方案提出了在屏下摄像头面板结构中增加一层电致变色层,通过是否给予电压改变电致变色层的透光性能。在需要调用摄像头时,该区域面板不发光,驱动单元无输送电压信号,此时电致变色层为透明状态从而增加此区域透光度。在不需要调用摄像头时,面板正常显示,驱动单元输送电压信号,电致变色层变不透明以减少环境光对显示效果的影响从而增加面板对比度,减少屏下摄像头区面板与正常区面板显示画面的色差,提高画面的一致性。
附图说明
图1为所述第一栅极层、第二栅极层结构图;
图2为所述栅极绝缘层结构图;
图3为所述第一有源层、第二有源层结构图;
图4为所述第一源漏极层、第二源漏极层结构图;
图5为所述钝化层结构图;
图6为所述平坦层结构图;
图7为所述阳极结构图;
图8为所述像素定义层结构图;
图9为所述阳极结构图;
图10为所述电致变色层结构图;
图11为所述阴极结构图;
图12为具体实施例一结构图;
图13为具体实施例二结构图;
图14为所述正常区、增透区结构图;
图15为所述正常区、增透区中像素排布结构图;
图16为所述正常区、增透区剖视图结构图;
图17为所述电致变色层输入电压信号时结构图;
图18为所述电致变色层不输入电压信号时结构图;
附图标记说明:
011、第一栅极层;012、第二栅极层;020、栅极绝缘层;021、第三通孔;031、第一有源层;032、第二有源层;041、第一源漏极层;042、第二源漏极层;050、钝化层;051、第四通孔;052、第五通孔;060、平坦层;070、阳极;080、像素定义层;081、第一通孔;090、电致变色层;091、第二通孔;100、机发光层;110、阴极;120、封装盖板;130、基板;140、正常区;141、增透区。
具体实施方式
为详细说明技术方案的技术内容、构造特征、所实现目的及效果,以下结合具体实施例并配合附图详予说明。
请参阅图1至图18,本实施例提供了一种提高显示效果的面板结构的制作方法,包括步骤:制作具有第一栅极层011、第二栅极层012、栅极绝缘层020、第一有源层031、第二有源层032、第一源漏极层041、第二源漏极层042、钝化层050、平坦层060、透明阳极070、像素定义层080的像素电极结构,像素电极结构的一侧设置有以基板为底部的透光通孔;并蚀刻位于像素电极结构顶部的像素定义层080,制得第一通孔081;在具体实施例一中,实施例为在像素定义层080与阴极110之间设置有一层电致变色层090,通过电压的控制可改变薄膜的透光性;具体的,制作电致变色层090,电致变色层覆盖像素电极结构和透光通孔,并于第一通孔081内蚀刻所述电致变色层090;于第一通孔081内蒸镀有机发光层100,所述有机发光层100与像素电极结构中的阳极070连接;蒸镀透明阴极110,形成面板结构。请参阅图13,在具体实施例二中,实施例为在阴极110上制作一层电致变色层090具体的,于第一通孔081内蒸镀有机发光层100,所述有机发光层100与像素电极结构中的阳极070连接;蒸镀透明阴极110;于蒸镀透明阴极110上制作电致变色层090,并蚀刻所述电致变色层090,形成第二通孔091,所述第二通孔091位于有机发光层100上方,形成面板结构。需要说明的是,在驱动电致变色层090时,通过电致变色层090与阴极110的连接,对所述电致变色层090输入信号;当然,在其他实施例中也可外加一个单独驱动电致变色层090的驱动单元进行驱动。需要进一步说明的是,在第一通孔081中蒸镀RGB有机发光层100,包括空穴注入层HIL、空穴传输层HTL、有机发光层100EM、电子传输层ETL、电子注入层EIL;继续蒸镀透明的阴极110,其材料如镁银合金等。上述技术方案提出了在屏下摄像头面板结构中增加一层电致变色层090,通过是否给予电压改变电致变色层090的透光性能。在需要调用摄像头时,该区域面板不发光,驱动单元无输送电压信号,此时电致变色层090为透明状态从而增加此区域透光度。在不需要调用摄像头时,面板正常显示,驱动单元输送电压信号,电致变色层090变不透明以减少环境光对显示效果的影响从而增加面板对比度,减少屏下摄像头区面板与正常区140面板显示画面的色差,提高画面的一致性。
请参阅图1至图8,在所述“于像素电极结构上,蚀刻第一通孔081”步骤前,还包括制作所述像素电极结构步骤:在透明基板130上同时制作第一栅极层011、第二栅极层012;制作栅极绝缘层020,并于第二栅极层012上蚀刻,形成第三通孔021;制作第一有源层031、第二有源层032,所述第一有源层031、第二有源层032分别位于第一栅极层011、第二栅极层012上方的栅极绝缘层020上;同时制作第一源漏极层041、第二源漏极层042,所述第二源漏极层042设置于第二有源层032两侧;所述第一源漏极层041设置于第一有源层031两侧,且一侧的第一源漏极层041通过第三通孔021与第二栅极层012连接;制作钝化层050;并以第二源漏极层042为底,蚀刻钝化层050形成第四通孔051,同时以所述基板130为底,蚀刻钝化层050和栅极绝缘层020形成第五通孔052;制作平坦层060,在第四通孔051、第五通孔052所在位置上蚀刻平坦层060;制作透明阳极070,所述阳极070通过第四通孔051与第二源漏极层042连接;制作像素定义层080,在阳极070上蚀刻像素定义层080形成以阳极070上表面为底的第一通孔081,同时在第五通孔052上蚀刻像素定义层080。在本实施例中,第一源漏极层041为两段,分别置于第一有源层031两侧;同理第二源漏极层042为两段,分别置于第二有源层032两侧。请参阅图18,在本实施例中,于基板130上分别制作两个TFT开关,第一栅极层011、第一有源层031、第一源漏极层041形成第一TFT开关,第二栅极层012、第二有源层032、第二源漏极层042形成第二TFT开关,第一TFT开关用于接收信号,并通过第一源漏极层041、第三通孔021传输给第二栅极层012,以此控制第二TFT开关。同时第五通孔052内设置有透明的阴极110,以及电致变色层090,用于增加或者减少透光度,当调用摄像头时,光线有第五通孔052中穿过。在本实施例中,第一栅极层011、第二栅极层012采用的材料为:铝、钼、钛、镍、铜、银、铬等导电性优良金属一种或多种,以及合金;栅极绝缘层020用于保护栅极,同时起到绝缘作用,其采用的材料为无机氧化物或者绝缘性质的化合物,如SiOx、SiNx、氧化钛、氧化铝等,并在栅极绝缘层020上蚀刻出第三通孔021露出第二栅极层012的上表面;在本申请中对第一有源层031、第二有源层032材料不做限定可以由多晶硅、氧化物半导体、石墨烯、碳纳米管、有机半导体等制成;第一源漏极层041、第二源漏极层042可选用铝、钼、钛、镍、铜、银、铬等导电性优良金属一种或多种,以及合金;钝化层050材料选择为SiOx、SiNx、氧化铝、氧化钛等,并在钝化层050上制作第四通孔051,露出第二源漏极层042的上表面,制作第五通孔052露出基板130的上表面;第五通孔形成透光通孔,即第五通孔为透光通孔,上方仅仅设置有,阴极以及电致变色层。平坦层060材料选择为有机绝缘层、SiOx、SiNx、氧化铝、氧化钛等,并蚀刻平坦层060使第四通孔051、第五通孔052露出;在平坦层060上制作透明的阳极070,其材料可选Ag、ITO、石墨烯、碳纳米管等,并对阳极070图案化。在某些实施例中,为了保护屏下摄像头面板结构在所述“蒸镀透明阴极110”步骤后,还包括了步骤,制作封装盖板120。
请参阅图16,本实施例还提供了一种提高显示效果的面板结构,包括:像素电极结构、电致变色层090、有机发光层100、阴极110,像素电极结构的一侧设置有以基板为底部的透光通孔;所述有机发光层100位于所述像素电极结构内的第一通孔081中,且与所述像素电极结构中的阳极070连接;所述电致变色层090设置于像素电极结构的上表面,且于有机发光层100上方设置有一通孔;所述阴极110位于电致变色层090和有机发光层100上;或者所述阴极110位于像素电极结构和有机发光层100上,所述电致变色层090设置于所述阴极110的上表面,且位于有机发光层100上方设置有一通孔。请参阅图18,本申请旨在可实现屏下摄像头或者其他设置屏下传感器终端设备中,通过在面板的阵列工艺中增加一层电致变色层090,通过是否通电可改变薄膜的透光性能以达到增加面板透光率以及改善不同区域面板色差的效果,请参阅图14至图15,本申请对阵列基板130增透区141大小、区域、形状,薄膜晶体管结构类型、阵列电路设计、有源层材料选择、发光器件工作模式、变色层材料选择不做特殊限定,增透区141形状可以为多样的,且其中像素的排列方法为以子像素间隔排列,间隔1个子像素以上;当然也可采用以多个子像素为一组,以组为单位间隔排列,间隔一组以上。请参阅图16,显示屏显示区域可分为正常显示区与增透区141,增透区141即为下方设置有摄像头或者其他感应元件的区域,通过在增透区141阵列基板130中预留空白区以及不设置偏光片,使增透区141较正常区140拥有更高的光线透过率,在增透区141下方设置摄像头或其他传感装置可以提高其拍摄效果以及传感原件工作效率,具有更好的全面屏显示的效果。
请参阅图12和图13,在本实施例中,所述像素电极结构包括:基板130、第一栅极层011、第二栅极层012、栅极绝缘层020、第一有源层031、第二有源层032、第一源漏极层041、第二源漏极层042、钝化层050、平坦层060、阳极070、像素定义层080;所述第一栅极层011、第二栅极层012设置于基板130上,所述栅极绝缘层020设置于第一栅极层011、第二栅极层012上;所述第一有源层031、第二有源层032置于栅极绝缘层020上,且所述第一有源层031、第二有源层032分别位于第一栅极层011、第二栅极层012上方;所述第一源漏极层041、第二源漏极层042分别置于第一有源层031、第二有源层032上,且所述第以源漏极层通过位于栅极绝缘层020上的第三通孔021与第二栅极层012连接;于第一有源层031、第二有源层032、第一源漏极层041、第二源漏极层042、栅极绝缘层020上依次设置有钝化层050、平坦层060;所述阳极070设置于平坦层060上,并通过钝化层050、平坦层060上的第四通孔051与第二源漏极层042连接;所述阳极070、平坦层060上还设置有像素定义层080,所述像素定义层080上设置有以阳极070为底的第一通孔081;于第二栅极层012远离第一栅极层011的一侧还设置有以基板130为底的第五通孔052。需要说明的是,在第二栅极层012远离第一栅极层011的一侧的第五通孔052的底部为透明阴极110、电致变色层090以及透明基板130,便于在需要调用摄像头或是其他感应元件的时候,光线可以透过面板;同理在不需要调用摄像头或是其他感应元件的时候,电致变色层090可以阻挡光线的反射,以提高对比度。
需要说明的是,所述电致变色层090包括依次层叠的第一透明电极层、电解质层、变色层、离子存储层和第二透明电极层,且所述第二透明电极层或第一透明电极层与阴极110共用同一膜层。即,所述第二透明电极层或第一透明电极层与阴极110连接,形成通路,便于变色层于透明状态和非透明状态间切换。制备电致变色层090根据所选材料可以有:真空蒸镀沉积、溅射沉积(PVD)、溅射沉积(CVD)、喷雾热解法、喷雾热解法、阳极070氧化法、水热法与溶剂热法等;所述变色层材料为:WO3、MoO3、Nb2O5、TiO2、NiO、IrOx、Co2O3、Rh2O3、MnO2、聚噻吩类及其衍生物、四硫富瓦烯、紫罗精类和金属酞菁类化合物。
在某些实施例中,还提供了一种提高显示效果的面板结构的驱动方法,所述驱动方法用于驱动任意一项面板结构的实施例,所述一种提高显示效果的面板结构还包括;驱动单元和摄像头,摄像头置于面板结构的透光通孔下;面板结构与驱动单元相连;所述驱动方法执行如下步骤:先判断是否调用摄像头;若调用摄像头,驱动单元不输送电压信号至所述面板结构的电致变色层090;若不调用摄像头,驱动单元输送电压信号至所述面板结构的电致变色层090。在调用摄像头拍照时,增透区141面板不发光,驱动单元无输送电压信号,此时变色层薄膜为透明状态从而增加此区域透光度。在不需要调用摄像头时,面板正常显示,驱动单元输送电压信号,薄膜变不透明,以减少环境光对显示效果的影响从而增加面板对比度,有利于减少屏下摄像头区与正常区140面板显示效果的色差,提高画面的一致性。
需要说明的是,尽管在本文中已经对上述各实施例进行了描述,但并非因此限制本发明的专利保护范围。因此,基于本发明的创新理念,对本文所述实施例进行的变更和修改,或利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,直接或间接地将以上技术方案运用在其他相关的技术领域,均包括在本发明的专利保护范围之内。
Claims (10)
1.一种提高显示效果的面板结构的制作方法,其特征在于,包括步骤:
制作具有基板、第一栅极层、第二栅极层、栅极绝缘层、第一有源层、第二有源层、第一源漏极层、第二源漏极层、钝化层、平坦层、透明阳极和像素定义层的像素电极结构,像素电极结构的一侧设置有以基板为底部的透光通孔;并蚀刻位于像素电极结构顶部的像素定义层,制得第一通孔;
制作电致变色层,电致变色层覆盖像素电极结构和透光通孔,并蚀刻第一通孔内的所述电致变色层;于第一通孔内蒸镀有机发光层;蒸镀透明阴极,形成面板结构;
或者于第一通孔内蒸镀有机发光层;蒸镀透明阴极;于蒸镀透明阴极上制作电致变色层,电致变色层覆盖像素电极结构和透光通孔,并蚀刻机发光层上的所述电致变色层,形成第二通孔,所述第二通孔位于有机发光层上方,形成面板结构。
2.根据权利要求1所述一种提高显示效果的面板结构的制作方法,其特征在于,制作所述像素电极结构步骤:
在基板上同时制作第一栅极层、第二栅极层;
制作栅极绝缘层,并于第二栅极层上蚀刻栅极绝缘层,形成第三通孔;
制作第一有源层、第二有源层,所述第一有源层、第二有源层分别位于第一栅极层、第二栅极层上方的栅极绝缘层上;
制作第一源漏极层、第二源漏极层,所述第二源漏极层设置于第二有源层两侧;所述第一源漏极层设置于第一有源层两侧,且一侧的第一源漏极层通过第三通孔与第二栅极层连接;
制作钝化层;并以第二有源层一侧的第二源漏极层为底,蚀刻钝化层形成第四通孔,同时以所述基板为底,蚀刻钝化层和栅极绝缘层形成第五通孔;
制作平坦层,在第四通孔、第五通孔所在位置上蚀刻平坦层;
制作透明阳极,所述阳极通过第四通孔与第二源漏极层连接;
制作像素定义层,在阳极上蚀刻像素定义层形成以阳极上表面为底的第一通孔,同时在第五通孔上蚀刻像素定义层。
3.根据权利要求1所述一种提高显示效果的面板结构的制作方法,其特征在于,还包括步骤,盖设封装盖板。
4.根据权利要求1所述一种提高显示效果的面板结构的制作方法,其特征在于,所述电致变色层的制作包括步骤:
依次制作层叠的第一透明电极层、电解质层、变色层、离子存储层和第二透明电极层。
5.一种提高显示效果的面板结构,其特征在于,包括:像素电极结构、电致变色层、有机发光层、阴极,像素电极结构的一侧设置有以基板为底部的透光通孔;所述有机发光层位于所述像素电极结构内的第一通孔中,且与所述像素电极结构中的阳极连接;
所述电致变色层设置于像素电极结构和透光通孔的上表面,且于有机发光层上方设置有一通孔;所述阴极位于电致变色层和有机发光层上;
或者所述阴极位于像素电极结构和有机发光层上,所述电致变色层设置于所述阴极和透光通孔的上表面,且位于有机发光层上方设置有一通孔。
6.根据权利要求5所述一种提高显示效果的面板结构,其特征在于,所述像素电极结构包括:基板、第一栅极层、第二栅极层、栅极绝缘层、第一有源层、第二有源层、第一源漏极层、第二源漏极层、钝化层、平坦层、阳极、像素定义层;
所述第一栅极层、第二栅极层设置于基板上,所述栅极绝缘层设置于第一栅极层、第二栅极层上;所述第一有源层、第二有源层置于栅极绝缘层上,且所述第一有源层、第二有源层分别位于第一栅极层、第二栅极层上方;所述第一源漏极层、第二源漏极层分别置于第一有源层、第二有源层上,且所述第以源漏极层通过位于栅极绝缘层上的第三通孔与第二栅极层连接;于第一有源层、第二有源层、第一源漏极层、第二源漏极层、栅极绝缘层上依次设置有钝化层、平坦层;所述阳极设置于平坦层上,并通过钝化层、平坦层上的第四通孔与第二源漏极层连接;所述阳极、平坦层上还设置有像素定义层,所述像素定义层上设置有以阳极为底的第一通孔;于第二栅极层远离第一栅极层的一侧还设置有以基板为底的第五通孔。
7.根据权利要求5所述一种提高显示效果的面板结构,其特征在于,所述屏下摄像头面板结构还包括设置在屏下摄像头面板结构上的封装盖板。
8.根据权利要求5所述一种提高显示效果的面板结构,其特征在于,所述电致变色层包括依次层叠的第一透明电极层、电解质层、变色层、离子存储层和第二透明电极层,且所述第二透明电极层或第一透明电极层与阴极连接。
9.根据权利要求8所述一种提高显示效果的面板结构,其特征在于,所述变色层材料为:WO3、MoO3、Nb2O5、TiO2、NiO、IrOx、Co2O3、Rh2O3、MnO2、聚噻吩类及其衍生物、四硫富瓦烯、紫罗精类和金属酞菁类化合物。
10.一种提高显示效果的面板结构的驱动方法,其特征在于,所述驱动方法用于驱动权利要求5至9的任意一项的面板结构,所述一种提高显示效果的面板结构还包括;驱动单元和摄像头,摄像头置于面板结构的透光通孔下;面板结构与驱动单元相连;所述驱动方法执行如下步骤:
判断是否调用摄像头;
若调用摄像头,驱动单元不输送电压信号至所述面板结构的电致变色层;
若不调用摄像头,驱动单元输送电压信号至所述面板结构的电致变色层。
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