CN111836676A - 配置为处理从至少一个铸造过程收集的废气的废气处理方法和系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于处理来自工业过程的废气的方法和系统,至少包括以下连续步骤:a)使包含挥发性有机化合物(VOC)和/或胺的废气通过升高的温度下的催化区,所述催化区包括脱NOx催化剂和氧化催化剂,从而提供第一经处理气体流,和b)使第一经处理气体流经受紫外辐射以引起光氧化。
Description
技术领域
本发明提供了一种用于处理来自工业过程的废气的方法和系统,至少包括以下连续步骤:
a)使包含挥发性有机化合物(VOC)和/或胺的废气通过催化区,所述催化区包括脱NOx催化剂和氧化催化剂,从而提供第一经处理气体流,和
b)使第一经处理气体流经受紫外辐射以引起光氧化。
背景技术
铸造厂熔融黑色金属和有色金属及合金,并通过将熔融金属或合金浇铸和凝固在模具中而将其重塑成最终形状或接近最终形状的产品。铸造业是差异化的多元化的产业。涉及黑色和有色合金的金属铸件的铸造厂在VOC和有害空气污染物(HAP)的产生中扮演了重要作用。
在金属铸造工业中,空气污染会涉及各种排放源,例如铸件的固化如在冷芯盒(cold-box)过程期间,砂的再循环,由浇铸成一定形状的热金属分解导致的粘结剂分解等。
作为铸造厂排放物的实例,可以提及的有矿物粉尘、酸化化合物、不完全燃烧产物、无机物质、挥发性有机碳(VOC),包括部分氧化的烃,芳烃如BTEX(苯,甲苯,乙苯和二甲苯)和来自模具生产、铸造、冷却和脱模的其它气味物质,例如叔胺。
欧盟委员会于2005年5月建立的“Reference Document on Best AvailableTechniques in the Smitheries and Foundries Industry”中提供了铸造输入和输出的一般概述。
N.Tiedje et al.:“Emission of organic compounds from mould and corebinders used for casting iron,aluminium and bronze in sand moulds”,J EnvironSci Health A Tox Hazard Subst Environ Eng.2010Dec;45(14):1866-1876提供了关注与模具和型芯生产相关的潜在污染的概述。
在某些铸造过程中,例如,在冷芯盒过程中,包含多元醇组分和异氰酸酯组分的粘合剂通过将以气态形式的挥发性叔胺作为催化剂注入模具/型芯中而固化。固化速度可能非常高,使得可以实现高生产率,但叔胺的排放也需要控制。
通常使用的叔胺是三甲胺、二甲基乙胺、二甲基异丙胺、二甲基丙胺和三乙胺。在冷芯盒过程中,叔胺以气态形式通过聚集体和粘合剂的成形混合物(US 3409579)。通常,酚醛树脂用作多元醇组分。
在过去的几年内,冷芯盒过程的使用不断扩大,并且由于胺具有相对较低的暴露值极限,且在非常低的浓度下具有强烈的特征气味,因此有必要收集和处理含胺排放物。
尽管提取可能是直接在工作场所去除污染废气的解决方案,但仍必须从废气中去除不同的HAP和VOC排放物后才能将其安全地排放到周围环境中。传统上,胺和VOC使用不同的各种废气净化技术从铸造废气中去除,然而,由于废气以及相应的有害污染物的含量根据相应的铸造方法而不同,因此铸造厂使用的气体处理系统通常对于其使用、制造和安装是复杂,庞大,而因此价格昂贵的。
一种已知的方法是传统上已用于去除有味气体的生物过滤器,该有味道气体主要是由冷芯盒制芯过程的废气中的胺和用于从铸造车间的废气中去除VOC(例如BTEX)中的胺组成。过滤器的良好性能取决于养分供应量(用于消除/分解的化合物)和微生物数量之间的平衡。生物过滤是基于生活于纤维-泥炭过滤床上的微生物将恶臭气体氧化并将其转化为无味化合物的能力。气味化合物吸附于水相中,并被生活于过滤材料上的微生物分解。然而,与生物过滤器有关的问题很多,使得生物体对底物通常非常专一,并且不能用于多种用途,种群可能会中毒,或生物质可能积累并且过滤器可能堵塞。
胺和VOC也可以使用其中胺和VOC被燃烧的热后燃烧从废气中去除。在不连续生产的小型铸造厂如,例如冷芯盒方法中,通常无法有效地控制此过程,因为这尤其需要正确设计加力燃烧室,所述室中的温度至少为800℃并且废气在所述室内的最小停留时间为至少2秒。因此,能量消耗高,因此该方法运行昂贵。
一种非常常见的方法是废气中所含的化学吸收(清洗)胺。例如,胺是强碱,并与硫酸或磷酸反应。其必须在低于pH 3的pH范围内工作,以避免胺排放。因此,不时更换洗涤溶液以除去浓缩的盐,其随后需要作为危险废物处置。在技术上这可以处理所述洗涤溶液而回收胺以再次使用,然而,该方法通常很昂贵且耗时。
US 4543163和US 4472246描述了从含有胺的废酸汽提液中回收胺的方法。该方法的原料是用于从胺的蒸气流中洗涤胺的酸洗涤液,该胺的蒸气流用于铸造业的冷芯盒成型法或涂料工业涂层工业中的蒸气渗透可固化涂料的固化。
因此,即使目前存在许多旨在处理来自铸造厂的废气的不同技术,但这些解决方案都需要大量的能量,控制和维护非常复杂,并且使用时会昂贵而费时。
本发明的目的
因此,仍然需要用于去除铸造厂废气中的VOC和/或胺而同时提供减少基本上完全去除胺和/或VOC的能量和降低与去除过程的启动和控制相关的复杂性的改进系统。
因此,本发明的第一方面是提供一种废气处理方法和系统,其配置为去除胺和/或VOC,包括PAH(多环芳族烃,如萘)和BETX(芳烃,如苯、甲苯、乙苯和二甲苯)。
本发明的第二方面是提供一种废气处理方法和系统,其具有紧凑的结构,并且其中整个系统内的压降降低。
本发明的第三方面是提供一种废气处理方法和系统,其不需要昂贵的氧化剂如过氧化氢或过氧酸,从而降低了成本和用于存储设施的空间。
本发明的第四方面是提供一种废气处理方法和系统,其配置为在相对较低的温度下从废气中去除高浓度的胺和/或VOC。
本发明的第五方面是提供一种废气处理方法和系统,其用于在不使用洗涤溶液、生物过滤等的情况下有效去除由铸造厂排出的气体中的高浓度胺和/或VOC。
本发明的第六方面是提供一种废气处理方法和系统,其制造成本低,并且使用简单而可靠。
发明内容
藉此根据本发明实现这些及其他方面的新颖且独特的特征,通过提供一种废气处理方法处理从至少一个铸造过程收集的废气,所述方法包括以下连续步骤:
-使包含VOC和/或胺的废气通过催化区,所述催化剂区包含脱NOx催化剂和氧化催化剂,从而提供第一经处理气体流,和
-使第一经处理气体流进行光氧化过程,从而提供第二经处理气体流。
已知高量的胺会对VOC的光氧化产生负面影响,因此,根据本发明的方法的独特之处在于,废气首先穿过催化区,其配置为基本上完全除去所述废气中的胺,之后使由此获得的气体流(第一经处理气体流)经受其中除去VOC的光氧化处理。
即使大部分的VOC也将在催化区中去除,但正是这种其中主要去除胺的催化区中的废气的“预处理”确保了后续的光氧化过程最佳地工作,并确保VOC可以基本上完全去除。
因此,根据本发明的方法提供了一种用于处理从至少一个铸造过程收集的废气的非常简化的废气处理方法。
尽管根据本发明的方法提供了当废气包含胺和VOC两者时的独特的优点,但当废气仅包含胺或VOC之一时该方法也可以使用。
根据一个实施方式,该方法还包括在使第一经处理气体流经受光氧化过程之前使第一经处理气体流通过颗粒过滤器和/或洗涤器。
在优选的实施方式中,存在于废气中的胺包含叔胺,特别是二甲基-N-乙胺、二甲基-N-异丙胺、二甲基-N-丙胺和/或三乙胺。催化区优选配置为促进涉及大气中的氧气或存在于废气中的氧气的反应,其中该氧气是氧化剂。通过使含胺的废气在催化区中与催化剂的表面接触,胺将会经受氧化分解,例如,通过将胺直接氧化成有机酸,从而有效地将胺从气体流中除去。然后生成的有机酸(VOC)将会在随后的光氧化步骤中除去。
即使胺通过与游离氧接触而经受降解,胺的催化转化仍未用于处理含高浓度胺的废气,如从铸造厂,例如从冷芯盒过程收集的废气。然而,本发明人出乎意料地发现,通过使用脱NOx催化剂和氧化催化剂的组合,会提供独特且协同的效应,其中可以基本上完全从废气中除去胺,当废气仅经过所述催化剂之一时却并未观察到这种效应。因此,至少两种催化剂,即脱NOx催化剂和氧化催化剂的组合确保了从废气中基本上完全除去胺。
具有至少脱NOx催化剂和氧化催化剂的催化剂区的使用具有以下优点:存在于废气中的烃(VOC)也将被氧化,而因此至少一定程度上从气体流中被去除。
具体实施方式
该废气处理系统或方法包括:
-催化区,其中包含VOC和/或胺的废气通过包含脱NOx催化剂和氧化催化剂的催化剂单元,从而提供第一经处理气体流
该催化区在125至400℃下运行。为了最小化能量输入,还可以在125至275℃,优选125至250℃的温度下运行。如果关注VOC消除,则运行温度优选为300至400℃,而不会不利地影响胺消除。根据一个优选的实施方式,运行温度为280至380℃。
脱NOx催化剂优选是优选至少基于贵金属,优选钯,五氧化二钒和优选二氧化钛载体体系的SCR催化剂。例如,钯和五氧化二钒(V2O5)可以是活性化合物/组分,可选地与三氧化钨一起置于二氧化钛(TiO2)载体系统上。这种氧化催化剂可以是常规的CO氧化催化剂。
氧化催化剂和SCR催化剂都优选涂覆于蜂窝或整体载体结构上。整体结构优选具有大量平行通道,以提供大的催化剂表面积而同时确保整个所述催化单元内的低压降。
在一个实施方式中,催化剂单元可以配置为单独的催化单元/层,例如,一个、两个或三个SCR催化剂层和一个、两个或三个氧化催化剂层,然而,为了减小催化单元的尺寸并仍然实现最小的压降损失,优选例如通过提供具有期望的催化活性的组合催化剂而在单个催化剂中组合两种催化功能。
为了最小化NH3/叔胺氧化成NOx以及其他不希望的化合物的氧化如NO氧化为NO2和SO2氧化为SO3(如果这些化合物存在于待处理的废气中),优选用贵金属,优选钯,掺杂SCR催化剂。
在处理来自燃烧系统的废气的领域中,已知采用贵金属,例如,铂或钯“掺杂”市售SCR催化剂以提供所述SCR催化剂的氧化活性。
一种用于根据本发明的系统的优选催化剂材料是可以从丹麦的Haldor获得GTC-802催化剂。所述催化剂体系描述于WO2016/150465A1中,并且公开了如何将SCR催化剂和氧化催化剂的催化功能结合。此外,在所述催化剂中,以将贵金属(在这种情况下为钯,Pd)的浓度和分布控制到非常均匀的水平的方式,将用于CO氧化反应的贵金属加入到标准SCR钛载体中。必须强调的是,所述催化材料配置为从内燃机中去除NOx和CO,并因此在远高于本发明用于催化区的温度范围(其中有效地去除胺)的温度下发挥作用。
此外,胺的氧化分解还提供了催化剂的连续纯化。因此,胺基本上从废气流中完全除去,而没有显著增加污染水平,其构成了与用于除去胺和/或VOC的现有技术相比的独特优势。
本发明的发明人发现,当催化区在80至400℃,优选120至225℃或125至200℃的温度下运行时,提供非常有效的胺去除。如果温度升高超过225℃,则催化区的能量效率将会降低。
因此相比标准再生催化氧化剂(RCO)在高于400℃的温度下运行,根据本发明的系统提供用于减少从废气中去除胺和/或VOC所需的能量的非常简单有效的方法。
由于在催化区的运行温度相对较低,则在废气进入所述区之前并不总是需要进行加热,从而显著降低了处理的能源和成本。
然而,为了确保该催化区中的条件是最佳的,根据一个实施方式,优选待处理的废气在进入该催化区之前具有最佳温度范围内的温度,即125至200℃。当然,待处理的废气的温度取决于废气的来源,然而,如果所述废气不具有最佳温度范围的温度,即125至200℃,则优选所述气体通过穿过放置于催化区之前的温度调节区而加热之后穿过催化区。所述温度调节区配置为提供经调节的废气,即,具有80至400℃,优选80至225℃或125至200℃的温度的废气。根据一个实施方式,该温度为280至380℃。
在优选的实施方式中,在废气通过催化区之前,用加热器如气体燃烧器或在另一个加热系统中对其加热。废气的加热可以以任何常规方式,例如,通过燃烧器实现。
即使在待处理的废气具有最佳温度范围内的温度的情况下,使废气通过温度调节区仍可能是有利的,因为这将确保催化区中的运行温度始终是最佳的,并且废气温度的变化不会对处理过程产生负面影响。
优选的是加热的废气的温度对应于特定的最佳温度,使得当调节的排气进入催化区域时,所述区域中的温度将既不会被加热也不会被冷却。
废气优选以,例如,2000至4000l/小时的空速通过催化区,以确保在125至200℃的温度下从废气中除去基本上100%的胺和60%至90%的VOC,或确保在更高的高温下的更高VOC去除率。
作为氧气和/或空气的替代,可以将臭氧添加/注入到催化区中。臭氧具有高氧化电位的优点,使得可以缩短紧接催化剂区之前与废气管线/管道相连的催化剂区气体管线中的保留时间。
催化区具有的优点在于,其以这样的方式“预处理”废气,使得当所述废气经受光氧化过程时废气将会优选地不包含任何可能对光氧化过程具有负面影响的化合物和/或物质。在这方面,第一经处理气体流,即源自催化区的气体流,可以与一种或多种其它废气合并,其包含VOC,但仅有很小浓度的胺,优选低于50mg/m3,并随后使合并的气体流经受光氧化步骤。
这将具有明显的优势,即多种不同的废气可以在单个光氧化步骤中组合处理。如果一种或多种所述废气体流最初包含胺,所述胺在合并之前可以在各个催化区中除去,并且仅包含低胺浓度的废气可以直接经受光氧化步骤。
在光氧化步骤中,VOC,例如,催化剂区残留的或经由额外的废气加入的VOC,包括但不限于,有机酸、醇和醛,可以通过光氧化过程处理。
即使已知多种不同的VOC去除技术,并且可以将其用于进一步处理第一经处理气体流,但使用光氧化方法,即组合使用UV,例如254nm,和臭氧(O3)仍优选用于从所述气体流中去除VOC,其中臭氧(O3)优选由例如185nm波长的UV灯泡产生。
光氧化的优点很多。首先,光氧化是破坏方法,其中所得产物是二氧化碳、部分氧化的有机化合物、颗粒和水。因此,源自光氧化步骤的第二经处理气体流可以直接且安全地排放到周围环境中。
与天然氧气组合,UV光会产生高度反应性的自由基和臭氧,从而氧化VOC(包括如气味、溶剂等污染物)。
其次,UV光是节能且环保的解决方案,并且紫外辐射足够强以破坏许多共价键。其本身就可以降解RGB、二噁英、多芳族化合物和BTEX和/或引发其降解。
最后,在该方法中用作氧化剂的臭氧是强力氧化剂,并且由于臭氧可以原位生成(使用UV灯)并立即使用,不需要氧化剂存储区域。因此,优选的是,在光氧化方法中,第一经处理气体流穿过其中安装多个UV灯的光氧化区。即使臭氧可以在臭氧发生器中产生并直接添加到光氧化中,但将UV灯配置为(也)在产生臭氧的UV光谱,即约185nm的UV光谱内运行。UV光还具有增强氧化过程的作用。优选同时使用具有约254nm波长的UV光。
为了确保UV灯以最高效率工作,即产生OH自由基,可以将喷洒系统安装于所述光氧化区中,以将第一经处理气体流的相对湿度和/或绝对水含量提高至至少高于90%。可替换地,在所述气体流进入光氧化区之前,可以将第一经处理气体流的相对湿度提高至至少高于90%。
因此,光氧化过程既不需要化学品,也不需要高温。UV灯泡的工作温度(外表面)优选为80-120℃。
为此目的,优选在气体流进入用于UV处理的光氧化区之前将其冷却至低于100℃或80℃及更低的温度。
本发明的发明人已经证实,通过使第一经处理气体流进入光氧化区,可以有效地除去至多达99%的剩余VOC浓度。
根据本发明的进一步的实施方式,该方法还包括在使第一经处理气体流和可选的任何其它气体流经受光氧化过程之前,使第一经处理气体流和可选的任何其它气体流通过颗粒物过滤器和/或洗涤器。在这种情况下,颗粒物过滤器和/或加湿器安装于UV处理的上游。
颗粒物过滤器特别用于过滤出直径足够大而吸收和/或散射UV处理区中使用的UV光和/或去除对UV处理系统造成化学或物理损害的颗粒物和/或对UV处理产生负面影响的颗粒。合适的颗粒物过滤器是(干式和湿式)静电除尘器、织物过滤器、陶瓷过滤器、筒式过滤器、除雾器或固体过滤器(例如,煤,沸石)。然而,并不排除其他颗粒物过滤器类型如旋风分离器或冷凝器的使用。过滤器优选配备自清洁系统。
洗涤器可以是加湿器,并且用于加湿气体流(以提高UV性能)和/或从气体流中去除颗粒物组分(污染物,颗粒物…),并调节UV处理的空气。水优选用作加湿器中的介质。加湿器的结构优选没有填充,但也可以设计成具有填充。为了加湿,优选在有或无雾化助剂(例如,压缩空气)的情况下经由喷嘴将介质喷雾到气体流中。
颗粒物过滤器和/或加湿器也可以用于在使气体流经受UV处理将气体流冷却至80℃和以下。
根据本发明的进一步的实施方式,离开光氧化区的气体流可以转移到静电沉淀区中以在气体流释放到环境中之前从气体流中去除颗粒物。颗粒物带电并通过电场向集电器板移动。直径大于0.3μm的颗粒物的沉淀效率大于99%。
本发明还涉及配置为实施上述方法的废气处理系统。
“铸造过程”是指导致铸造零件(金属或其他材料)生产的每个过程。然而,铸造过程还包括在实际铸造步骤之前和之后的步骤,如例如型芯(core)和型材(form)生产、型芯和型材存储、型芯和型材固化、包括型砂回收的砂处理、铸件的模型部件的精加工或清洗。除了从至少一个铸造过程中收集的废气之外,本发明的方法还可以用于从热金属加工工业的至少一个过程中收集的废气。“热金属加工工业”中的过程是指涉及热金属的处理或利用或产生热量以加工金属的任何过程(例如:焊接,铸造或浇铸过程,热金属净化,金属生产,热金属成型,锻造和热金属加工)。
在根据本发明的优选实施方式中,根据本发明的废气处理系统配置为在铸造厂中的相关工位处被改装成现有废气系统,从而降低新设备的昂贵安装成本。
本发明下面将更详细地诠释,参照附图仅描述了废气处理系统和方法的示例性实施方式,其中
图1示意性地显示了根据本发明的废气处理系统的第一实施方式,并且
图2示意性地显示了根据本发明的废气处理系统的第二实施方式。
以下以废气从冷芯盒过程中收集并且包含胺和VOC两者的假设描述本发明。然而,这些假设并不应该解释为限制性的,因为废气可以从另一个铸造过程中收集或仅包含VOC或胺中的一种。
图1显示了根据本发明的废气处理系统1的第一简化实施方式。所述系统包含催化区2,其中包含VOC和胺的废气3穿过包含脱NOx催化剂和氧化催化剂的催化剂单元4。离开所述催化区的气体是第一经处理气体流5,然后将其通到配置于催化区之后并且其中第一经处理气体流5经受光氧化步骤的光氧化区6上。
在光氧化区中,安装多个配置为在产生臭氧的UV光谱内运行的UV灯7。
根据本发明的系统和方法的独特之处在于,当废气3穿过催化区2时,存在于所述废气中的胺基本上被完全除去。因此,在第一经处理气体流5中的胺浓度没有或只有非常低的胺浓度。当所述第一经处理气体流5随后进入光氧化过程时,最初存在于废气中的胺不会对光氧化步骤的性能产生负面影响,从而确保该光氧化区6中去除基本上所有的VOC。
由于该催化剂单元4包括脱NOx催化剂和氧化催化剂,因此废气3中的绝大部分VOC也将在催化区中被除去。然而,在其中去除胺的催化区中的废气的“预处理”确保随后的光氧化过程的最佳进行。
因为光氧化是破坏过程,其中所得产物是二氧化碳、部分氧化的有机化合物、颗粒和水,源自光氧化步骤的第二经处理气体流8可以直接排放到环境中。
因此,根据本发明的方法和系统由此提供了用于处理从至少一个铸造过程中收集的废气的非常简化的废气处理方法和系统,该系统具有紧凑的结构,并可以容易地添加到铸造厂中的现有工位中。该系统和方法还具有以下优点:与传统的胺/VOC去除系统和方法相比,整个系统的压降小,并且该系统用于去除过程的能量更少。
图2显示了根据本发明的系统的第二实施方式。所述实施方式增加了图1所示的实施方式的进一步的细节,并且对于相同的部件使用了相同的标号。
在该实施方式中,废气3在进入催化区之前穿过温度调节区9。所述调节区9配置为提供经调节的废气10,即具有80℃至400℃,优选125℃至200℃的温度的废气10,使得当废气进入催化区时,氧化以及相应的胺和VOC去除条件是最佳的。
为了确保催化单元中存在足够的氧化剂,可以可选地将另外的氧化剂11添加到该催化区2中。所述氧化剂可以是二次空气或氧气。然而,根据一种实施方式,优选的是所述氧化剂是臭氧,因为由于臭氧的强氧化能力可以缩短催化区中的停留时间和/或使用更小的催化单元。
所述另外的氧化剂11也可以恰好在催化剂区之前加入到废气中,例如,提供于连接至废气管线/管道的第二管线中。
为了确保UV灯以最高效率工作,可以在光氧化区6中安装喷水系统(未示出),以将第一经处理气体流的相对湿度和/或绝对水含量提高至至少高于90%。
第一经处理气体流5,即源自催化区2的气体流,可以进一步与包含VOC但仅小浓度的胺的其它废气12合并,从而提供合并的气体流13。该合并的气体流13随后在光氧化区6中经受光氧化过程。
向第一经处理气体流5中添加其它废气12的优点在于,可以在单个光氧化区7中组合处理两种不同的废气。因此,来自不会产生胺或非常低浓度胺的铸造过程的废气可以加入到第一经处理气体流5中,从而降低总的废气处理成本。在图2中,仅单个其它的废气流12加入到第一经处理气体流5中,然而,这当然不是限制性的,并且可以根据其他参数,例如,光氧化区的限制,而选择其它废气的数量。
即使来自光氧化过程的残余物主要由二氧化碳和水组成,在某些情况下可能有利的是,在第二经处理气体流8排放到周围环境之前使第二经处理气体流8经受进一步的处理区14,例如静电沉淀或机械过滤。
本发明的发明人已经证实,通过使用根据本发明的方法和系统,可以从废气中去除基本上100%的胺和至多达99%的VOC。
Claims (16)
1.一种废气处理方法,用于处理由至少一个铸造过程收集的废气,所述方法包括以下连续步骤:
-使包含VOC和/或胺的废气(3)通过催化区(2),所述催化剂区包含脱NOx催化剂和氧化催化剂,提供第一经处理气体流,和
-使第一经处理气体流经受光氧化步骤,提供第二经处理气体流。
2.根据权利要求1所述的废气处理方法,其中,所述脱NOx催化剂是优选地至少基于一种贵金属,优选钯、五氧化二钒和优选二氧化钛载体体系的SCR催化剂。
3.根据权利要求1或2所述的废气处理方法,其中,所述催化区(2)中的气体流具有80℃至400℃,优选80℃至225℃,或125℃至200℃的温度。
4.根据前述权利要求中任一项所述的废气处理方法,其中,所述废气(3)包括叔胺,特别是二甲基-N-乙胺、二甲基-N-异丙胺、二甲基-N-丙胺和/或三乙基胺。
5.根据前述权利要求中任一项所述的废气处理方法,其中,向所述催化区(2)加入臭氧。
6.根据前述权利要求中任一项所述的废气处理方法,其中,将未通过所述催化区域(2)的至少一种其它废气(12)与离开所述催化区的所述第一经处理气体流(5)合并,而提供合并气体流(13),使所述合并气体流经受光氧化步骤。
7.根据权利要求6所述的废气处理方法,其中,所述至少一种其它废气(12)具有低于50mg/m3的胺浓度。
8.根据前述权利要求中任一项所述的废气处理方法,其中,光氧化过程包括同时产生UV和O3,并且具体包括OH自由基生成。
9.根据前述权利要求中任一项所述的废气处理方法,其中,在对所述第一经处理气体流经受光氧化过程之前和/或期间,将所述第一经处理气体流的相对湿度提高至高于90%。
10.一种废气处理系统(1),配置为处理从至少一个铸造过程收集的废气,所述系统包括:
-催化区(2),其中使包含VOC和/或胺的废气(3)通过包含脱NOx催化剂和氧化催化剂的催化剂单元(4),从而提供第一经处理气体流(5),
-和光氧化区(6),配置于所述催化区(2)之后。
11.根据权利要求10所述的废气处理系统(1),其中,所述脱NOx催化剂是优选地基于至少一种贵金属,优选钯、五氧化二钒和优选二氧化钛载体体系的SCR催化剂。
12.根据权利要求11所述的废气处理系统(1),其中,所述SCR催化剂和所述氧化催化剂的催化功能组合于单个催化系统中。
13.根据权利要求10至12中任一项所述的废气处理系统(1),其中,所述催化区(2)中的气体流具有80℃至400℃,优选80℃至225℃,或125℃至200℃的温度。
14.根据权利要求10至13中任一项所述的废气处理系统(1),其中,所述光氧化区(2)包括以约185nm,优选约185nm和约254nm运行于UV光谱中的多个UV灯(7),以产生臭氧。
15.根据权利要求1至9中任一项所述的方法或根据权利要求10至14中任一项所述的系统(1)用于从由至少一个铸造过程收集的废气(3)中去除胺,特别是叔胺,和/或VOC的用途。
16.根据权利要求15所述的用途,其中,所述至少一个铸造过程至少涉及型芯和型材的生产,并且具体地是冷芯盒过程。
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