CN111821867A - 一种自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜及其制备方法和应用 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜及其制备方法和应用，其制备方法如下：1)将聚合物溶液均匀涂覆到平板上，烘干后得到聚合物基底，所述聚合物基底与氧化石墨烯之间不发生互溶和反应；2)将氧化石墨烯浆液均匀涂覆到所述聚合物基底上，烘干后将聚合物基底上的氧化石墨烯层取下，得到自支撑氧化石墨烯膜；3)将所述自支撑氧化石墨烯膜进行还原，得到自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜。本发明的工艺简单、成本低廉，可实现大规模工业生产。本发明制得的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜能在水中稳定存在，可有效过滤抗生素等小分子物质，并兼有纯无机膜的天然优势，在水处理领域具有广阔开发前景。

Description

一种自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜及其制备方法和应用
技术领域
本发明属于环境无机膜材料制备技术领域，具体涉及一种自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜及其制备方法和应用。
背景技术
近年来，水环境中微量污染物的出现成为了广受关注的环境问题，微污染物通常以痕量浓度存在于水中，具有持久性强，毒性大等特点，对生态系统和人类健康有潜在的巨大风险。因此，高效去除水中的微量污染物成为当前水处理技术发展的重点方向。膜分离技术作为21世纪最具发展潜力的水处理技术，其基本原理是膜充当进料和渗透液之间的薄屏障，可在压力驱动的条件下优先进行传质以分离，浓缩或分馏，是一种低能耗，分离效率高的技术。膜分离技术中的纳滤膜(孔径1～2nm)能够有效的截留并分离小分子有机污染物和多价离子。
通过堆叠氧化石墨烯片层制备的纳滤膜具有优异的分离性能和广阔的应用前景，但是，纯的氧化石墨烯膜在水中易溶解，不能稳定存在，这限制了纯氧化石墨烯膜的进一步应用。在此基础上，自支撑氧化石墨烯膜虽然可以具有宏观的尺寸和无穷的厚度，可以大规模大面积生产，但也阻断了氧化石墨烯膜通过基底膜进行稳定的途径。目前仍没有一种完善的方法对自支撑氧化石墨烯膜进行改性以改善其稳定性。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中的不足，并提供一种能在水溶液中稳定存在的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜及其制备方法和应用。
本发明所采用的具体技术方案如下：
一种自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法，其包括以下步骤：
1)将聚合物溶液均匀涂覆到平板上，烘干后得到聚合物基底，所述聚合物基底与氧化石墨烯之间不发生互溶和反应；
2)将氧化石墨烯浆液均匀涂覆到所述聚合物基底上，烘干后将聚合物基底上的氧化石墨烯层取下，得到自支撑氧化石墨烯膜；
3)将所述自支撑氧化石墨烯膜进行还原，得到自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜。
作为优选，步骤1)中所述平板的材质为玻璃，所述聚合物溶液为表面活化能在20～45mN/m范围内的疏水聚合物溶液。
进一步的，所述疏水聚合物溶液为聚偏氟乙烯PVDF、聚氟乙烯PVF和聚异丁烯PIB中的一种物质与有机溶剂相融合得到的混合物，所述有机溶剂优选为N,N-二甲基乙酰胺。
作为优选，步骤2)中所述氧化石墨烯浆液的浓度为0.4～0.8g/mL。
作为优选，步骤1)中所述聚合物溶液的涂覆厚度为200μm，步骤2)中所述氧化石墨烯浆液的涂覆厚度为800μm。
作为优选，步骤1)和步骤2)中所述均匀涂覆是通过自动涂膜机和涂膜器实现的。
作为优选，步骤1)和步骤2)中所述烘干的条件均为温度60℃且时间>20min。
作为优选，所述步骤3)中采用的还原方法为紫外光照还原，具体的操作为：使用CEL-WLAXM500紫外光化学反应系统的外照式长弧汞灯对所述自支撑氧化石墨烯膜进行紫外光照射还原，其中，外照式长弧汞灯的输入功率为500W，自支撑氧化石墨烯膜与外照式长弧汞灯灯管的照射距离为20～30cm，照射时间为4～6h。
本发明的第二目的在于提供一种基于上述任一所述制备方法制备得到的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜。
本发明的第三目的在于提供一种基于上述的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜在污染物截留及水处理领域中的应用，所述污染物优选为磺胺甲恶唑。
本发明与现有的技术相比，具有如下优点：
1)本发明所制备的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜采用还原程度可控的还原方法，能大幅度提高该纳滤膜在水中的稳定性和力学性能；
2)本发明所制备的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜主要依靠静电排斥和尺寸排阻截留污染物，运行压力较低，具有成本低廉、能耗较低、分离效果好、速度快等优点；
3)与商品纳纳滤膜相比，本发明所制备的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜，保留了纯无机膜的天然优势，并且对典型磺胺类抗生素中磺胺甲恶唑的去除率达到70％以上。
4)本发明所制备的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备工艺简单，具有易于实现、成本低廉的优点，适用于大规模的工业生产。
5)本发明制得的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜能在水中稳定存在，可有效过滤抗生素等小分子物质，并兼有纯无机膜的天然优势，在水处理领域具有广阔开发前景。
附图说明
图1为本发明实施例1中，自支撑氧化石墨烯膜GOM(图a和b)、紫外还原4h的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV4h(图c和d)、紫外还原5h的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV5h(图e和f)和紫外还原6h的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV6h(图g和h)的扫描电镜图；
图2为实施例1中，GOM、GOM-UV4h、GOM-UV5h和GOM-UV6h的XRD图；
图3为实施例1中，GOM、GOM-UV4h、GOM-UV5h和GOM-UV6h的红外光谱图；
图4为实施例1中，GOM、GOM-UV4h、GOM-UV5h和GOM-UV6h的表面水接触角比较图；
图5为实施例2中，GOM、GOM-UV4h、GOM-UV5h和GOM-UV6h的纯水通量及对磺胺甲恶唑的截留效果图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本发明做进一步阐述和说明。本发明中各个实施方式的技术特征在没有相互冲突的前提下，均可进行相应组合。
本发明的一种自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法，其包括以下步骤：
1)将聚合物溶液均匀涂覆到玻璃板上，通过自动涂膜机和涂膜器保证涂覆厚度为200μm。在温度60℃下烘干20min以上，得到聚合物基底。该聚合物溶液为表面活化能在20～45mN/m范围内的疏水聚合物溶液，具体为聚偏氟乙烯PVDF、聚氟乙烯PVF和聚异丁烯PIB中的一种物质与有机溶剂(如N,N-二甲基乙酰胺)相融合得到的混合物。
该聚合物基底层能在玻璃板和氧化石墨烯层之间起到阻隔作用，干燥后的聚合物不与氧化石墨烯发生互溶现象或化学反应，同时为氧化石墨烯层提供支撑作用，使得干燥后的氧化石墨烯层能单独剥离。
2)将浓度为0.4～0.8g/mL的氧化石墨烯浆液均匀涂覆到通过步骤1)得到的聚合物基底上，通过自动涂膜机和涂膜器保证涂覆厚度为800μm。在温度60℃下烘干20min以上，烘干后将氧化石墨烯层从聚合物基底上用镊子揭下，得到自支撑氧化石墨烯膜。
3)将通过步骤2)得到的自支撑氧化石墨烯膜进行还原，还原后得到自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜。通过还原能提高石墨烯膜的稳定性并能控制其层间距离/孔径，该还原方法可以采用化学还原、热还原、紫外还原等，本发明以紫外还原为例。具体的操作为：使用CEL-WLAXM500紫外光化学反应系统的外照式长弧汞灯对所述自支撑氧化石墨烯膜进行紫外光照射还原，其中，外照式长弧汞灯的输入功率为500W，自支撑氧化石墨烯膜与外照式长弧汞灯灯管的照射距离为20～30cm，照射时间为4～6h。
实施例1
本实施例中，自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法步骤如下：
1)首先，将3.203g聚偏氟乙烯PVDF和16.834g N,N-二甲基乙酰胺混合均匀，在70℃下搅拌过夜，得到均一稳定、浓度为16％聚偏氟乙烯涂覆液。将该聚偏氟乙烯涂覆液均匀涂覆于洁净的玻璃板上，之后使用自动涂膜机(BEVS1811)和涂膜器(BEVS 1806/150)进行刮膜，刮膜时保证玻璃板上聚偏氟乙烯涂覆液的厚度为200μm，随后将涂覆有200μm聚偏氟乙烯涂覆液的玻璃板置于60℃烘箱中烘干20min以上，通过热致相转化法干燥，形成聚偏氟乙烯基底。
2)按照同样方法，在步骤1)得到的聚偏氟乙烯基底上涂覆氧化石墨烯浆液，刮膜时保证聚偏氟乙烯基底上氧化石墨烯浆液的厚度为800μm，在聚偏氟乙烯基底上形成氧化石墨烯层。随后将其置于60℃烘箱中烘干，烘干时间持续20min以上。待氧化石墨烯层干燥后，用镊子仔细将该氧化石墨烯层从聚偏氟乙烯基底上揭下，揭下的部分即为自支撑氧化石墨烯膜。
3)将步骤2)中得到的自支撑氧化石墨烯膜置于紫外光化学反应系统(CEL-WLAXM500，外照式长弧汞灯)中距离灯管20～30cm处，其中，外照式长弧汞灯的输入功率为500W。经过外照式长弧汞灯照射5h后，即得到紫外还原5h的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV5h。
同时，本实施例中还设置了三组实验组对照，分别记为自支撑氧化石墨烯膜GOM、紫外还原4h的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV4h和紫外还原6h的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV6h。
其中，自支撑氧化石墨烯膜GOM的制备方法为上述自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV5h制备方法中的步骤1)和步骤2)。紫外还原4h的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV4h的制备方法与上述自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV5h制备方法相同，但步骤3)中外照式长弧汞灯照射时间为4h。紫外还原6h的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV6h的制备方法与上述自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV5h制备方法相同，但步骤3)中外照式长弧汞灯照射时间为6h。
制备完成后，对上述四种膜进行形貌、性能等的表征，采用S-4800型场发射扫描电子显微镜对四种膜的表面和截面分别进行观察，采用装有Cu Kα辐射的Bruker D8 Advance型XRD仪器测定四种膜的层间距，采用Scientific Nicolet6700型傅里叶变换红外光谱仪测定四种膜表面所含的官能团，采用OSA200-T Optical型接触角分析仪测量四种膜表面的水接触角。通过上述表征手段得到的测试分析结果如图1～4所示，下面进行具体说明：
在图1中，图1a为GOM的表面SEM图，图1b为GOM的截面SEM图，图1c为GOM-UV4h的表面SEM图，图1d为GOM-UV4h的截面SEM图，图1e为GOM-UV5h的表面SEM图，图1f为GOM-UV5h的截面SEM图，图1g为GOM-UV6h的表面SEM图，图1h为GOM-UV6h的截面SEM图。
从图1中可以发现，在表面SEM图中，四种膜都存在着表面褶皱，且随还原时间的增加，表面褶皱逐渐减少甚至消失。而在截面SEM图中，可以清楚看到四种膜均是依靠氧化石墨烯纳米片层层堆叠而组装成膜结构的，并且随着还原时间的增长，膜间间距减小，形成了更加紧密和紧凑的逐层结构。这表明，还原能显著去除膜表面的含氧官能团，从而减缓含氧官能团等大空间插层物造成的表面褶皱突起以及减弱各片层间静电排斥作用，加强层间π-π吸引力，使片层间距离缩小，从而加强了自支撑氧化石墨烯膜的稳定性。同时该结果还表明，通过控制自支撑氧化石墨烯膜的还原程度(即紫外光照时长)是可以有效调控自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜层间距离/孔径的。
图2是GOM、GOM-UV4h、GOM-UV5h和GOM-UV6h四种膜的XRD图。从图2中可以发现，自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的层间距会随着紫外光照还原时间的增加而逐渐减小。
图3是GOM、GOM-UV4h、GOM-UV5h和GOM-UV6h四种膜的红外光谱图。从图3中可以发现，随着紫外光照还原时间的增加，自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的还原程度加深，主要含氧官能团的峰强度降低。这说明紫外还原能有效减少膜中含氧官能团的数量。
图4是GOM、GOM-UV4h、GOM-UV5h和GOM-UV6h四种膜正反表面的水接触角。从图4中可以发现，随着紫外还原时间的增加，接受紫外光照射的膜正表面的水接触角逐渐变大，由亲水逐渐变得疏水，这主要是由于紫外还原去除了膜表面具有亲水性的含氧官能团导致的。
实施例2
采用死端过滤系统对实施例1中制备的四种膜进行应用实验。
在测定纯水通量时，首先将过膜压力设定为25psi进行压膜，10min后将过膜压力调整为20psi(1.38bar)，测定30min内的纯水通量，将最后稳定的数值记为膜的水通量。
对于同一张膜，在测试完水通量后，将系统中的纯水换成磺胺甲恶唑水溶液，于室温20psi的压力进行30min的磺胺甲恶唑水溶液过滤实验，最后稳定的数值记为磺胺甲恶唑过滤通量，其中磺胺甲恶唑的水溶液的浓度为10mg/L。磺胺甲恶唑水溶液浓度由AgilentTechnologies 1200Series型高效液相色谱仪测定，高效液相色谱仪运行条件设定为流动相为25％乙腈和75％0.1％磷酸，流速为1.0mL/min，检测波长设为264nm，进样量为50μL，总运行时间为8min，磺胺甲恶唑的检测限约为0.1μg/L。
实验结果如图5所示，图中的N.A代表无法测量。从图中可以看出，在GOM、GOM-UV4h、GOM-UV5h和GOM-UV6h四种膜中，紫外还原5h的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜GOM-UV5h对磺胺甲恶唑的截留率最高，能达到70％，与一般的商用纳滤膜分离性能相当。除此之外还发现，自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的渗透性能与分离性能相互制约，呈现出渗透性能小的膜具有分离性能较大的规律。
本发明制备得到的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜，解决了氧化石墨烯膜不能在水中稳定存在的问题，通过还原，除去膜中含氧官能团，从而减弱片层之间的静电排斥作用，加强层间π-π吸引力，在提高纳滤膜稳定性和机械强度的同时，较大程度保留其亲水性和层间距，使纳滤膜在保证截留率的前提下具有纯无机膜的天然优势。并且能通过控制还原程度有效的调控纳滤膜的层间距离/孔径，进一步改善纳滤膜的渗透性能和分离性能。
除此之外，本发明优选采用的紫外还原主要是通过增大自支撑氧化石墨烯膜内的反应体系能量来达到还原的效果，是一种较为温和可控的还原方式。能在提高纳滤膜稳定性和机械强度的同时，较大程度保留其亲水性和层间距，使纳滤膜在保证截留率的前提下具有纯无机膜的天然优势。
以上所述的实施例只是本发明的一种较佳的方案，然其并非用以限制本发明。有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型。因此凡采取等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案，均落在本发明的保护范围内。

Claims (10)

1.一种自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)将聚合物溶液均匀涂覆到平板上，烘干后得到聚合物基底，所述聚合物基底与氧化石墨烯之间不发生互溶和反应；
2)将氧化石墨烯浆液均匀涂覆到所述聚合物基底上，烘干后将聚合物基底上的氧化石墨烯层取下，得到自支撑氧化石墨烯膜；
3)将所述自支撑氧化石墨烯膜进行还原，得到自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜。
2.根据权利要求1所述自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤1)中所述平板的材质为玻璃，所述聚合物溶液为表面活化能在20～45mN/m范围内的疏水聚合物溶液。
3.根据权利要求2所述自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法，其特征在于，所述疏水聚合物溶液为聚偏氟乙烯PVDF、聚氟乙烯PVF和聚异丁烯PIB中的一种物质与有机溶剂相融合得到的混合物，所述有机溶剂优选为N,N-二甲基乙酰胺。
4.根据权利要求1所述自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤2)中所述氧化石墨烯浆液的浓度为0.4～0.8g/mL。
5.根据权利要求1所述自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤1)中所述聚合物溶液的涂覆厚度为200μm，步骤2)中所述氧化石墨烯浆液的涂覆厚度为800μm。
6.根据权利要求1所述自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤1)和步骤2)中所述均匀涂覆是通过自动涂膜机和涂膜器实现的。
7.根据权利要求1所述自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤1)和步骤2)中所述烘干的条件均为温度60℃且时间>20min。
8.根据权利要求1所述自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜的制备方法，其特征在于，所述步骤3)中采用的还原方法为紫外光照还原，具体的操作为：使用CEL-WLAXM500紫外光化学反应系统的外照式长弧汞灯对所述自支撑氧化石墨烯膜进行紫外光照射还原，其中，外照式长弧汞灯的输入功率为500W，自支撑氧化石墨烯膜与外照式长弧汞灯灯管的照射距离为20～30cm，照射时间为4～6h。
9.一种基于权利要求1～8任一所述制备方法制备得到的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜。
10.一种基于权利要求9所述的自支撑还原氧化石墨烯纳滤膜在污染物截留及水处理领域中的应用，所述污染物优选为磺胺甲恶唑。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115110203A (zh) * 2022-05-09 2022-09-27 南京工业大学 一种疏水性pvdf-go纳米纤维膜、制备方法及用途

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015094005A1 (en) * 2013-12-17 2015-06-25 Nokia Technologies Oy Method and apparatus for patterning of graphene oxide
CN105236396A (zh) * 2015-09-01 2016-01-13 东华大学 一种氧化石墨烯薄膜的制备方法
US20170036172A1 (en) * 2015-08-05 2017-02-09 Battelle Memorial Institute Enhanced graphene oxide membranes and methods for making same
CN106823830A (zh) * 2017-02-27 2017-06-13 中南大学 一种具有高水相稳定性的自支撑氧化石墨烯薄膜的制备方法
CN107032328A (zh) * 2016-02-02 2017-08-11 中国科学院理化技术研究所 一种自支撑还原氧化石墨烯薄膜的制备方法
CN108816061A (zh) * 2018-07-10 2018-11-16 杭州高烯科技有限公司 一种褶皱石墨烯纳滤膜
CN108946709A (zh) * 2018-07-10 2018-12-07 东南大学 一种高吸水性三维高致密多褶皱氧化石墨烯的制备方法
WO2019139542A1 (en) * 2018-01-15 2019-07-18 National University Of Singapore A graphene-based membrane
CN110127672A (zh) * 2019-06-10 2019-08-16 中国烟草总公司郑州烟草研究院 一种还原氧化石墨烯膜的制备方法
CN110201556A (zh) * 2019-05-21 2019-09-06 西南石油大学 一种轻度还原的氧化石墨烯纳滤膜、制备方法及其应用

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015094005A1 (en) * 2013-12-17 2015-06-25 Nokia Technologies Oy Method and apparatus for patterning of graphene oxide
US20170036172A1 (en) * 2015-08-05 2017-02-09 Battelle Memorial Institute Enhanced graphene oxide membranes and methods for making same
CN105236396A (zh) * 2015-09-01 2016-01-13 东华大学 一种氧化石墨烯薄膜的制备方法
CN107032328A (zh) * 2016-02-02 2017-08-11 中国科学院理化技术研究所 一种自支撑还原氧化石墨烯薄膜的制备方法
CN106823830A (zh) * 2017-02-27 2017-06-13 中南大学 一种具有高水相稳定性的自支撑氧化石墨烯薄膜的制备方法
WO2019139542A1 (en) * 2018-01-15 2019-07-18 National University Of Singapore A graphene-based membrane
CN108816061A (zh) * 2018-07-10 2018-11-16 杭州高烯科技有限公司 一种褶皱石墨烯纳滤膜
CN108946709A (zh) * 2018-07-10 2018-12-07 东南大学 一种高吸水性三维高致密多褶皱氧化石墨烯的制备方法
CN110201556A (zh) * 2019-05-21 2019-09-06 西南石油大学 一种轻度还原的氧化石墨烯纳滤膜、制备方法及其应用
CN110127672A (zh) * 2019-06-10 2019-08-16 中国烟草总公司郑州烟草研究院 一种还原氧化石墨烯膜的制备方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
LIU, QINGYE, ET AL.: "Self-assembly of graphene oxide on the surface of aluminum foil", 《NEW JOURNAL OF CHEMISTRY》 *
安浩然: "氟掺杂石墨烯的制备及其电化学性能研究", 《中国优秀硕士学位论文工程科技Ⅰ辑》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115110203A (zh) * 2022-05-09 2022-09-27 南京工业大学 一种疏水性pvdf-go纳米纤维膜、制备方法及用途
CN115110203B (zh) * 2022-05-09 2023-12-01 南京工业大学 一种疏水性pvdf-go纳米纤维膜、制备方法及用途

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