CN111787732B - 电子设备壳体及其制作方法和电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请提供了电子设备壳体及其制作方法和电子设备。该电子设备壳体划分为至少一个夜光效果区域和至少一个炫彩渐变效果区域，所述电子设备壳体包括：基材层；炫彩渐变层，所述炫彩渐变层在所述基材层上的正投影与所述炫彩渐变效果区域至少部分重叠；和夜光层，所述夜光层在所述基材层上的正投影与所述夜光效果区域至少部分重叠。该电子设备壳体可以同时实现炫彩渐变效果和夜光效果，外观表现力强，商业前景好。

Description

电子设备壳体及其制作方法和电子设备

技术领域

本申请涉及电子产品技术领域，具体地，涉及电子设备壳体及其制作方法和电子设备。

背景技术

目前，电子设备已经成为人们生活中不可分割的一部分，但在相关技术中，从外观上而言，尚未出现能够同时实现夜光效果和炫彩渐变效果的电子设备，外观表现力不够。

因而，现有的电子设备的相关技术仍有待改进。

发明内容

在本申请的一个方面，本申请提供了一种电子设备壳体。该电子设备壳体划分为至少一个夜光效果区域和至少一个炫彩渐变效果区域，所述电子设备壳体包括：基材层；炫彩渐变层，所述炫彩渐变层在所述基材层上的正投影与所述炫彩渐变效果区域至少部分重叠；和夜光层，所述夜光层在所述基材层上的正投影与所述夜光效果区域至少部分重叠。该电子设备壳体可以同时实现炫彩渐变效果和夜光效果，外观表现力强，商业前景好。

在本申请的另一个方面，本申请提供了一种制作前面所述的电子设备壳体的方法。该方法包括：提供基材层；形成炫彩渐变层；形成夜光层，以便得到所述电子设备壳体。该方法操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产，且可以有效制作得到前面所述的电子设备壳体。

在本申请的又一个方面，本申请提供了一种电子设备。该电子设备包括：前面所述的电子设备壳体，所述电子设备壳体中具有容纳空间；和显示屏，所述显示屏设置在所述容纳空间中，且所述显示屏的出光面朝向远离所述电子设备壳体的一侧。该电子设备壳体可以同时实现炫彩渐变效果和夜光效果，外观表现力强，商业前景好，且具有前面所述的电子设备壳体的所有特征和优点，在此不再过多赘述。

附图说明

图1a显示了本申请一个实施例的电子设备壳体的平面结构示意图。

图1b显示了本申请图1a实施例中电子设备壳体的另一个平面结构示意图。

图2a、图2b、图2c、图2d和图2e分别显示了本申请图1a实施例中电子设备壳体的五个沿A-A线的剖面结构示意图。

图3a显示了本申请另一个实施例的电子设备壳体的平面结构示意图。

图3b显示了本申请又一个实施例的电子设备壳体的平面结构示意图。

图4显示了本申请另一个实施例的电子设备壳体的剖面结构示意图。

图5显示了本申请另一个实施例的电子设备壳体的剖面结构示意图。

图6显示了本申请又一个实施例的电子设备壳体的剖面结构示意图。

图7显示了本申请再一个实施例的电子设备壳体的剖面结构示意图。

图8显示了本申请再一个实施例的电子设备壳体的剖面结构示意图。

图9显示了本申请一个实施例的制作电子设备壳体的方法的流程示意图。

图10a、图10b和图10c显示了本申请另一个实施例的制作电子设备壳体的方法的流程示意图。

附图标记：

1、1a、1b：炫彩渐变效果区域 2：夜光效果区域 10：电子设备壳体 100：基材层200：炫彩渐变层 210：第一UV转印纹理层 220：第一镀膜层 230：颜色层 300：夜光层 400：透明无色层 410：第二UV转印纹理层 420：第二镀膜层 430：无色层 500：淋涂加硬层 600：盖底油墨层

具体实施方式

在本申请的一个方面，本申请提供了一种电子设备壳体。结合附图1a和附图1b，可以理解的是，该电子设备壳体10划分为至少一个夜光效果区域2和至少一个炫彩渐变效果区域1，所述电子设备壳体10包括：基材层(于平面结构示意图中未示出)；炫彩渐变层200，所述炫彩渐变层200在所述基材层上的正投影与所述炫彩渐变效果区域1至少部分重叠；和夜光层300，所述夜光层300在所述基材层上的正投影与所述夜光效果区域2至少部分重叠。该电子设备壳体10可以同时实现炫彩渐变效果和夜光效果，外观表现力强，商业前景好。

具体而言，可以理解的是，所述电子设备壳体10的具体结构不受特别限制，只要是能够同时实现上述炫彩渐变效果和夜光效果的电子设备壳体10的结构，均应落在本申请的保护范围内。进一步而言，结合图2a、图2b、图2c、图2d或者图2e，所述电子设备壳体10的具体结构可以满足以下任意一种：

(1)所述炫彩渐变层200设置在所述基材层100的部分表面上，所述夜光层300设置在所述基材层100的部分表面上，且所述炫彩渐变层200与所述夜光层300同层设置(结构示意图参照图2a)。

(2)还包括透明无色层400，所述透明无色层400设置在所述基材层100的部分表面上，所述炫彩渐变层200设置在所述基材层100的部分表面上，且所述透明无色层400与所述炫彩渐变层200同层设置，所述夜光层300设置在所述炫彩渐变层200远离所述基材层100的表面上和所述透明无色层400远离所述基材层100的表面上(结构示意图参照图2b)。

(3)还包括透明无色层400，所述透明无色层400设置在所述基材层100的部分表面上，所述夜光层300设置在所述基材层100的部分表面上，且所述透明无色层400与所述夜光层300同层设置，所述炫彩渐变层200设置在所述夜光层300远离所述基材层100的表面上和所述透明无色层400远离所述基材层100的表面上(结构示意图参照图2c)。

(4)还包括透明无色层400，所述透明无色层400设置在所述基材层100的部分表面上，所述炫彩渐变层200设置在所述基材层100的部分表面上，且所述透明无色层400与所述炫彩渐变层200同层设置，所述夜光层300设置在所述透明无色层400远离所述基材层100的表面上(结构示意图参照图2d)。

(5)还包括透明无色层400，所述透明无色层100设置在所述基材层100的部分表面上，所述夜光层300设置在所述基材层100的部分表面上，且所述透明无色层400与所述夜光层300同层设置，所述炫彩渐变层200设置在所述透明无色层400远离所述基材层100的表面上(结构示意图参照图2e)。

由此，所述电子设备壳体10的结构简单、成本较低，易于生产，可以较好地同时实现上述炫彩渐变效果和夜光效果，外观表现力强，商业前景好。

进一步而言，可以理解的是，结合附图3a或者附图3b，所述电子设备壳体10还可以包括多个所述炫彩渐变效果区域(例如炫彩渐变区域1a和炫彩渐变区域1b，当然，本领域技术人员也可以理解，在本申请的电子设备壳体10中，还可以包括更多个所述炫彩渐变区域或者所述夜光区域，在此不再过多赘述)，其中，至少两个所述炫彩渐变效果区域(例如炫彩渐变区域1a和炫彩渐变区域1b)的炫彩渐变效果不同。由此，该电子设备壳体10可以实现不同的炫彩渐变效果和夜光效果相配合，进而使得其表现力进一步增强，进一步提升产品的市场竞争力。

下面以所述电子设备壳体10的具体结构为上述第(2)种具体结构为例来对其结构进行详细说明：

具体而言，结合附图4，可以理解的是，在本申请的一些具体示例中，所述炫彩渐变层可以进一步包括：第一UV转印纹理层210，所述第一UV转印纹理层210设置在所述基材层100的部分表面上(在本申请的描述中，需说明的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征，后文中不再重复赘述)；第一镀膜层220，所述第一镀膜层220设置在所述第一UV转印纹理层210远离所述基材层100的表面上；和颜色层230，所述颜色层230设置在所述第一镀膜层220远离所述第一UV转印纹理层210的表面上。由此，所述炫彩渐变层可以实现适当的纹理，且结构简单、易于产业化。

进一步地，前面所述的第一UV转印纹理层210的厚度可以为6μm～14μm，在本申请的一些具体示例中，所述第一UV转印纹理层210的厚度可以具体为6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm或14μm等。由此，所述第一UV转印纹理层210的厚度较为合适，不会因为其太薄而导致所欲实现的纹理效果较差；也不会因为其太厚而影响导致脆性高、附着力低，从而在所述电子设备壳体10的使用过程中一旦发生跌落的情况，其发生开裂的风险较低。

更进一步地，前面所述的第一镀膜层220的厚度可以为30nm～120nm，在本申请的一些具体示例中，所述第一镀膜层220的厚度可以具体为30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、100nm、110nm或120nm等。由此，该第一镀膜层220可以在实现较佳的增量效果的基础上，成本较低，易于实现产业化。

又进一步地，形成前面所述的第一镀膜层220的材料可以包括ZrO₂、Nb₂O₅、Ti₃O₅中的至少一种，上述材料均为高折射率的材料，可以在确保第一镀膜层220具有一定的附着力的前提下达到较好的增量效果，以使得炫彩渐变层的炫彩效果较佳，且材料来源广泛、易得，成本较低。

另外，可以理解的是，前面所述的颜色层230的厚度可以是3μm～15μm，在本申请的一些具体示例中，所述颜色层230的厚度可以具体是3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm或者15μm等。由此，可以使得炫彩渐变层具有较为厚实的颜色效果，同时，其厚度较厚，当夜光层设置在所述炫彩渐变层远离所述基材层的表面上时，可以确保夜光层的夜光效果无法透出，具体而言，针对波长范围在500nm～550nm范围内的光，所述夜光层的透光率小于3％，进而可实现较好的炫彩渐变效果。

在本申请的另一些示例中，结合附图5，可以理解的是，所述透明无色层可以进一步包括：第二UV转印纹理层410，所述第二UV转印纹理层410设置在所述基材层100的部分表面上；第二镀膜层420，所述第二镀膜层420设置在所述第二UV转印纹理层410远离所述基材层100的表面上；和无色层430，所述无色层430设置在所述第二镀膜层420远离所述第二UV转印纹理层410的表面上。由此，由于设置了透明无色层，可以使得位于所述透明无色层远离所述基材层100一侧的表面上的夜光层300的夜光效果透射出来，从而在电子设备壳体10的外表面上同时实现炫彩渐变效果和夜光效果，使得其表现力强，商业前景好，且结构简单，成本较低，易于实现，易于产业化。

进一步地，可以理解的是，所述第二UV转印纹理层410的厚度、所述第二镀膜层420的厚度以及形成所述第二镀膜层420的材料，均可以与前面所述的第一UV转印纹理层210的厚度、所述第一镀膜层220的厚度以及形成所述第一镀膜层220的材料相同，在此不再重复赘述。

另外，可以理解的是，前面所述的无色层430的厚度可以是3μm～15μm，在本申请的一些具体示例中，所述无色层430的厚度可以具体是3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm或者15μm等。由此，可以使得夜光层可以实现较佳的夜光效果，同时，其厚度合适，当夜光层设置在所述透明无色层远离所述基材层的表面上时，可以确保夜光层的夜光效果完全透出，具体而言，针对波长范围在500nm～550nm范围内的光，所述夜光层的透光率为20％～70％，其既不会因为透过率太低而导致夜光层的发光亮度无法达到该夜光层的最大发光亮度，也不会因为透过率太高而出现颗粒点等不良的视觉效果，导致良率降低，进而可进一步实现较好的夜光效果。

进一步地，结合附图6，可以理解的是，前面所述的炫彩渐变层和前面所述的透明无色层还可以是一体成型的。由于前面所述的炫彩渐变层可以具体包括第一UV转印纹理层210、第一镀膜层220和颜色层230，而前面所述的透明无色层可以具体包括第二UV转印纹理层410、第二镀膜层420和无色层430，因此，前面所述的第一UV转印纹理层210和第二UV转印纹理层410是可以直接一体成型的，前面所述的第一镀膜层220和第二镀膜层420也是可以一体成型的，至于前面所述的颜色层230和无色层430，可以在第一镀膜层220和第二镀膜层420的表面上需要形成颜色层230的位置喷涂具有颜色的漆，而在需要形成无色层430的位置喷涂无色漆得到的。由此，前面所述的炫彩渐变层和前面所述的透明无色层一体成型，结构简单、易于生产。

另外，可以理解的是，本申请所述的夜光层300可以具体为含有夜光粉的薄膜。在本申请的一些示例中，所述夜光层300可以具体为含有稀土荧光粉的有机薄膜，形成所述有机薄膜的材料包括聚氨酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯和聚氯乙烯中的至少一种。由此，材料来源广泛、易得，成本较低，且可以实现较佳的夜光效果。

具体的，所述稀土荧光粉具有长效荧光的发光效果，所述有机薄膜中还可以包括例如分散剂、消泡剂、成膜剂、流平剂或者增稠剂等助剂，其中，基于所述夜光层的总质量，所述夜光粉的质量百分含量可以为10％～40％，在本申请的一些示例中，所述夜光粉的质量百分含量可以是10％、20％、30％、40％等。由此，该有机薄膜在存在光(例如可以是自然光、室内灯光等含有波长为300nm～400nm的光)的环境下均可以吸收光进行储能，在当所述光照射其较短的时间内，该有机薄膜在黑暗环境中即可以发出长效荧光，且可以达到其所能够实现的最大初始亮度。

进一步地，所述夜光层300的厚度可以为0.05mm～0.125mm，在本申请的一些示例中，所述夜光层300的厚度可以是0.05mm、0.075mm、0.1mm或者0.125mm等。由此，该夜光层300的厚度既不会太薄而产生贴合褶皱，导致其发光亮度低或者余晖时间较短；也不会太厚而导致电子设备壳体10的厚度增加，导致无法满足当今电子设备轻薄化的发展趋势。

在本申请的一个具体示例中，当所述夜光层300的厚度为0.1mm时，其初始亮度可以为6868mcd/m²；在经过2min后，其亮度是918.4mcd/m²；在经过10min后，其亮度是177.4mcd/m²；在经过30min后，其亮度是51.2mcd/m²；在经过60min后，其亮度是22.36mcd/m²；在其亮度降低至0.32mcd/m²时，需要经过2410min(也即其余晖时间不低于40h)。然而，在相关技术中，于厚度为0.02mm的丝印光油中印刷夜光粉制作而成的夜光层，由于其无法实现较高的印刷膜厚，故其初始亮度仅为522.7mcd/m²；在经过2min后，其亮度可以是62.54mcd/m²；在经过10min后，其亮度是11.8mcd/m²；在经过30min后，其亮度是3.12mcd/m²；在经过60min后，其亮度是1.14mcd/m²；在其亮度降低至0.32mcd/m²时，只需要经过110min(也即其余晖时间小于2h)。如果欲使得丝印光油中印刷夜光粉制作而成的夜光层达到相同的初始亮度和余辉时间则需要印刷5层～6层，会导致整体膜层的厚度非常高，从而导致油墨的内聚力高，进而会导致产生膜层的开裂。

更进一步地，结合附图7，可以理解的是，所述电子设备壳体10还可以包括：淋涂加硬层500，所述淋涂加硬层500设置在所述基材层100远离所述炫彩渐变层和所述夜光层的表面上。由此，通过设置所述淋涂加硬层500可以有效保护夜光层300，增加所述电子设备壳体10的耐磨性和环境可靠性，使得其满足耐磨、耐划伤的使用要求。

另外，可以理解的是，前面所述的淋涂加硬层500的厚度可以是6μm～9μm，在本申请的一些具体示例中，所述淋涂加硬层500的厚度可以具体为6μm、7μm、8μm或者9μm等。由此，可以使得所述电子设备壳体的硬度进一步提高，且满足当今社会电子设备轻薄化的发展趋势。

更进一步地，结合附图8，可以理解的是，所述电子设备壳体10还可以包括：盖底油墨层600，所述盖底油墨层600设置在所述夜光层和所述炫彩渐变层中的至少之一远离所述基材层100的表面上。具体而言，所述盖底油墨层可以包括三层白色油墨和一层灰色油墨，其中，单层膜厚可以是5μm～8μm，具体可以是5μm、6μm、7μm或者8μm等，所述盖底油墨层600的总厚度可以是20μm～32μm，具体可以是20μm、24μm、28μm或者32μm等，进而可以起到较好的遮光作用，且附着力好，脆性好。

可以理解的是，通过前面所述的电子设备壳体10中层结构的具体设置方式，可以使得所述电子设备壳体10的厚度不大于0.7mm。具体地，在本申请的一些具体示例中，所述电子设备壳体10的厚度可以为0.7mm、0.6mm等。由此，该电子设备壳体10可以在同时实现炫彩渐变效果与夜光效果的前提下，满足轻薄化的外观需求。

可以理解的是，所述基材层可以具体是包括复合板材为PC层(聚碳酸酯层)和PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯层)的复合板材，该复合板材通过挤出处理形成，其中，根据前面所述，所述PC层远离所述PMMA层的表面可以是用于形成炫彩渐变层和夜光层的表面，所述PMMA层远离所述PC层的表面可以是用于形成所述淋涂加硬层的表面。另外，所述基材层的厚度可以具体是0.5mm、0.64mm，其中，PC层的厚度可以是0.45mm～0.6mm，具体可以是0.45mm、0.5mm、0.55mm或者0.6mm等；PMMA层的厚度可以是40μm～55μm，具体可以是40μm、45μm或者50μm等。由此，满足电子设备轻薄化的发展需求，且耐磨性较佳，在高压成型时和使用过程中跌落不易发生开裂。

在本申请的另一个方面，本申请提供了一种制作前面所述的电子设备壳体的方法。结合附图9和附图10a、附图10b、附图10c，可以理解的是，该方法可以包括以下步骤：

S100：提供基材层100(结构示意图参照附图10a)。

可以理解的是，所述基材层100可以是通过挤出处理形成的，所述挤出处理的具体工艺条件、步骤和参数，均可以与常规技术中的挤出处理的具体工艺条件、步骤和参数相同，在此不再过多赘述。由此，操作简单、方便，容易实现，且易于工业化生产。

S200：形成炫彩渐变层200(结构示意图参照附图10b)。

根据前面所述，所述炫彩渐变层200可以具体包括第一UV转印纹理层；第一镀膜层；和颜色层，其中，所述第一UV转印纹理层可以是通过UV转印处理形成的，所述第一镀膜层可以是通过真空镀膜形成的，所述颜色层可以是通过喷涂有颜色的漆形成的。由此，操作简单、方便，容易实现，且易于工业化生产。

S300：形成夜光层300，以便得到所述电子设备壳体10(结构示意图参照附图10c)。

可以理解的是，所述夜光层300可以是通过贴合得到的，所述贴合的具体工艺条件、步骤和参数，均可以与常规技术中的贴合的具体工艺条件、步骤和参数相同，在此不再过多赘述。由此，操作简单、方便，容易实现，且易于工业化生产。

另外，可以理解的是，由于本申请所述的电子设备壳体10的具体结构不受特别限制，只要是能够同时实现上述炫彩渐变效果和夜光效果的电子设备壳体10的结构，均应落在本申请的保护范围内。进一步而言，结合图2a、图2b、图2c、图2d或者图2e，所述电子设备壳体10的具体结构可以为前面所述的任意一种，与之相应的，所述方法即可以包括以下步骤的任意一种：

(1)在所述基材层的部分表面上形成所述炫彩渐变层；在所述基材层的部分表面上形成所述夜光层。

(2)在所述基材层的表面上形成透明无色层和所述炫彩渐变层；在所述透明无色层远离所述基材层的表面上和所述炫彩渐变层远离所述基材层的表面上形成所述夜光层。

(3)在所述基材层的表面上形成透明无色层和所述夜光层；在所述透明无色层远离所述基材层的表面上和所述夜光层远离所述基材层的表面上形成所述炫彩渐变层。

(4)在所述基材层的表面上形成透明无色层和所述炫彩渐变层；在所述透明无色层远离所述基材层的表面上形成所述夜光层。

(5)在所述基材层的表面上形成透明无色层和所述夜光层；在所述透明无色层远离所述基材层的表面上形成所述炫彩渐变层。

以上制作各个层结构的具体工艺条件、步骤和参数，均可以与常规技术中的相关具体工艺条件、步骤和参数相同，在此不再过多赘述。由此，操作简单、方便，容易实现，且易于工业化生产。

在本申请一个具体的示例中，所述电子设备壳体是通过如下制作工艺形成的：在纹理母版上涂覆UV胶，然后将挤出处理得到的基材层贴合在该母版的表面上，挤压贴合后使用紫外灯进行固化，或者使用LED灯进行固化，在必要时还可以加汞灯进行二次固化，最后将纹理母版与基材层分离，UV胶留在基材层上，从而得到第一UV转印纹理层和第二UV转印纹理层；通过磁控溅射或者蒸发镀的方法，得到第一镀膜层和第二镀膜层；在第一镀膜层和第二镀膜层的表面上进行渐变色喷涂和无色喷涂，得到颜色层和无色层，线体80℃烘烤15min，随后烤箱80℃烘烤90min，另外，颜色层也可以进一步通过打印、胶印的工艺形成，最后得到炫彩渐变层和透明无色层。然后，将得到的炫彩渐变层和透明无色层放置到覆膜机上，涂覆UV贴合胶，贴合含有稀土荧光粉的有机薄膜，通过硬度为80A的胶辊进行压合处理，LED灯一次固化的能量为1700mj/cm²，汞灯二次固化的能量为1000mj/cm²(从而确保固化完全)，确保其剥离力大于或者等于35N(测试方法：装饰片头部预分开(测试宽度约25mm)，拉力机试验机分别夹持分开的2层，以50±10mm/min进行拉力测试，记录机器运行中从20％到80％区间中五组力量数据取平均值)。然后，通过印刷工艺形成盖底油墨层，得到第一预制品；将所述第一预制品放置于高压成型设备中，成型其所需要的弧度，高压设备IR加热温度为380℃，时间为36s±15s，气压为65kg±10kg，下模温度(基材层表面)为130℃～140℃，上模温度为110℃～120℃，预成型时间为10s～20s，吹起时间为5s～10s，保压时间为10s～20s，得到第二预制品。最后，将经过所述高压成型后得到的第二预制品的表面淋涂硬化液，得到淋涂加硬层，经过CNC加工成所需尺寸，得到所述电子设备壳体。该方法操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产，且可以有效制作得到前面所述的电子设备壳体。

在本申请的又一个方面，本申请提供了一种电子设备。该电子设备包括：前面所述的电子设备壳体，所述电子设备壳体中具有容纳空间；和显示屏，所述显示屏设置在所述容纳空间中，且所述显示屏的出光面朝向远离所述电子设备壳体的一侧。该电子设备壳体可以同时实现炫彩渐变效果和夜光效果，外观表现力强，商业前景好，且具有前面所述的电子设备壳体的所有特征和优点，在此不再过多赘述。

可以理解的是，除前面所述的结构以外，该电子设备还可以包括其他常规电子设备的结构和部件，在此不再过多赘述。

可以理解的是，该电子设备可以包括但不限于手机、平板电脑、游戏机、智能手表等，在此不再过多赘述。由此，应用范围广泛。

在本说明书中，尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (15)

1.一种电子设备壳体，其特征在于，所述电子设备壳体划分为至少一个夜光效果区域和至少一个炫彩渐变效果区域，所述电子设备壳体包括：

基材层；

炫彩渐变层，所述炫彩渐变层在所述基材层上的正投影与所述炫彩渐变效果区域至少部分重叠；和

夜光层，所述夜光层在所述基材层上的正投影与所述夜光效果区域至少部分重叠；

其中，所述夜光层为含有稀土荧光粉的有机薄膜，形成所述有机薄膜的材料包括聚氨酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯和聚氯乙烯中的至少一种；

基于所述夜光层的总质量，所述稀土荧光粉的质量百分含量为10％～40％。

2.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，满足以下任意一种：

(1)所述炫彩渐变层设置在所述基材层的部分表面上，所述夜光层设置在所述基材层的部分表面上，且所述炫彩渐变层与所述夜光层同层设置；

(2)还包括透明无色层，所述透明无色层设置在所述基材层的部分表面上，所述炫彩渐变层设置在所述基材层的部分表面上，且所述透明无色层与所述炫彩渐变层同层设置，所述夜光层设置在所述炫彩渐变层远离所述基材层的表面上和所述透明无色层远离所述基材层的表面上；

(3)还包括透明无色层，所述透明无色层设置在所述基材层的部分表面上，所述夜光层设置在所述基材层的部分表面上，且所述透明无色层与所述夜光层同层设置，所述炫彩渐变层设置在所述夜光层远离所述基材层的表面上和所述透明无色层远离所述基材层的表面上；

(4)还包括透明无色层，所述透明无色层设置在所述基材层的部分表面上，所述炫彩渐变层设置在所述基材层的部分表面上，且所述透明无色层与所述炫彩渐变层同层设置，所述夜光层设置在所述透明无色层远离所述基材层的表面上；

(5)还包括透明无色层，所述透明无色层设置在所述基材层的部分表面上，所述夜光层设置在所述基材层的部分表面上，且所述透明无色层与所述夜光层同层设置，所述炫彩渐变层设置在所述透明无色层远离所述基材层的表面上。

3.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述电子设备壳体包括多个所述炫彩渐变效果区域，至少两个所述炫彩渐变效果区域的炫彩渐变效果不同。

4.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，还包括透明无色层，所述透明无色层设置在所述基材层的部分表面上，所述炫彩渐变层和所述透明无色层一体成型。

5.根据权利要求4所述的电子设备壳体，其特征在于，所述炫彩渐变层包括：

第一UV转印纹理层，所述第一UV转印纹理层设置在所述基材层的部分表面上；

第一镀膜层，所述第一镀膜层设置在所述第一UV转印纹理层远离所述基材层的表面上；和

颜色层，所述颜色层设置在所述第一镀膜层远离所述第一UV转印纹理层的表面上。

6.根据权利要求5所述的电子设备壳体，其特征在于，所述炫彩渐变层满足以下条件的至少之一：

所述第一UV转印纹理层的厚度为6μm～14μm；

所述第一镀膜层的厚度为30nm～120nm；

形成所述第一镀膜层的材料包括ZrO₂、Nb₂O₅、Ti₃O₅中的至少一种；

所述颜色层的厚度为3μm～15μm；

所述炫彩渐变层的透光率小于3％。

7.根据权利要求4所述的电子设备壳体，其特征在于，所述透明无色层包括：

第二UV转印纹理层，所述第二UV转印纹理层设置在所述基材层的部分表面上；

第二镀膜层，所述第二镀膜层设置在所述第二UV转印纹理层远离所述基材层的表面上；和

无色层，所述无色层设置在所述第二镀膜层远离所述第二UV转印纹理层的表面上。

8.根据权利要求7所述的电子设备壳体，其特征在于，所述透明无色层满足以下条件的至少之一：

所述第二UV转印纹理层的厚度为6μm～14μm；

所述第二镀膜层的厚度为30nm～120nm；

形成所述第二镀膜层的材料包括ZrO₂、Nb₂O₅、Ti₃O₅中的至少一种；

所述无色层的厚度为3μm～15μm；

所述透明无色层的透光率为20％～70％。

9.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述夜光层满足以下条件的至少之一：

厚度为0.05mm～0.125mm；

初始亮度不低于6868mcd/m²；

余晖时间不低于40h。

10.根据权利要求2所述的电子设备壳体，其特征在于，还包括：

淋涂加硬层，所述淋涂加硬层设置在所述基材层远离所述炫彩渐变层和所述夜光层的表面上。

11.根据权利要求2所述的电子设备壳体，其特征在于，还包括：

盖底油墨层，所述盖底油墨层设置在所述夜光层和所述炫彩渐变层中的至少之一远离所述基材层的表面上。

12.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述电子设备壳体的厚度不大于0.7mm。

13.一种制作权利要求1～12中任一项所述的电子设备壳体的方法，其特征在于，包括：

提供基材层；

形成炫彩渐变层；

形成夜光层，以便得到所述电子设备壳体。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，包括以下步骤的任意一种：

(1)在所述基材层的部分表面上形成所述炫彩渐变层；在所述基材层的部分表面上形成所述夜光层；

(2)在所述基材层的表面上形成透明无色层和所述炫彩渐变层；在所述透明无色层远离所述基材层的表面上和所述炫彩渐变层远离所述基材层的表面上形成所述夜光层；

(3)在所述基材层的表面上形成透明无色层和所述夜光层；在所述透明无色层远离所述基材层的表面上和所述夜光层远离所述基材层的表面上形成所述炫彩渐变层；

(4)在所述基材层的表面上形成透明无色层和所述炫彩渐变层；在所述透明无色层远离所述基材层的表面上形成所述夜光层；

(5)在所述基材层的表面上形成透明无色层和所述夜光层；在所述透明无色层远离所述基材层的表面上形成所述炫彩渐变层。

15.一种电子设备，其特征在于，包括：

权利要求1～12中任一项所述的电子设备壳体，所述电子设备壳体中具有容纳空间；和

显示屏，所述显示屏设置在所述容纳空间中，且所述显示屏的出光面朝向远离所述电子设备壳体的一侧。

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