CN111769151B - 一种显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域；该显示基板包括：像素界定层，所述像素界定层包括用于限定蓝色发光功能层的多个第一开口；支撑层，所述支撑层位于所述第一开口之内，且所述蓝色发光功能层覆盖所述支撑层；阳极，所述阳极位于所述支撑层和所述蓝色发光功能层之间；其中，所述第一开口沿垂直于所述像素界定层的方向的开口深度大于或者等于所述支撑层、所述蓝色发光功能层和所述阳极分别沿垂直于所述像素界定层的方向的厚度之和。本发明适用于显示基板的制作。

Description

一种显示基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

随着OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示技术突飞猛进地发展，在满足用户个性化需求的同时，这类显示装置也暴露出一些问题。其中，在大视角下白色画面的色彩偏黄问题，严重影响用户体验，是制约OLED显示技术进一步发展的主要原因之一。

白色画面在大视角下的色彩偏黄问题与红色、绿色、蓝色三种子像素的亮度衰减(L-Decay)程度不同密切相关。如图1所示，红色、绿色、蓝色子像素在不同视角下的亮度衰减曲线并不重合，蓝色子像素的光亮度随视角增大衰减最严重，红色子像素和绿色子像素的光亮度衰减较小，大视角下这种情况尤为严重。这就导致在大视角下由红色、绿色、蓝色光混合而成的白色画面整体颜色偏黄。

发明内容

本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，该显示基板能够大幅减小蓝光的亮度衰减，使得蓝光的亮度衰减程度与红光和绿光的亮度衰减程度更接近，从而改善白色画面在大视角下的色彩偏黄问题，并提高显示效果。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种显示基板，包括：

像素界定层，包括用于限定蓝色发光功能层的多个第一开口。

支撑层，位于所述第一开口之内，且所述蓝色发光功能层覆盖所述支撑层。

阳极，位于所述支撑层和所述蓝色发光功能层之间。

其中，所述第一开口沿垂直于所述像素界定层的方向的开口深度大于或者等于所述支撑层、所述蓝色发光功能层和所述阳极分别沿垂直于所述像素界定层的方向的厚度之和。

可选的，所述像素界定层的厚度范围为1.48-1.54um，所述支撑层的厚度范围为1.19-1.23um。

可选的，所述像素界定层还包括用于限定红色发光功能层的多个第二开口和用于限定绿色发光功能层的多个第三开口；所述红色发光功能层位于所述第二开口内，所述绿色发光功能层位于所述第三开口内。

所述红色发光功能层与所述像素界定层的断差大于所述蓝色发光功能层与所述像素界定层的断差。

所述绿色发光功能层与所述像素界定层的断差大于所述蓝色发光功能层与所述像素界定层的断差。

可选的，所述蓝色发光功能层能包括蓝色发光层，所述红色发光功能层包括红色发光层，所述绿色发光功能层包括绿色发光层。

所述红色发光层与所述像素界定层的断差大于所述蓝色发光层与所述像素界定层的断差。

所述绿色发光层与所述像素界定层的断差大于所述蓝色发光层与所述像素界定层的断差。

可选的，所述显示基板还包括：

衬底以及位于所述衬底和所述像素界定层之间的平坦层。

可选的，所述显示基板还包括位于所述衬底和所述平坦层之间的驱动晶体管和走线单元。

又一方面，提供一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

再一方面，提供一种如上所述的显示基板的制作方法，所述方法包括：

形成支撑层。

形成覆盖所述支撑层的阳极。

形成像素界定层；所述像素界定层包括用于限定蓝色发光功能层的多个第一开口，所述支撑层位于所述第一开口内。

在所述第一开口内形成蓝色发光功能层；所述蓝色发光功能层覆盖所述支撑层；所述阳极位于所述支撑层和所述蓝色发光功能层之间。

其中，所述第一开口沿垂直于所述像素界定层的方向的开口深度大于或者等于所述支撑层、所述蓝色发光功能层和所述阳极分别沿垂直于所述像素界定层的方向的厚度之和。

可选的，所述显示基板还包括衬底以及位于所述衬底和所述像素界定层之间的平坦层；在所述形成支撑层之前，所述方法还包括：

形成平坦层。

所述形成支撑层包括：

在所述平坦层上涂布第一有机薄膜。

对所述第一有机薄膜进行图案化处理，形成所述支撑层。

可选的，所述显示基板还包括衬底以及位于所述衬底和所述像素界定层之间的平坦层；位于所述衬底和所述平坦层之间的驱动晶体管和走线单元；所述方法还包括：

形成平坦层。

所述形成支撑层和所述形成平坦层包括：

在所述驱动晶体管和走线单元上涂布第二有机薄膜。

采用半色调掩模板对所述第二有机薄膜进行图案化，同时形成所述平坦层和所述支撑层。

可选的，所述显示基板还包括位于所述衬底和所述平坦层之间的驱动晶体管和走线单元；在所述形成平坦层之前，所述方法还包括：

在所述衬底上形成驱动晶体管和走线单元；所述平坦层覆盖所述驱动晶体管和所述走线单元。

本发明的实施例提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，其中，该显示基板包括：像素界定层，所述像素界定层包括用于限定蓝色发光功能层的多个第一开口；支撑层，所述支撑层位于所述第一开口之内，且所述蓝色发光功能层覆盖所述支撑层；阳极，所述阳极位于所述支撑层和所述蓝色发光功能层之间；其中，所述第一开口沿垂直于所述像素界定层的方向的开口深度大于或者等于所述支撑层、所述蓝色发光功能层和所述阳极分别沿垂直于所述像素界定层的方向的厚度之和。

该显示基板通过在像素界定层的第一开口之内设置支撑层，并通过支撑层垫高位于支撑层和蓝色发光功能层之间的阳极，进而垫高蓝色发光功能层。蓝色发光功能层具有三种出光模式：沿像素界定层的横向出光(损耗光)、沿蓝色发光功能层与像素界定层的界面出光和正面出光。由于支撑层垫高蓝色发光功能层，使得蓝色发光功能层的正面出光比率增大、横向出光比率降低，即损耗光比率降低；此时，蓝色发光功能层发出的蓝光的亮度衰减程度与红光和绿光的亮度衰减程度更接近；进而可以改善因蓝光亮度衰减大于红光和绿光的亮度衰减，导致的大视角下白色画面整体颜色偏黄问题(红光和绿光混色之后的色光为黄色光)。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中一种显示基板的三种不同色光在不同视角下的亮度衰减曲线图；

图2为现有技术中一种显示基板的发光功能层的出光模式示意图；

图3为本发明实施例提供的第一种显示基板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的第二种显示基板的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的如图3中的显示基板与现有技术中的显示基板的三种不同色光在不同视角下的亮度衰减曲线对比图；

图6为本发明实施例提供的第三种显示基板的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的第四种显示基板的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的第五种显示基板的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的实施例中，采用“第一”、“第二”、“第三”等字样对功能和作用基本相同的相同项或相似项进行区分，仅为了清楚描述本发明实施例的技术方案，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。

在本发明的实施例中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

实施例一

近年来，OLED显示技术由于具有主动发光、发光亮度高、分辨率高、宽视角、响应速度快、低能耗以及可柔性化等特点而受到更多的关注。在OLED显示技术中，不同视角下的白色画面的色彩偏黄问题是制约OLED显示技术进一步发展的主要原因之一，严重影响用户体验。下面从原理上对白色画面的色彩偏黄问题进行解释：

参考图2所示，OLED发光功能层100的出光模式，可分为三种：如图2中①方向所示的沿像素界定层1的横向出光，如图2中②方向所示的沿发光功能层100与像素界定层1的界面出光以及如图2中③方向所示的正面出光。图2中虚线箭头所指即光线射出的方向。其中，沿像素界定层的横向出光为损耗光，无法从显示屏射出并用于显示。正由于光存在这三种不同的出光模式，且光线在出射时存在不同程度的损耗；使得光线随着视角的变化存在亮度衰减。

参考图1所示，当视角(View Angle)为0°时，即正视角时，红、绿、蓝光的亮度相同；当视角增大时(即图1中视角度数的绝对值增大)，蓝光的亮度衰减程度明显大于红光和绿光的亮度衰减程度。那么，在侧视的情况下显示白色画面时，由于蓝光衰减程度较大，导致在大视角下由红色、绿色、蓝色光混合而成的白色画面整体颜色偏黄。

为解决上述问题，参考图3所示，本发明实施例提供了一种显示基板，包括：

像素界定层(PDL层)1，包括用于限定蓝色发光功能层7的多个第一开口(图3中未标记)。

支撑层2，位于第一开口之内，且蓝色发光功能层7覆盖支撑层2。

阳极(Anode)3，位于支撑层2和蓝色发光功能层7之间。

其中，第一开口沿垂直于像素界定层1的方向的开口深度大于或者等于支撑层2、蓝色发光功能层7和阳极3分别沿垂直于像素界定层1的方向的厚度之和。

上述像素界定层(Pixel Definition Layer，PDL层)还包括除第一开口以外的其它开口，以利于设置其它颜色发光功能层，例如：红色发光功能层、绿色发光功能层。

上述蓝色发光功能层可以包括多个膜层，示例的，其可以包括：空穴注入层(HIL层)、空穴传输层(HTL层)、有机过渡缓冲层(Prime层)、蓝色发光层(蓝色EML层)、空穴阻挡层(HBL层)、电子注入层(EIL层)。其中，电子注入层可采用金属镱(Yb)制作。

这里对上述蓝色发光功能层的膜厚不做限定，示例的，其膜厚的范围可以是150nm-200nm。

上述支撑层的材料可以是除金属以外的有机材料或者无机材料。示例的，上述支撑层可以采用有机材料光刻胶制作，具体的，光刻胶可以选用聚酰亚胺光刻胶(PI胶)。

当上述像素界定层的厚度范围可以为1.48-1.54um，支撑层的厚度范围可以为0.1-1.23um；为了降低生产工艺难度以及更好的显示效果，支撑层的厚度范围可设置为1.19-1.23um。

上述阳极若采用不透明材料形成，则该显示基板可用于顶发射型的OLED显示面板中，顶发射型的OLED显示面板即光线从阴极侧射出的显示面板。上述阳极若采用透明材料形成，则该显示基板可用于双面显示的OLED显示面板中，双面显示的OLED显示面板即光线从阴极和阳极两侧同时射出的显示面板。

本发明的实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括：像素界定层，像素界定层包括用于限定蓝色发光功能层的多个第一开口；支撑层，支撑层位于第一开口之内，且蓝色发光功能层覆盖支撑层；阳极，阳极位于支撑层和蓝色发光功能层之间；其中，第一开口沿垂直于像素界定层的方向的开口深度大于或者等于支撑层、蓝色发光功能层和阳极分别沿垂直于像素界定层的方向的厚度之和。

该显示基板通过在像素界定层的第一开口之内设置支撑层，并通过支撑层垫高位于支撑层和蓝色发光功能层之间的阳极，进而垫高蓝色发光功能层。蓝色发光功能层具有三种出光模式：沿像素界定层的横向出光(损耗光)、沿蓝色发光功能层与像素界定层的界面出光和正面出光。由于支撑层垫高蓝色发光功能层，使得蓝色发光功能层的正面出光比率增大、横向出光比率降低，即损耗光比率降低；此时，蓝色发光功能层发出的蓝光的亮度衰减程度与红光和绿光的亮度衰减程度更接近；进而可以改善因蓝光亮度衰减大于红光和绿光的亮度衰减，导致的大视角下白色画面整体颜色偏黄问题(红光和绿光混色之后的色光为黄色光)。

参考图5所示，随着视角逐渐的增大(即图5中视角度数的绝对值增大时)，如图5中B图所示的蓝色发光功能层发出的蓝光的亮度衰减程度相较于图5中A图所示的衰减程度明显降低；其中，图5中A图是现有技术中的常规结构在不同视角下的亮度衰减曲线，图5中B图是本申请中的结构在不同视角下的亮度衰减曲线。显然，本申请的结构可以显著改善蓝光在不同视角下的亮度衰减问题，进而改善白色画面整体颜色偏黄问题，从而提高显示效果。其中，图5中A图和B图的横坐标均为视角(View Angle)，纵坐标均为亮度衰减(L-Decay)。

可选的，像素界定层的厚度范围为1.48-1.54um，支撑层的厚度范围为1.19-1.23um。

上述像素界定层的厚度范围为1.48-1.54um，支撑层的厚度范围为1.19-1.23um。上述支撑层的厚度可以根据像素界定层、蓝色发光功能层和阳极的厚度综合确定。

可选的，参考图4所示，像素界定层1还包括用于限定红色发光功能层5的多个第二开口和用于限定绿色发光功能层6的多个第三开口；红色发光功能层5位于第二开口内，绿色发光功能层6位于第三开口内；红色发光功能层5与像素界定层1的断差OA大于蓝色发光功能层7与像素界定层1的断差OC；绿色发光功能层6与像素界定层1的断差OB大于蓝色发光功能层7与像素界定层1的断差OC。

上述红色发光功能层包括红色发光层，上述绿色发光功能层包括绿色发光层。上述红色发光功能层或者绿色发光功能层均可以包括多个其它膜层，例如包括：空穴注入层(HIL层)、空穴传输层(HTL层)、有机过渡缓冲层(Prime层)、空穴阻挡层(HBL层)、电子注入层(EIL层)。其中，电子注入层可采用金属镱制作(Yb)。

这里对上述红色发光功能层与像素界定层的断差OA、绿色发光功能层与像素界定层的断差OB和蓝色发光功能层与像素界定层的断差OC的具体数值不做限定。示例的，断差OA和断差OB的数值均可以为1500nm。

这里对上述不同颜色发光功能层包括的各个膜层厚度不做限定，具体各膜层的厚度可根据实际情况进行设置。

在现有技术中，断差OC大于断差OA和OB，而本申请中，通过设置支撑层，断差OA大于断差OC且断差OB也大于断差OC，可以提高蓝色发光功能层的正面出光比率，进而降低横向出光比率，减少损耗光，此时，蓝色发光功能层发出的蓝光的亮度衰减程度降低，使得蓝光的亮度衰减程度与红光和绿光的亮度衰减程度更接近，从而可以进一步改善由红光、绿光、蓝光混合而成的白色画面在大视角下整体颜色偏黄的问题。

可选的，蓝色发光功能层能包括蓝色发光层，红色发光功能层包括红色发光层，绿色发光功能层包括绿色发光层；红色发光层与像素界定层的断差大于蓝色发光层与像素界定层的断差；绿色发光层与像素界定层的断差大于蓝色发光层与像素界定层的断差。

这里对上述不同颜色发光层的膜层厚度不做限定，具体各膜层的厚度可根据实际情况进行设置。

相较于红色发光层和绿色发光层，上述蓝色发光层与像素界定层的断差最小，这样设置可以进一步的提高蓝色发光层的正面出光比率，进而降低横向出光比率，减少损耗光。此时，蓝色发光层发出的蓝光的亮度衰减程度降低，使得蓝光的亮度衰减程度与红光和绿光的亮度衰减程度更接近，从而可以进一步改善由红光、绿光、蓝光混合而成的白色画面在大视角下整体颜色偏黄的问题。

可选的，参考图3所示，显示基板还包括：衬底8以及位于衬底8和像素界定层1之间的平坦层9。平坦层可以起到平坦化的作用，以便于后续膜层的形成。

上述衬底可以采用柔性材料制作，示例的，柔性材料可以选择聚酰亚胺(PI)或者聚对苯二甲酸乙二酯(PET)。

这里对上述平坦层的材料不做限定，示例的，平坦层可以采用有机光刻胶制作。

可选的，显示基板还包括位于衬底和平坦层之间的驱动晶体管和走线单元。驱动晶体管可以控制电路的开关；走线单元包括不同的走线，各走线用于电连接显示基板中的不同膜层或者同层的不同结构。

参考图3所示，上述显示基板还包括依次层叠设置在衬底8之上的缓冲层10，有源层13、栅绝缘层14、栅极层15、层间介质层16、走线层17、层间绝缘层18、源漏金属层19，其中源漏金属层19包括源极21、漏极22和金属引线23。

其中，驱动晶体管可以由如图3所示位于虚线框11中的有源层13、栅绝缘层14、栅极层15、层间介质层16、层间绝缘层18、源级21、漏级22构成；走线单元可以由如图3所示位于虚线框12中的有源层13、栅绝缘层14、栅极层15、层间介质层16、走线层17、层间绝缘层18、金属引线23构成。

当然，上述显示基板(也称背板)还可以包括其它结构或者膜层，示例的，上述显示基板还包括如图3所示的隔垫物20(PS)。这里仅描述与发明点相关的结构或者膜层，本领域技术人员可以通过现有技术和公知常识获知该显示基板包括的其它结构或者膜层。

实施例二

本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括如实施例一提供的显示基板。

该显示装置还可以包括盖板。盖板与上述显示基板对盒后形成显示装置。该显示装置包括的显示基板通过在像素界定层的第一开口之内设置支撑层，进而垫高蓝色发光功能层，使得蓝色发光功能层的正面出光比率增大、横向出光比率降低；此时，蓝色发光功能层发出的蓝光的亮度衰减程度与红光和绿光的亮度衰减程度更接近；进而可以改善因蓝光亮度衰减大于红光和绿光的亮度衰减，导致的大视角下白色画面整体颜色偏黄问题。由该显示基板制作的显示装置显示效果好。

该显示装置可以是OLED显示器等显示器件以及包括这些显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。

实施例三

本发明实施例提供了一种如实施例一提供的显示基板的制作方法，该显示基板的结构可以参考图3所示，该方法包括：

S01、形成支撑层。

上述支撑层可以是除金属以外的有机材料或者无机材料。示例的，上述支撑层可以采用有机材料光刻胶制作，具体的，光刻胶可以选用聚酰亚胺光刻胶(PI胶)。

上述支撑层的具体形成方法不做限定，可以根据实际情况确定。示例的，支撑层可采用喷墨打印工艺形成，或者，支撑层可采用涂布工艺形成。

S02、形成阳极；如图8所示，阳极3位于支撑层2之上。

S03、形成像素界定层(PDL层)。

上述像素界定层包括用于限定蓝色发光功能层的多个第一开口，支撑层位于第一开口内。

上述像素界定层(Pixel Definition Layer，PDL层)还包括除第一开口以外的其它开口，以利于设置其它颜色发光功能层，例如：红色发光功能层、绿色发光功能层。

S04、在第一开口内形成蓝色发光功能层。

上述蓝色发光功能层覆盖支撑层；阳极位于支撑层和蓝色发光功能层之间。

其中，上述第一开口沿垂直于像素界定层的方向的开口深度大于或者等于支撑层、蓝色发光功能层和阳极分别沿垂直于像素界定层的方向的厚度之和。

可选的，如图3所示的显示基板还包括衬底8以及位于衬底8和像素界定层1之间的平坦层9。

根据实际需求的不同，有两种制作工艺形成平坦层和支撑层。

第一种，先形成平坦层，再形成支撑层，其形成方法具体如下：

S01、形成支撑层之前，上述方法还包括：

S11、形成平坦层(PLN层)。

其中，在形成平坦层(PLN层)之后，S01、形成支撑层包括：

S011、在平坦层上涂布第一有机薄膜。

S012、对第一有机薄膜进行图案化处理，形成支撑层。

其中，第一有机薄膜的厚度在1450-1480nm之间，有机薄膜的材料可以选择正性或者负性光刻胶。

这里对上述平坦层和支撑层的具体材料不做限定，平坦层和支撑层可以采用相同的材料制作，或者，采用不同的材料制作。示例的，平坦层和支撑层均可以采用聚酰亚胺光刻胶制作。

上述工艺可以分别控制平坦层和支撑层的形成工艺，操作灵活、简单，便于平坦层和支撑层形成工艺过程中不同工艺参数的调整。

第二种，平坦层和支撑层通过一次工艺形成，其形成方法具体如下：

可选的，显示基板还包括如图3所示的衬底8以及位于衬底8和像素界定层1之间的平坦层9；位于衬底8和平坦层9之间的驱动晶体管和走线单元；上述方法还包括：

S21、形成平坦层。

其中，具体的，S01、形成支撑层和S21、形成平坦层包括：

S211、在驱动晶体管和走线单元上涂布如图6所示的第二有机薄膜24。

其中，第二有机薄膜的厚度在2950-2980nm之间，有机薄膜的材料可以选择正性或者负性光刻胶。

S212、采用半色调掩模板(Half-Tone Mask)对第二有机薄膜进行图案化，同时形成如图7所示的平坦层9和支撑层2。

上述工艺一次性形成平坦层和支撑层，可以减少工艺步骤，缩短产品生产周期。

可选的，显示基板还包括位于衬底和平坦层之间的驱动晶体管和走线单元。

在形成平坦层之前，上述方法还包括：

S31、在衬底上形成驱动晶体管和走线单元；平坦层覆盖驱动晶体管和走线单元。

其中，驱动晶体管可以由如图3所示位于虚线框11中的有源层13、栅绝缘层14、栅极层15、层间介质层16、层间绝缘层18、源级21、漏级22构成；走线单元可以由如图3所示位于虚线框12中的有源层13、栅绝缘层14、栅极层15、层间介质层16、走线层17、层间绝缘层18、金属引线23构成。

进一步需要说明的是，形成驱动晶体管和走线单元的具体方法包括如下步骤(其中，驱动晶体管和走线单元的具体结构可以参考图3所示)：

S111、提供衬底8(聚酰亚胺衬底，PI Substrate)。

其中，聚酰亚胺衬底位于玻璃基板上，显示基板制作完成后，通过激光剥离技术将玻璃基板剥离。

S112、在衬底8上形成有源层13(Active Pattern)，并对有源层进行半导体化掺杂(Vth Doping)以及氢氟酸清洗(HF Clean)。

其中，有源层采用多晶硅(P-Si)材料制作。

S113、在有源层13上形成栅绝缘层10(GI1)。

S114、在栅绝缘层10上形成栅极层15(Gate1)。

S115、在栅极层15上形成层间介质层16(GI2)。

S116、在层间介质层16上形成走线层17(Gate2)。

S117、在走线层17上形成层间绝缘层18(ILD层)。

S118、在层间绝缘层18上形成源漏金属层19(SD层)，对源漏金属层进行掺杂处理(SD Doping)。

可选的，S03、形成像素界定层(PDL层)之后及S04、在第一开口中形成蓝色发光功能层之前，该显示基板的制作方法还包括：

S031、在如图3所示的像素界定层1(PDL层)上形成隔垫物20(PS)。

可选的，S04、在第一开口中形成蓝色发光功能层包括：

通过蒸镀，在阳极上依次层叠形成空穴注入层(HIL层)、空穴传输层(HTL层)、有机过渡缓冲层(Prime层)、发光层(EML层)、空穴阻挡层(HBL层)和电子注入层(EIL层)。

进一步可选的，S04、在第一开口中形成蓝色发光功能层之后，该显示基板的制作方法还包括：

S041、在蓝色发光功能层上形成阴极(Cathode)。

S042、在阴极上形成光取出层(CPL层)。

S043、在光取出层上形成金属缓冲层，其中，金属缓冲层采用氟化锂(LiF)制作。

当然，该显示基板的制作方法还包括后续的封装工艺等，这里仅描述与发明点相关的结构或者膜层的制作方法，本领域技术人员可以通过现有技术和公知常识获知该显示基板包括的其它结构或者膜层的制作方法。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

像素界定层，包括用于限定蓝色发光功能层的多个第一开口、用于限定红色发光功能层的多个第二开口和用于限定绿色发光功能层的多个第三开口；所述红色发光功能层位于所述第二开口内，所述绿色发光功能层位于所述第三开口内；

支撑层，位于所述第一开口之内，且所述蓝色发光功能层覆盖所述支撑层；

阳极，位于所述支撑层和所述蓝色发光功能层之间；

其中，所述第一开口沿垂直于所述像素界定层的方向的开口深度大于或者等于所述支撑层、所述蓝色发光功能层和所述阳极分别沿垂直于所述像素界定层的方向的厚度之和；所述红色发光功能层与所述像素界定层的断差大于所述蓝色发光功能层与所述像素界定层的断差；所述绿色发光功能层与所述像素界定层的断差大于所述蓝色发光功能层与所述像素界定层的断差。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层的厚度范围为1.48-1.54um，所述支撑层的厚度范围为1.19-1.23um。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述蓝色发光功能层能包括蓝色发光层，所述红色发光功能层包括红色发光层，所述绿色发光功能层包括绿色发光层；

所述红色发光层与所述像素界定层的断差大于所述蓝色发光层与所述像素界定层的断差；

所述绿色发光层与所述像素界定层的断差大于所述蓝色发光层与所述像素界定层的断差。

4.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：

衬底以及位于所述衬底和所述像素界定层之间的平坦层。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述衬底和所述平坦层之间的驱动晶体管和走线单元。

6.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的显示基板。

7.一种如权利要求1-5任一项所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

形成支撑层；

形成阳极；

形成像素界定层；所述像素界定层包括用于限定蓝色发光功能层的多个第一开口、用于限定红色发光功能层的多个第二开口和用于限定绿色发光功能层的多个第三开口，所述支撑层位于所述第一开口内；所述红色发光功能层位于所述第二开口内，所述绿色发光功能层位于所述第三开口内；

在所述第一开口内形成蓝色发光功能层；所述蓝色发光功能层覆盖所述支撑层；所述阳极位于所述支撑层和所述蓝色发光功能层之间；

其中，所述第一开口沿垂直于所述像素界定层的方向的开口深度大于或者等于所述支撑层、所述蓝色发光功能层和所述阳极分别沿垂直于所述像素界定层的方向的厚度之和；所述红色发光功能层与所述像素界定层的断差大于所述蓝色发光功能层与所述像素界定层的断差；所述绿色发光功能层与所述像素界定层的断差大于所述蓝色发光功能层与所述像素界定层的断差。

8.根据权利要求7所述方法，其特征在于，所述显示基板还包括衬底以及位于所述衬底和所述像素界定层之间的平坦层；在所述形成支撑层之前，所述方法还包括：

形成平坦层；

所述形成支撑层包括：

在所述平坦层上涂布第一有机薄膜；

对所述第一有机薄膜进行图案化处理，形成所述支撑层。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述显示基板还包括衬底以及位于所述衬底和所述像素界定层之间的平坦层；位于所述衬底和所述平坦层之间的驱动晶体管和走线单元；所述方法还包括：

形成平坦层；

所述形成支撑层和所述形成平坦层包括：

在所述驱动晶体管和走线单元上涂布第二有机薄膜；

采用半色调掩模板对所述第二有机薄膜进行图案化，同时形成所述平坦层和所述支撑层。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述衬底和所述平坦层之间的驱动晶体管和走线单元；在所述形成平坦层之前，所述方法还包括：

在所述衬底上形成驱动晶体管和走线单元；所述平坦层覆盖所述驱动晶体管和所述走线单元。

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