CN111768701A - 显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板，在弯折区设置叠加的凹槽结构，并且在凹槽结构中填充有机层，在弯折的时候，可以承受更大的应力，进而保护弯折区的线路结构。并且在刻蚀凹槽结构的时候，通过在凹槽结构的下方分别设置刻蚀阻挡子层，既可以对凹槽结构定量刻蚀，也可以保护下层结构。并且在制备刻蚀阻挡子层的时候，可以分别与显示区的金属膜层一同制备，不必增加多余的制备工序。

Description

显示面板

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是一种显示面板。

背景技术

柔性显示采用柔软可弯曲的塑料基板，非常适合窄边框显示设备的制作。因为显示面板的四周外围区可以采取弯曲或折叠的方式，将其置于屏幕侧方或下方。从而减小正面区域内非显示区的占比，实现窄边框设计。举例说明如下：柔性显示面板可以采用COP工艺(chip on panel)，将外围金属走线采用阵列基板工艺直接制作在柔性基板上，可以省去柔性电路板。同时在讯号走线区设计一个弯折区，从而将讯号走线区和驱动芯片区折叠置于显示区侧方或下方。从而实现窄边框设计。

由于弯折区需要实现较小曲率半径，由于金属走线下方存在大量的的膜层堆叠结构，弯折区信号走线位于应力中性面上方，弯曲时将受到很大的拉应力，为了减小应力，需要在工艺中将弯折区金属走线下方的无机膜层完全/部分移除，并填充有机膜层。

因此，急需提供一种新的显示面板，可以解决现有技术中弯折区承受应力较小的问题。

发明内容

本发明目的是，提供一种显示面板，在弯折区设置叠加的凹槽结构，形成一连续的凹槽结构，并且在凹槽结构中填充有机层，在弯折的时候，可以承受更大的应力，进而保护弯折区的线路结构。

为解决上述问题，本发明提供一种显示面板，包括：衬底基板，包括显示区和非显示区，所述非显示区包括一弯折子区；驱动电路层，设置在所述衬底基板上；其中，在所述弯折子区，所述驱动电路层中设有至少一刻蚀阻挡子层以及第一凹槽以及第二凹槽，所述刻蚀阻挡子层具有一开口且设于所述第一凹槽上，所述开口对应所述第一凹槽，所述第二凹槽设于所述刻蚀阻挡子层以及所述开口上，所述第一凹槽、所述第二凹槽以及所述开口填充一有机层。

进一步地，所述驱动电路层包括：缓冲子层，设于所述衬底基板的一侧；有源子层，设于所述缓冲子层远离所述衬底基板的一侧；第一绝缘子层，设于所述有源子层远离所述衬底基板的一侧且覆盖缓冲子层；第一金属子层，设于所述第一绝缘子层远离有源子层的一侧；第二绝缘子层，设于所述第一金属子层远离所述衬底基板的一侧且覆盖所述第一绝缘子层；第二金属子层，设于所述第二绝缘子层远离所述第一金属子层的一侧；层间绝缘子层，设置在所述第二金属子层远离所述衬底基板的一侧且覆盖所述第二绝缘子层。

进一步地，在所述弯折子区，所述驱动电路层包括至少两层刻蚀阻挡子层，相邻的两个刻蚀阻挡子层之间具有一间隙且在所述衬底基板的投影重叠，远离所述衬底基板的刻蚀阻挡子层的开口宽度大于靠近所述衬底基板的刻蚀阻挡子层的开口宽度。

进一步地，所述刻蚀阻挡子层为第一刻蚀阻挡子层，所述第一刻蚀阻挡子层由所述有源子层、所述第一金属子层、所述第二金属子层中的任意一层在所述弯折子区制备形成。

进一步地，所述刻蚀阻挡子层包括第一刻蚀阻挡子层和第二刻蚀阻挡子层，所述第一刻蚀阻挡子层和第二刻蚀阻挡子层分别由所述有源子层、所述第一金属子层、所述第二金属子层中任意两层在所述弯折子区制备形成。

进一步地，所述刻蚀阻挡子层包括第一刻蚀阻挡子层、第二刻蚀阻挡子层、以及第三刻蚀阻挡子层，所述第一刻蚀阻挡子层、第二刻蚀阻挡子层、以及第三刻蚀阻挡子层分别由所述有源子层、所述第一金属子层以及所述第二金属子层在所述弯折子区制备。

进步一步地，所述弯折区具有一连接线，所述连接线的两个端点分别为所述第一凹槽的下底的一端与所述第二凹槽上底的一端，所述连接线与所述基板具有一夹角，所述夹角的角度为0～45°。

进一步地，所述有机层的材料包括聚酰亚胺及有机光阻。

进一步地，所述驱动电路层还包括：第三金属子层，设于所述层间绝缘子层远离所述第二绝缘子层的一侧。钝化层，设于所述第三金属子层以及所述层间绝缘层上；第一电极，设于所述钝化层上且对应所述显示区；像素限定层，设于所述第一电极以及所述钝化层上，所述像素限定层具有一开槽，所述第一电极显露于所述开槽中。

本发明另一目的提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：提供一衬底基板，包括显示区和非显示区，所述非显示区包括一弯折子区；形成一驱动电路层于所述衬底基板上，在所述弯折区，所述驱动电路层中设有一刻蚀阻挡子层，所述刻蚀阻挡子层具有一缺口；通过一道光罩工艺形成第一凹槽以及第二凹槽，所述第一凹槽对应所述开口，所述第二凹槽设于所述刻蚀阻挡子层以及所述开口上，所述刻蚀阻挡子层设于所述第一凹槽上；填充一有机材料于所述第一凹槽、所述第二凹槽以及所述缺口中，并形成一有机层。

本发明的有益效果是：本发明提供一种显示面板，在弯折区设置叠加的凹槽结构，并且在凹槽结构中填充有机层，在弯折的时候，可以承受更大的应力，进而保护弯折区的线路结构。并且在刻蚀凹槽结构的时候，通过在凹槽结构的下方分别设置刻蚀阻挡子层，既可以对凹槽结构定量刻蚀，也可以保护下层结构。并且在制备刻蚀阻挡子层的时候，可以分别与显示区的金属膜层一同制备，不必增加多余的制备工序。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的描述。

图1本发明实施例1提供的显示面板的平面图；

图2为本发明实施例1提供的显示面板弯折区的结构示意图；

图3为为本发明实施例1提供的显示面板显示区的的结构示意图；

图4为本发明实施例2提供的显示面板弯折区的结构示意图；

图5为本发明实施例3提供的显示面板弯折区的结构示意图。

具体实施方式

为了更好地理解本发明的内容，下面通过具体的实施例对本发明作进一步说明，但本发明的实施和保护范围不限于此。

以下实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「顶」、「底」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。

本发明提供一种显示面板，包括：衬底基板以及驱动电路层。

所述衬底基板包括显示区和非显示区，所述非显示区包括一弯折子区。

所述驱动电路层设置在所述衬底基板的一侧。

其中，在所述弯折子区，所述驱动电路层中设有至少一刻蚀阻挡子层以及第一凹槽以及第二凹槽，所述刻蚀阻挡子层具有一开口且设于所述第一凹槽上，所述开口对应所述第一凹槽，所述第二凹槽设于所述刻蚀阻挡子层以及所述开口上，所述第一凹槽、所述第二凹槽以及所述开口填充一有机层。

实施例1

如图1～3所示，本发明实施例1提供一种显示面板100，包括：衬底基板101、阻隔层102以及驱动电路层130。

所述衬底基板101包括显示区110和非显示区，所述非显示区包括一弯折子区120。所述阻隔层102设于所述衬底基板101上，所述驱动电路层130设置在所述阻隔层102上。

所述驱动电路层130包括：缓冲子层103、有源子层1101、第一绝缘子层104、第一金属子层1102、第二绝缘子层105、第二金属子层1103以及层间绝缘子层106。

所述缓冲子层103设于所述衬底基板101的一侧。

所述有源子层1101设于所述缓冲子层103远离所述衬底基板101的一侧。所述有源层1101的材料为多晶硅。

所述第一绝缘子层104设于所述有源子层1101远离所述衬底基板101的一侧且覆盖缓冲子层103。

所述第一金属子层1102设于所述第一绝缘子层104远离有源子层1101的一侧。

所述第二绝缘子层105设于所述第一金属子层1102远离所述衬底基板101的一侧且覆盖所述第一绝缘子层1102。

所述第二金属子层1103设于所述第二绝缘子层105远离所述第一金属子层1102的一侧。

所述层间绝缘子层106设置在所述第二金属子层1103远离所述衬底基板101的一侧且覆盖所述第二绝缘子层105。

在所述弯折子区120，所述驱动电路层130中设有至少一刻蚀阻挡子层12以及第一凹槽1210以及第二凹槽1220。在实施例1中，所述刻蚀阻挡子层12的数量为一层，即所述刻蚀阻挡子层12为第一刻蚀阻挡子层1201。

所述刻蚀阻挡子层1201具有一开口121且设于所述第一凹槽1210上，所述开口对应所述第一凹槽1210。所述第一凹槽1210由所述第一刻蚀阻挡子层1201向下延伸至所述衬底基板101的上表面。所述第二凹槽1220由所述缓冲子层103向下延伸至所述开口121表面。

所述第二凹槽1220设于所述刻蚀阻挡子层1201以及所述开口121上，所述第一凹槽1210、所述第二凹槽1220以及所述开口121填充一有机层1250。

所述显示面板100还包括：第三金属层107、钝化层108、像素限定层109以及第一电极1010。

所述第三金属层107设于所述层间绝缘层106以及有机层1250上。所述第三金属层107包括多条信号走线1071以及源漏极信号线1072。

所述第三金属层107包括源漏极走线1072，所述源漏极走线1072连接所述有源子层1101。

所述钝化层108设于所述层间绝缘层106上；所述第一电极1010设于所述钝化层108上；所述像素限定层109设于所述第一电极1010以及所述钝化层108上，具有一开槽1011，所述第一电极1010显露于所述开槽1011中。

所述第二凹槽1220刻蚀时，所述刻蚀阻挡子层1201用以进行刻蚀阻挡并保护的作用。

所述有机层1250的材料包括聚酰亚胺及有机光阻。

所述有机层1250在弯折的时候，可以承受更大的应力，进而提高显示面板100的稳定性。

所述信号走线1071设于所述有机层1250上，用以连接显示面板100的显示区110以及驱动芯片140；所述源漏极信号线1072设于所述显示区110的层间绝缘层106上。

所述第一刻蚀阻挡子层1201由所述有源子层1101、所述第一金属子层1102、所述第二金属子层1103中的任意一层在所述弯折子区120制备形成。实施例1中优选在由有源子层1101制备形成，在其他实施例中，也可以由所述第一金属子层1102、所述第二金属子层1103中的任意一层在所述弯折子区制备形成。

本发明在在弯折区120设置叠加的凹槽结构，即第二凹槽1220设于第一凹槽1210上，形成一连续的凹槽结构，并且在凹槽结构中填充有机层1250，在弯折的时候，可以承受更大的应力，进而保护弯折区120的线路结构。并且在刻蚀凹槽结构的时候，通过在第二凹槽1220刻蚀阻挡子层，既可以对凹槽结构定量刻蚀，也可以保护下层结构。

所述第一刻蚀阻挡子层1201与所述有源子层1101同层设置。

为了制备所述显示面板100，本发明还提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤。

S1、提供一衬底基板101，包括显示区110和非显示区，所述非显示区包括一弯折子区120。

S2、形成一驱动电路层130于所述衬底基板101上，在所述弯折区110，所述驱动电路层110中设有一刻蚀阻挡子层12，所述刻蚀阻挡子层12具有一缺口121。

S3、通过一道光罩工艺形成第一凹槽1210以及第二凹槽1220，所述第一凹槽1210对应所述开口121，所述第二凹槽1220设于所述刻蚀阻挡子层12以及所述开口121上，所述刻蚀阻挡子层12设于所述第一凹槽1210上。

所述刻蚀阻挡子层12为第一刻蚀阻挡子层1201。所述第一刻蚀阻挡子层1201由所述有源子层1101在弯折子区120制备形成。

所述第一凹槽1210由所述第一刻蚀阻挡子层1201向下延伸至所述衬底基板101的上表面。所述第二凹槽1220由所述第一绝缘子层104向下延伸至所述开口121表面。

所述第一凹槽1210的宽度小于所述第二凹槽1220的宽度，在刻蚀第二凹槽1220的时候，刻蚀阻挡子层12(第一刻蚀阻挡子层1201)起到阻挡作用，而气体会通过开口121继续进行蚀刻，进而形成连续的凹槽结构。

S4、填充一有机材料于所述第一凹槽1210、所述第二凹槽120以及所述开口121中，并形成一有机层1250。

实施例1还提供一种显示面板的制备方法，在制备第一刻蚀阻挡子层1201的时候，可以与有源自称1101一同制备，不必增加多余的制备工序。

实施例2

如图4所示，本发明实施例2提供一种显示面板100a，与实施例1不同之处在于，在所述弯折子区120a，所述驱动电路层130a包括至少两层刻蚀阻挡子层12a，即第一刻蚀阻挡子层1201a与第二刻蚀阻挡子层1202a。

上下相邻的两个刻蚀阻挡子层12a之间具有一间隙且在所述衬底基板101a的投影重叠，远离所述衬底基板101a的刻蚀阻挡子层的开口宽度大于靠近所述衬底基板101a的刻蚀阻挡子层的开口宽度。

具体的，相邻的两个刻蚀阻挡子层12a形成于不同的绝缘层中。所述刻蚀阻挡子层12a包括第一刻蚀阻挡子层1201a和第二刻蚀阻挡子层1202a，所述第一刻蚀阻挡子层1201a形成与所述第一绝缘子层104a中，所述第二刻蚀阻挡子层1202a形成与所述第二绝缘子层105a中。

所述第一刻蚀阻挡子层1201a具有一第一开口121a且设于第一凹槽1210a上，所述第一开口121a对应所述第一凹槽1210a，所述第二凹槽1220a设于所述第一刻蚀阻挡子层1201a以及所述第一开口121a上。

所述第二刻蚀阻挡子层1202a具有一第二开口122a且设于第二凹槽1210a上，所述第二开口122a对应所述第二凹槽1220a，所述第三凹槽1230a设于所述第二刻蚀阻挡子层1202a以及所述第二开口122a上。

所述第二开口122a的宽度大于所述第一开口121a的宽度。

所述第一刻蚀阻挡子层1201a和第二刻蚀阻挡子层1202a分别由所述有源子层所述第一金属子层、所述第二金属子层中任意两层在所述弯折子区120a制备形成。

在实施例2中，所述第一刻蚀阻挡子层1201a由所述有源子层在所述弯折子区120a制备形成，所述第二刻蚀阻挡子层1202a由所述第一金属子层在所述弯折子区120a制备形成。这样刻蚀阻挡层12a可以与显示区的有源子层或第一金属子层一同制备，这并不会增加多余的制备流程。

实施例2提供的连续的凹槽结构，包括所述第一凹槽1210a、所述第二凹槽1220a以及所述第三凹槽1230a结构。

在制备上述凹槽结构的时候，气体蚀刻所述第三凹槽1230a图形后由所述第二刻蚀阻挡子层1202a阻挡保护；接着气体通过所述第二开口122a继续蚀刻所述第二凹槽1220a，并由所述第一刻蚀阻挡子层1201a阻挡保护；最后气体通过所述第一开口121a蚀刻形成所述第一凹槽1210a的结构，并在凹槽结构中填充有机材料，减小弯折子区120a的应力，防止面板受到破坏。

实施例3

如图5所示，本发明实施例3提供一种显示面板100b，与实施例2不同之处在于，所述刻蚀阻挡子层12b包括第一刻蚀阻挡子层1201b、第二刻蚀阻挡子层1202b、以及第三刻蚀阻挡子层1203b。即刻蚀阻挡子层12b的数量包括3层。

具体的，相邻的两个刻蚀阻挡子层12b形成于不同的绝缘层中。所述刻蚀阻挡子层12b包括第一刻蚀阻挡子层1201b、第二刻蚀阻挡子层1202b以及第三刻蚀阻挡子层1203b，所述第一刻蚀阻挡子层1201b形成与所述第一绝缘子层104b中，所述第二刻蚀阻挡子层1202b形成与所述第二绝缘子层105b中，所述第三刻蚀阻挡子层1203b形成与所述层间绝缘子层106b中。

所述第一刻蚀阻挡子层1201b具有一第一开口121b且设于第一凹槽1210b上，所述第一开口121b对应所述第一凹槽1210b，所述第二凹槽1220b设于所述第一刻蚀阻挡子层1201b以及所述第一开口121b上。

所述第二刻蚀阻挡子层1202b具有一第二开口122b且设于第二凹槽1220b上，所述第二开口122b对应所述第二凹槽1220b，第三凹槽1230b设于所述第二刻蚀阻挡子层1202b以及所述第二开口122b上。

所述第三刻蚀阻挡子层1203b具有一第三开口123b且设于第三凹槽1230b上，所述第三开口123b对应所述第三凹槽1230b，第四凹槽1240b设于所述第三刻蚀阻挡子层1203b以及所述第三开口123b上。

所述第三开口123b的宽度大于所述第二开口122b的宽度，所述第二开口122b的宽度大于所述第一开口121b的宽度。

所述第一刻蚀阻挡子层1201b、第二刻蚀阻挡子层1202b、以及第三刻蚀阻挡子层1203b分别由所述有源子层、所述第一金属子层以及所述第二金属子层在所述弯折子区120b制备。

所述弯折区120b具有一连接线1205b，所述连接线1205b的两个端点分别为所述第一凹槽1210b的下底的一端与所述第四凹槽1240b上底的一端，所述连接线1205b与所述衬底基板101b具有一夹角1206b，所述夹角1206b的角度为0～45°。

所述弯折区120b具有一中心线1204b。所述连接线1205b的两个端点分别位于所述中心线1204b的同一侧。

在实施例3中，所述第一刻蚀阻挡子层1201b由所述有源子层在所述弯折子区120b制备形成，所述第二刻蚀阻挡子层1202b由所述第一金属子层在所述弯折子区120b制备形成，所述第三刻蚀阻挡子层1203b由所述第二金属子层在所述弯折子区120b制备形成。这样刻蚀阻挡层12b可以与显示区的有源子层、第一金属子层以及第二金属子层一同制备，这并不会增加多余的制备流程。

实施例3提供的连续的凹槽结构，包括所述第一凹槽1210b、所述第二凹槽1220b、所述第三凹槽1230b以及所述第四凹槽1240。

在制备上述凹槽结构的时候，气体蚀刻第四凹槽1240图形后由所述第三刻蚀阻挡子层1203b阻挡保护；接着气体通过第三开口123b蚀刻所述第三凹槽1230b图形后由所述第二刻蚀阻挡子层1202b阻挡保护；接着气体通过所述第二开口122b继续蚀刻所述第二凹槽1220b图形，并由所述第一刻蚀阻挡子层1201b阻挡保护；最后气体通过所述第一开口121b蚀刻形成所述第一凹槽1210b的结构，并在凹槽结构中填充有机材料，减小弯折子区120b的应力，防止面板受到破坏。

本发明提供一种显示面板，在弯折子区形成一连续的凹槽结构，并且在凹槽结构中填充有机层，在弯折的时候，可以承受更大的应力，进而保护弯折区的线路结构。并且在刻蚀凹槽结构的时候，在凹槽结构的下方分别设置刻蚀阻挡子层，既可以对凹槽结构定量刻蚀，也可以保护下层结构。并且在制备刻蚀阻挡层的时候，可以分别与显示区的膜层一同制备，不必增加多余的制备工序。

应当指出，对于经充分说明的本发明来说，还可具有多种变换及改型的实施方案，并不局限于上述实施方式的具体实施例。上述实施例仅仅作为本发明的说明，而不是对本发明的限制。总之，本发明的保护范围应包括那些对于本领域普通技术人员来说显而易见的变换或替代以及改型。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底基板，包括显示区和非显示区，所述非显示区包括一弯折子区；

驱动电路层，设置在所述衬底基板上；

其中，在所述弯折子区，所述驱动电路层中设有至少一刻蚀阻挡子层以及第一凹槽以及第二凹槽，所述刻蚀阻挡子层具有一开口且设于所述第一凹槽上，所述开口对应所述第一凹槽，所述第二凹槽设于所述刻蚀阻挡子层以及所述开口上，所述第一凹槽、所述第二凹槽以及所述开口填充一有机层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述驱动电路层包括：缓冲子层，设于所述衬底基板的一侧；

有源子层，设于所述缓冲子层远离所述衬底基板的一侧；

第一绝缘子层，设于所述有源子层远离所述衬底基板的一侧且覆盖缓冲子层；

第一金属子层，设于所述第一绝缘子层远离有源子层的一侧；

第二绝缘子层，设于所述第一金属子层远离所述衬底基板的一侧且覆盖所述第一绝缘子层；

第二金属子层，设于所述第二绝缘子层远离所述第一金属子层的一侧；

层间绝缘子层，设置在所述第二金属子层远离所述衬底基板的一侧且覆盖所述第二绝缘子层。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

在所述弯折子区，所述驱动电路层包括至少两层刻蚀阻挡子层，相邻的两个刻蚀阻挡子层之间具有一间隙且在所述衬底基板的投影重叠，远离所述衬底基板的刻蚀阻挡子层的开口宽度大于靠近所述衬底基板的刻蚀阻挡子层的开口宽度。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

所述刻蚀阻挡子层为第一刻蚀阻挡子层，所述第一刻蚀阻挡子层由所述有源子层、所述第一金属子层、所述第二金属子层中的任意一层在所述弯折子区制备形成。

5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，

所述刻蚀阻挡子层包括第一刻蚀阻挡子层和第二刻蚀阻挡子层，所述第一刻蚀阻挡子层和第二刻蚀阻挡子层分别由所述有源子层、所述第一金属子层、所述第二金属子层中任意两层在所述弯折子区制备形成。

6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，

所述刻蚀阻挡子层包括第一刻蚀阻挡子层、第二刻蚀阻挡子层、以及第三刻蚀阻挡子层，所述第一刻蚀阻挡子层、第二刻蚀阻挡子层、以及第三刻蚀阻挡子层分别由所述有源子层、所述第一金属子层以及所述第二金属子层在所述弯折子区制备。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述弯折区具有一连接线，所述连接线的两个端点分别为所述第一凹槽的下底的一端与所述第二凹槽上底的一端，所述连接线与所述基板具有一夹角，所述夹角的角度为0～45°。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述有机层的材料包括聚酰亚胺及有机光阻。

9.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述驱动电路层还包括：第三金属子层，设于所述层间绝缘子层远离所述第二绝缘子层的一侧。

钝化层，设于所述第三金属子层以及所述层间绝缘层上；

第一电极，设于所述钝化层上且对应所述显示区；

像素限定层，设于所述第一电极以及所述钝化层上，所述像素限定层具有一开槽，所述第一电极显露于所述开槽中。

10.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一衬底基板，包括显示区和非显示区，所述非显示区包括一弯折子区；

形成一驱动电路层于所述衬底基板上，在所述弯折区，所述驱动电路层中设有一刻蚀阻挡子层，所述刻蚀阻挡子层具有一缺口；

通过一道光罩工艺形成第一凹槽以及第二凹槽，所述第一凹槽对应所述开口，所述第二凹槽设于所述刻蚀阻挡子层以及所述开口上，所述刻蚀阻挡子层设于所述第一凹槽上；

填充一有机材料于所述第一凹槽、所述第二凹槽以及所述缺口中，并形成一有机层。

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