CN111739837A - 一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销及其制备方法 - Google Patents
一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111739837A CN111739837A CN202010731962.XA CN202010731962A CN111739837A CN 111739837 A CN111739837 A CN 111739837A CN 202010731962 A CN202010731962 A CN 202010731962A CN 111739837 A CN111739837 A CN 111739837A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pin
- cover plate
- heater cover
- cap
- diameter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 37
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 33
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 33
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 3
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 3
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B19/00—Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group
- B24B19/22—Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B1/00—Producing shaped prefabricated articles from the material
- B28B1/54—Producing shaped prefabricated articles from the material specially adapted for producing articles from molten material, e.g. slag refractory ceramic materials
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
本发明公开的属于半导体技术领域,具体为一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销及其制备方法,包括销杆和销帽,所述销帽连接在销杆的一端,所述销杆和销帽同轴连接,所述销杆和销帽为陶瓷材料一体成型结构,且销帽、销杆均呈圆柱状,所述销帽的外壁直径大于销杆的外壁直径,该半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的制备方法步骤如下:S1:注入模具;S2:打磨成型。在陶瓷提升销的顶端加宽销帽的直径,使它跟加热器盖板的直径相接近,防止制程过程中有大量气体从销帽跟加热器盖板孔缝隙流入带走一些热量,预防销帽处温度低,晶圆提升销点位置厚度低的问题。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,具体为一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销及其制备方法。
背景技术
钽酸锂、铌酸锂晶圆具有压电性、介电性、热释电性以及电光效应、非线性光学效应和声光效应等重要特性,是指制作声表面波(SAW)滤波器、窄带滤波器、光子可调滤波器等新型元器件的重要材料。
晶圆的主要加工方式为片加工和批加工,即同时加工1片或多片晶圆。随着半导体特征尺寸越来越小,加工及测量设备越来越先进,使得晶圆加工出现了新的数据特点。同时,特征尺寸的减小,使得晶圆加工时,空气中的颗粒数对晶圆加工后质量及可靠性的影响增大,而随着洁净的提高,颗粒数也出现了新的数据特点。
由于起升销孔与加热器和盖板销孔间距太大,导致提升销无法快速的升温。不同的温度区域导致不同的厚度,晶圆片对温度很敏感,导致晶圆片靠四个提升销点位置表面沉积后都会变色异常。
发明内容
本发明的目的在于提供一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销及其制备方法,以解决上述背景技术中提出的由于起升销孔与加热器和盖板销孔间距太大,导致提升销无法快速的升温。不同的温度区域导致不同的厚度,钽酸锂、铌酸锂晶圆片对温度很敏感,导致晶圆片靠四个提升销点位置表面沉积后都会变色异常的问题。
在陶瓷提升销的顶端加宽销帽的直径,使它跟加热器盖板的直径相接近,防止制程过程中有大量气体从销帽跟加热器盖板孔缝隙流入带走一些热量,预防销帽处温度较低,晶圆提升销点位置厚度低的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销,包括销杆和销帽,所述销帽连接在销杆的一端,所述销杆和销帽同轴连接,所述销杆和销帽为陶瓷材料一体成型结构,且销帽、销杆均呈圆柱状,所述销帽的外壁直径大于销杆的外壁直径。
优选的,所述销帽的外壁直径为3.5mm-3.8mm,所述销杆的外壁直径为3.1mm-3.2mm。
优选的,所述销帽的外壁直径为3.5mm,所述销杆的外壁直径为3.1mm。
优选的,所述销帽的外壁直径为3.677mm,所述销杆的外壁直径为3.182mm。
优选的,所述销帽的外壁直径为3.8mm,所述销杆的外壁直径为3.2mm。
优选的,所述销杆和销帽的总长度为79.954mm。
一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的制备方法,该半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的制备方法步骤如下:
S1:注入模具:将半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的原料熔融混合均匀并注入半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的模具中,待模具中的原料冷却成型得到粗坯,将成型粗坯取出;
S2:打磨成型:将步骤S1中制得的粗坯取出,按照尺寸将粗坯表面打磨并使得粗坯的尺寸满足销帽、销杆的尺寸,即得到成品。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1)在陶瓷提升销的顶端加宽销帽的直径,使它跟加热器盖板的直径相接近,防止制程过程中有大量气体从销帽跟加热器盖板孔缝隙流入带走一些热量,预防销帽处温度较低,晶圆提升销点位置厚度低的问题;
2)减少热量散失,保证产品的质量。
附图说明
图1为本发明结构示意图;
图2为现有陶瓷提升销与加热器盖板配合的结构示意图;
图3为耐高温胶带块堵住加热器盖板的结构示意图;
图4为本发明与加热器盖板配合使用时的结构示意图;
图5为本发明制备方法流程图。
图中:1销杆、2销帽、3加热器盖板、4加热器、5限位挡圈。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
请参阅图1-5,本发明提供一种技术方案:一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销,包括销杆1和销帽2,所述销帽2连接在销杆1的一端,所述销杆1和销帽2同轴连接,所述销杆1和销帽2为陶瓷材料一体成型结构,且销帽2、销杆1均呈圆柱状,所述销帽2的外壁直径大于销杆1的外壁直径。
进一步地,所述销帽2的外壁直径为3.5mm-3.8mm,所述销杆1的外壁直径为3.1mm-3.2mm。
进一步地,所述销帽2的外壁直径为3.5mm,所述销杆1的外壁直径为3.1mm。
进一步地,所述销帽2的外壁直径为3.677mm,所述销杆1的外壁直径为3.182mm。
进一步地,所述销帽2的外壁直径为3.8mm,所述销杆1的外壁直径为3.2mm。
进一步地,所述销杆1和销帽2的总长度为79.954mm。
一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的制备方法,该半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的制备方法步骤如下:
S1:注入模具:将半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的原料熔融混合均匀并注入半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的模具中,待模具中的原料冷却成型得到粗坯,将成型粗坯取出;
S2:打磨成型:将步骤S1中制得的粗坯取出,按照尺寸将粗坯表面打磨并使得粗坯的尺寸满足销帽2、销杆1的尺寸,即得到成品。
如图2所示,为现有陶瓷提升销与加热器盖板3配合的结构示意图。由于起升销孔(限位挡圈5中部的孔)与加热器4和加热器盖板3中部销孔间距太大,导致陶瓷提升销无法快速的升温。不同的温度区域导致不同的厚度,晶圆片对温度又很敏感,所以晶圆片靠四个提升销点位置表面沉积后都会变色厚度异常。
如图3所示,为耐高温胶带块堵住加热器盖板3的结构示意图。当气室运行过程中,过程气体将流入为了消除缝隙,带走一些热量,所以销点厚度很低,经过试验,把陶瓷提升销取出,并使用高温胶带块堵住加热器盖板3的孔。用一个晶圆片检查均匀性很好。
如图4所示,为本发明与加热器盖板3配合使用时的结构示意图。在陶瓷提升销的顶端加宽提升陶瓷提升销的直径,使它跟加热器盖板3的中部销孔直径相接近,防止制程过程中有大量气体从陶瓷提升销跟加热盖板3的中部销孔缝隙流入带走一些热量,预防提升销点温度较低,晶圆提升销点位置厚度异常的问题。
实施例一:
该半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的制备方法步骤如下:
S1:注入模具:将半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的原料熔融混合均匀并注入半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的模具中,待模具中的原料冷却成型得到粗坯,将成型粗坯取出;
S2:打磨成型:将步骤S1中制得的粗坯取出,按照尺寸将粗坯表面打磨并使得粗坯的尺寸满足销帽2、销杆1的尺寸,销帽2的外壁直径为3.5mm,所述销杆1的外壁直径为3.1mm,即得到成品。
实施例二:
该半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的制备方法步骤如下:
S1:注入模具:将半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的原料熔融混合均匀并注入半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的模具中,待模具中的原料冷却成型得到粗坯,将成型粗坯取出;
S2:打磨成型:将步骤S1中制得的粗坯取出,按照尺寸将粗坯表面打磨并使得粗坯的尺寸满足销帽2、销杆1的尺寸,销帽2的外壁直径为3.677mm,所述销杆1的外壁直径为3.182mm,即得到成品。
实施例三:
该半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的制备方法步骤如下:
S1:注入模具:将半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的原料熔融混合均匀并注入半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的模具中,待模具中的原料冷却成型得到粗坯,将成型粗坯取出;
S2:打磨成型:将步骤S1中制得的粗坯取出,按照尺寸将粗坯表面打磨并使得粗坯的尺寸满足销帽2、销杆1的尺寸,销帽2的外壁直径为3.8mm,所述销杆1的外壁直径为3.2mm,即得到成品。
通过实验数据得到,三个实施例用于半导体加工使用,均能够提高产品的质量,保证均匀性;
且三个实施例中,实施例二的产品较佳。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点,对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明;因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内,不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销,包括销杆(1)和销帽(2),其特征在于:所述销帽(2)连接在销杆(1)的一端,所述销杆(1)和销帽(2)同轴连接,所述销杆(1)和销帽(2)为陶瓷材料一体成型结构,且销帽(2)、销杆(1)均呈圆柱状,所述销帽(2)的外壁直径大于销杆(1)的外壁直径。
2.根据权利要求1所述的一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销,其特征在于:所述销帽(2)的外壁直径为3.5mm-3.8mm,所述销杆(1)的外壁直径为3.1mm-3.2mm。
3.根据权利要求2所述的一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销,其特征在于:所述销帽(2)的外壁直径为3.5mm,所述销杆(1)的外壁直径为3.1mm。
4.根据权利要求2所述的一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销,其特征在于:所述销帽(2)的外壁直径为3.677mm,所述销杆(1)的外壁直径为3.182mm。
5.根据权利要求2所述的一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销,其特征在于:所述销帽(2)的外壁直径为3.8mm,所述销杆(1)的外壁直径为3.2mm。
6.根据权利要求1所述的一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销,其特征在于:所述销杆(1)和销帽(2)的总长度为79.954mm。
7.一种如权利要求1-6任意一项所述的半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的制备方法,其特征在于:该半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的制备方法步骤如下:
S1:注入模具:将半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的原料熔融混合均匀并注入半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销的模具中,待模具中的原料冷却成型得到粗坯,将成型粗坯取出;
S2:打磨成型:将步骤S1中制得的粗坯取出,按照尺寸将粗坯表面打磨并使得粗坯的尺寸满足销帽(2)、销杆(1)的尺寸,即得到成品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010731962.XA CN111739837A (zh) | 2020-07-27 | 2020-07-27 | 一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010731962.XA CN111739837A (zh) | 2020-07-27 | 2020-07-27 | 一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销及其制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111739837A true CN111739837A (zh) | 2020-10-02 |
Family
ID=72657927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010731962.XA Pending CN111739837A (zh) | 2020-07-27 | 2020-07-27 | 一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111739837A (zh) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030208896A1 (en) * | 2002-04-11 | 2003-11-13 | Luka Gakovic | Ceramic center pin for compaction tooling and method for making same |
KR20040085905A (ko) * | 2003-04-02 | 2004-10-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조를 위한 화학 기상 증착 장치 |
KR20090091495A (ko) * | 2008-02-25 | 2009-08-28 | 주성엔지니어링(주) | 고정식 리프트 핀을 가지는 기판 처리 장치 및 이를 이용한기판의 로딩 및 언로딩 방법 |
KR20140139935A (ko) * | 2013-05-28 | 2014-12-08 | 주성엔지니어링(주) | 기판 지지 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
CN104890111A (zh) * | 2015-06-10 | 2015-09-09 | 邓伟新 | 高密度陶瓷的生产工艺 |
CN107452668A (zh) * | 2017-06-23 | 2017-12-08 | 鲁汶仪器有限公司(比利时) | 一种半导体设备的顶针 |
JP2020017590A (ja) * | 2018-07-24 | 2020-01-30 | キオクシア株式会社 | 基板支持装置およびプラズマ処理装置 |
CN212380409U (zh) * | 2020-07-27 | 2021-01-19 | 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 | 一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销 |
-
2020
- 2020-07-27 CN CN202010731962.XA patent/CN111739837A/zh active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030208896A1 (en) * | 2002-04-11 | 2003-11-13 | Luka Gakovic | Ceramic center pin for compaction tooling and method for making same |
KR20040085905A (ko) * | 2003-04-02 | 2004-10-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조를 위한 화학 기상 증착 장치 |
KR20090091495A (ko) * | 2008-02-25 | 2009-08-28 | 주성엔지니어링(주) | 고정식 리프트 핀을 가지는 기판 처리 장치 및 이를 이용한기판의 로딩 및 언로딩 방법 |
KR20140139935A (ko) * | 2013-05-28 | 2014-12-08 | 주성엔지니어링(주) | 기판 지지 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
CN104890111A (zh) * | 2015-06-10 | 2015-09-09 | 邓伟新 | 高密度陶瓷的生产工艺 |
CN107452668A (zh) * | 2017-06-23 | 2017-12-08 | 鲁汶仪器有限公司(比利时) | 一种半导体设备的顶针 |
JP2020017590A (ja) * | 2018-07-24 | 2020-01-30 | キオクシア株式会社 | 基板支持装置およびプラズマ処理装置 |
CN212380409U (zh) * | 2020-07-27 | 2021-01-19 | 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司 | 一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4789281B2 (ja) | 弾性表面波フィルタ及びその製造方法 | |
CN212380409U (zh) | 一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销 | |
EP2251461B1 (en) | Process for producing a quartz glass crucible | |
CN106116143A (zh) | 光学玻璃 | |
CN208954953U (zh) | 晶圆位置检测装置 | |
CN111739837A (zh) | 一种半导体设备的铝制加热器盖板的陶瓷提升销及其制备方法 | |
CN111230598A (zh) | 一种8英寸铌酸锂晶片的制备方法 | |
CN101343178A (zh) | 一种(ZrSnZnNb)TiO4微波陶瓷介质材料及其制备方法 | |
KR101133546B1 (ko) | 평판 디스플레이 패널의 실링 소자용 슬러리 조성물 및 이를 이용하여 제조한 실링 소자 | |
WO2007083719A1 (ja) | プレス成型装置 | |
KR101980465B1 (ko) | 스퍼터링 타겟 및 그 제조 방법 | |
CN108811479B (zh) | 一种分体式方形屏蔽罩及其制造方法 | |
CN113550008A (zh) | 一种超大尺寸铌酸锂晶体的生长装置和方法 | |
EP3366816A1 (en) | Method for producing lithium niobate single crystal substrate | |
JP3972374B2 (ja) | シリカガラスのアニール方法 | |
KR101064163B1 (ko) | 평판 디스플레이 패널의 실링 소자용 슬러리 조성물 및 이를 이용하여 제조한 실링 소자 | |
CN107522407A (zh) | 一种防静电低温共烧陶瓷材料及其制备方法和应用 | |
US10711371B2 (en) | Lithium niobate single crystal substrate and method of producing the same | |
CN117247224A (zh) | 一种大规格合成石英锭的热熔成型方法 | |
CN110896040A (zh) | 晶圆热处理腔室 | |
CN114354338B (zh) | 一种玻璃热震稳定性的检测方法 | |
EP3312315A1 (en) | Lithium niobate single crystal substrate and method for producing same | |
CN118307196A (zh) | 一种LiTaO3微晶-玻璃复合光纤及其制备方法和应用 | |
CN111253058B (zh) | 一种制备无水红外玻璃光纤预制棒的装置及方法 | |
CN207942782U (zh) | 一种单晶炉用长寿命可擦拭镀金玻璃 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |