CN111686481A - 一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置 - Google Patents

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Abstract

一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,涉及服装服饰技术领域,包括池体,所述池体的左侧固定连接有进水管,所述进水管的外侧活动连接有进水阀,所述池体的右侧固定连接有排水管,所述池体的外侧设置有防溢坝,所述防溢坝的内部设置有缓冲区。该服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,通过防溢的设计,与上述自排水设计配合,可在漂洗池内水位增高时,自动增加高度,有效的防止池内液体溢出,极大的提高了设备使用时的安全性,并且能在水位下降后自动恢复至原位置,无需人工进行手动复位,不仅节省了操作时间,降低了操作难度,还进一步的提升了生产的效率,提高了企业的收益。

Description

一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置
技术领域
本发明涉及服装服饰技术领域,具体为一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置。
背景技术
服装服饰在工厂进行流水化生产时,包含从原料到成衣的多种步骤,不同材质的服装在生产工艺和流程上存在差异。其中部分布料原料在进行裁剪缝制前,需要对其进行漂洗,一方面是在制衣前观察前其水洗后的状态,另一方面是漂洗掉多余的杂质。
在进行漂洗的过程中,由于布料原料本身为棉质或纱制等纤维状结构,表面容易附着大量的绒毛,且其自身还存在大量的线头和碎布,因此漂洗池中往往会存在大量的杂质,这些杂质很有可能会堵塞漂洗池的排水机构,造成池内水位增高甚至溢出,严重的污染工作和生产环境,并且有可能导致设备进水受损,不仅影响生产的进度,造成经济上的损失,还会导致生产计划的延迟,不利于企业的正常运转。
为解决上述问题,发明者提出了一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,具备自排水和防溢的优点,有效的避免了上述问题的产生。
发明内容
为实现上述自排水和防溢的目的,本发明提供如下技术方案:一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,包括池体、进水管、进水阀、排水管、防溢坝、缓冲区、防溢板、溢流管、进液自控机构、排液自控机构、U型管、限位管、活动触点、固定触点、分流管、密封室、两极磁块、定位管、活动磁块。
上述各结构的位置及连接关系如下:
所述池体的左侧固定连接有进水管,所述进水管的外侧活动连接有进水阀,所述池体的右侧固定连接有排水管,所述池体的外侧设置有防溢坝,所述防溢坝的内部设置有缓冲区,所述缓冲区的内部活动连接有防溢板,所述防溢坝的外侧固定连接有溢流管,所述防溢坝的外侧分别设置有进液自控机构和排液自控机构。
所述进液自控机构包括U型管,所述U型管的外侧固定连接有限位管,所述限位管的内部活动连接有活动触点,所述限位管的内部固定连接有固定触点,所述限位管的底部固定连接有分流管,所述限位管的外侧活动连接有密封室,所述密封室的内部活动连接有两极磁块,所述密封室的上方活动连接有定位管,所述定位管的外侧活动连接有活动磁块。
作为优选,所述限位管的内部设置有环状卡块,该环状卡块的内部开设有通孔,该通孔的尺寸小于活动触点的尺寸。
作为优选,所述密封室的内部设置有卡块结构,该卡块结构的尺寸小于两极磁块的底部尺寸,可起到限制两极磁块的作用,防止其脱离预定位置。
作为优选,所述防溢坝的主要材质为疏水、耐腐蚀材料,其内部镶嵌有钢筋结构的加固网,保证装置在使用时结构的稳定。
作为优选,所述池体的顶部高度与防溢坝的顶部高度相同,二者相互接触并固定连接,连接处通过绝水胶进行密封,有效防止水分的浸入,保证装置使用时的安全性。
与现有技术及产品相比,本发明的有益效果如下:
1、该服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,通过自排水的设计,可在漂洗池内的水位增高并接近极限值时,自动触发装置,利用外置水泵将池内的液体排出,加快了排水的速度,避免了现有技术中因排水机构堵塞可能造成的排水故障,防止液体溢出,一定程度上规避了可能存在的设备损毁风险,提高了企业在生产时可靠性和安全性。
2、该服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,通过防溢的设计,与上述自排水设计配合,可在漂洗池内水位增高时,自动增加高度,有效的防止池内液体溢出,极大的提高了设备使用时的安全性,并且能在水位下降后自动恢复至原位置,无需人工进行手动复位,不仅节省了操作时间,降低了操作难度,还进一步的提升了生产的效率,提高了企业的收益。
3、该服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,通过使分流管呈斜向上的角度倾斜,可在缓冲区内的水位下降过程中,利用高度差使U型管和密封室内的液体更快流出,减少了结构复位的时间,缩短了一次使用的周期。
附图说明
图1为本发明连接结构剖视图;
图2为本发明图1中局部结构放大图;
图3为本发明图2中各结构运动轨迹示意图;
图4为本发明进液自控机构连接结构示意图;
图5为本发明图4中各结构运动轨迹示意图。
图中:1、池体;2、进水管;3、进水阀;4、排水管;5、防溢坝;6、缓冲区;7、防溢板;8、溢流管;9、进液自控机构;10、排液自控机构;91、U型管;92、限位管;93、活动触点;94、固定触点;95、分流管;96、密封室;97、两极磁块;98、定位管;99、活动磁块;
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-5:
该服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,包括池体1、进水管2、进水阀3、排水管4、防溢坝5、缓冲区6、防溢板7、溢流管8、进液自控机构9、排液自控机构10。
其中,进液自控机构9和排液自控机构10结构相同,均包括U型管91、限位管92、活动触点93、固定触点94、分流管95、密封室96、两极磁块97、定位管98、活动磁块99。
上述各结构的位置及连接关系如下:
池体1的左侧固定连接有进水管2,进水管2的外侧活动连接有进水阀3,池体1的右侧固定连接有排水管4,池体1的外侧设置有防溢坝5,防溢坝5的内部设置有缓冲区6,缓冲区6的内部活动连接有防溢板7,防溢坝5的外侧固定连接有溢流管8,防溢坝5的外侧分别设置有进液自控机构9和排液自控机构10。
进液自控机构9包括U型管91,U型管91的外侧固定连接有限位管92,限位管92的内部活动连接有活动触点93,限位管92的内部固定连接有固定触点94,限位管92的底部固定连接有分流管95,限位管92的外侧活动连接有密封室96,密封室96的内部活动连接有两极磁块97,密封室96的上方活动连接有定位管98,定位管98的外侧活动连接有活动磁块99。
其中:
a、进水阀3与外置电机电性连接,排水管4的外侧设置有外置水泵且二者电连接;进液自控机构9和排液自控机构10的规格及内部结构完全相同,进液自控机构9的活动触点93和固定触点94与进水阀3的外置电机电性连接,排液自控机构10的活动触点93和固定触点94与排水管4的外置水泵电连接。
b、防溢坝5、缓冲区6和防溢板7设置为不少于两个且数量相同;防溢坝5的内顶部设置为向下倾斜状,防溢板7的主要材质为疏水、具备浮性材料,其底部形状为向上倾斜状,并且该形状与防溢坝5的内顶部形状适配。限位管92的内部设置有环状卡块,该环状卡块的内部开设有通孔,该通孔的尺寸小于活动触点93的尺寸。
c、溢流管8的数量与防溢坝5的数量相同,溢流管8的形状为Z字形,其上部贯穿并延伸至池体1侧壁的内顶部,下部贯穿防溢坝5并延伸至缓冲区6的内部,且相互连通。密封室96的内部设置有卡块结构,该卡块结构的尺寸小于两极磁块97的底部尺寸,可起到限制两极磁块97的作用,防止其脱离预定位置。
其中:
d、分流管95贯穿并延伸至池体1的外侧,呈斜向上的角度倾斜,分流管95的中部与U型管91连通,远离池体1的另一端贯穿并延伸至密封室96的内部。防溢坝5的主要材质为疏水、耐腐蚀材料,其内部镶嵌有钢筋结构的加固网,保证装置在使用时结构的稳定。
e、两极磁块97由上下两部分组成,上部的磁极为S极,下部的磁极为N极,并且S极与N极的磁块长度相同。活动磁块99由左右两部分组成,左部为复位弹簧,右部为磁体,磁体的极性为S极,并且复位弹簧与定位管98固定连接,磁体贯穿并延伸至限位管92的内部。
f、定位管98的长度与两极磁块97的长度相适配,且定位管98的尺寸大于两极磁块97的最大运动行程;活动磁块99位置位于定位管98的中部。池体1的顶部高度与防溢坝5的顶部高度相同,二者相互接触并固定连接,连接处通过绝水胶进行密封,有效防止水分的浸入,保证装置使用时的安全性。
在使用时,打开进水阀3,通过进水管2往池体1内排水,正常状态下池体1内的水位持续增高并最终升高至与溢流管8齐平,由于溢流管8的数量与防溢坝5的数量相同,溢流管8的形状为Z字形,其上部贯穿并延伸至池体1侧壁的内顶部,下部贯穿防溢坝5并延伸至缓冲区6的内部,且相互连通,所以此时水经过溢流管8进入防溢坝5的缓冲区6内,此时池体1内的水位接近极限值。
上述结构及过程请参阅图1。
由于防溢坝5的内顶部设置为向下倾斜状,防溢板7的主要材质为疏水、具备浮性材料,其底部形状为向上倾斜状,并且该形状与防溢坝5的内顶部形状适配,所以随着缓冲区6内的水位升高,在浮力的作用下防溢板7开始向上运动,同时水经过分流管95开始进入U型管91和密封室96内,使U型管91和密封室96内的压力增加,并通过压力使活动触点93和两极磁块97向上运动。此时防溢板7的高度逐渐增加,可防止池体1内的液体溢出。
由于两极磁块97由上下两部分组成,上部的磁极为S极,下部的磁极为N极,并且S极与N极的磁块长度相同。活动磁块99由左右两部分组成,左部为复位弹簧,右部为磁体,磁体的极性为S极,并且复位弹簧与定位管98固定连接,磁体贯穿并延伸至限位管92的内部,并且活动磁块99位置位于定位管98的中部,所以当两极磁块97向上运动时,两极磁块97中的S极可在上升过程中利用同极相斥的原理,将活动磁块99推进限位管92的内部,随着两极磁块97和活动触点93的上升,当两极磁块97中的N极与活动磁块99在同一平面上时,可将活动磁块99向定位管98的一侧吸引,即此时活动磁块99从限位管92的内部脱离,此时活动触点93与固定触点94接触。
由于进液自控机构9和排液自控机构10的规格及内部结构完全相同,进液自控机构9的活动触点93和固定触点94与进水阀3的外置电机电性连接,排液自控机构10的活动触点93和固定触点94与排水管4的外置水泵电连接,所以此时进液自控机构9自动控制与进水阀3的外置电机关闭,停止排水;同时排液自控机构10自动控制排水管4的外置水泵启动,将池体1内的液体抽出。
随着池体1内液体水位的持续降低并最终低于溢流管8的高度时,缓冲区6内不在持续进水,随着时间的增加,缓冲区6内部的水分逐渐蒸发,水位逐渐降低,防溢板7的高度开始下降,上述过程中的各结构逐渐恢复至原有位置。
通过使分流管95呈斜向上的角度倾斜,可在缓冲区6内的水位下降过程中,利用高度差使U型管91和密封室96内的液体更快流出。
上述结构及过程请参阅图2-5。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,包括池体(1),其特征在于:所述池体(1)的左侧固定连接有进水管(2),所述进水管(2)的外侧活动连接有进水阀(3),所述池体(1)的右侧固定连接有排水管(4),所述池体(1)的外侧设置有防溢坝(5),所述防溢坝(5)的内部设置有缓冲区(6),所述缓冲区(6)的内部活动连接有防溢板(7),所述防溢坝(5)的外侧固定连接有溢流管(8),所述防溢坝(5)的外侧分别设置有进液自控机构(9)和排液自控机构(10);
所述进液自控机构(9)包括U型管(91),所述U型管(91)的外侧固定连接有限位管(92),所述限位管(92)的内部活动连接有活动触点(93),所述限位管(92)的内部固定连接有固定触点(94),所述限位管(92)的底部固定连接有分流管(95),所述限位管(92)的外侧活动连接有密封室(96),所述密封室(96)的内部活动连接有两极磁块(97),所述密封室(96)的上方活动连接有定位管(98),所述定位管(98)的外侧活动连接有活动磁块(99)。
2.根据权利要求1所述的一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,其特征在于:所述进水阀(3)与外置电机电性连接,所述排水管(4)的外侧设置有外置水泵且二者电连接;所述进液自控机构(9)和排液自控机构(10)的规格及内部结构完全相同,进液自控机构(9)的活动触点(93)和固定触点(94)与进水阀(3)的外置电机电性连接,排液自控机构(10)的活动触点(93)和固定触点(94)与排水管(4)的外置水泵电连接。
3.根据权利要求1所述的一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,其特征在于:所述防溢坝(5)、缓冲区(6)和防溢板(7)设置为不少于两个且数量相同;防溢坝(5)的内顶部设置为向下倾斜状,所述防溢板(7)的主要材质为疏水、具备浮性材料,其底部形状为向上倾斜状,并且该形状与防溢坝(5)的内顶部形状适配。
4.根据权利要求1所述的一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,其特征在于:所述溢流管(8)的数量与防溢坝(5)的数量相同,溢流管(8)的形状为Z字形,其上部贯穿并延伸至池体(1)侧壁的内顶部,下部贯穿防溢坝(5)并延伸至缓冲区(6)的内部,且相互连通。
5.根据权利要求1所述的一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,其特征在于:所述分流管(95)贯穿并延伸至池体(1)的外侧,呈斜向上的角度倾斜,分流管(95)的中部与U型管(91)连通,远离池体(1)的另一端贯穿并延伸至密封室(96)的内部。
6.根据权利要求1所述的一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,其特征在于:所述两极磁块(97)由上下两部分组成,上部的磁极为S极,下部的磁极为N极,并且所述S极与N极的磁块长度相同。
7.根据权利要求1所述的一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,其特征在于:所述活动磁块(99)由左右两部分组成,左部为复位弹簧,右部为磁体,所述磁体的极性为S极,并且所述复位弹簧与定位管(98)固定连接,所述磁体贯穿并延伸至限位管(92)的内部。
8.根据权利要求1所述的一种服装生产漂洗沉淀池用隐藏式自排水防溢装置,其特征在于:所述定位管(98)的长度与两极磁块(97)的长度相适配,且定位管(98)的尺寸大于两极磁块(97)的最大运动行程;所述活动磁块(99)位置位于定位管(98)的中部。
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