CN111662528A - 一种基于pmma/pc的超薄复合光学膜及其制备方法、应用 - Google Patents

一种基于pmma/pc的超薄复合光学膜及其制备方法、应用 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，属于光学膜制备技术领域。一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列原料：光学级PMMA、光学级、表面改性剂、增韧剂、消泡剂、改性抗静电剂、分散剂、平流剂。本发明采用采用熔融共混挤出及配方的改进，有效控制不同熔体层之间的流动，使其均匀分布，增强结合性，显著改善了材料的抗冲击强度及韧性，克服PMMA不易加工特性，提升光学薄膜的光学性能；采用采用同步光学双向拉伸，确保连续制造中的产品一致性，且实现了有效幅宽2.5m超薄复合光学膜生产，本发明的PMMA/PC的超薄复合光学膜，30‑50um厚度，厚度均一，透过率高，抗冲击性和韧性良好。

Description

一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜及其制备方法、应用
技术领域
本发明涉及光学薄膜及其成型工艺，尤其涉及一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜及其制备方法、应用。
背景技术
目前，液晶显示是主流的平板显示技术，被广泛应用于液晶电视、笔记本电脑、显示器和手机等领域。而在整个TFT-LCD生产过程中，光学薄膜的需求总面积大约是面板的15-20倍，成本约占液晶面板的15-20％。与此同时，国内触摸屏行业爆发式增长，促使光学薄膜的需求量迅猛提高，光学薄膜已成为光电产业链前端最为重要的战略原材料之一。
随着全球液晶面板企业成本压力日益加大，面板企业对产业链上成本占比较高，产品利润率较高的光学膜环节价格下降的诉求日益强烈，因此国内光学膜企业在产品质量逐步向国际先进水平接近的同时，生产成本较低、性能优异、供货响应快速的光学膜将是大势所趋。
专利CN1218738A双轴取向聚酯膜及其制备方法，将玻璃化转变温度的下的聚酯，在通过纵向和横向顺序进行多次双轴取向，或者采用同时双轴取向来进行多次拉伸，来获得高性能的聚酯薄膜，这种需经多次拉伸的方法繁琐，而且容易引起膜撕裂、厚度不一的现象。
专利CN1984764取向聚酯膜，采用了至少在一个方向进行了拉伸，所得膜的厚度为12～250μm，对于光学膜来讲，这种制备方法所得的膜过于厚，达不到光学薄膜要求。
PMMA是一种脆性高分子材料，在制膜的过程中容易脆裂，在拉伸过程中的容易烂边。
发明内容
针对上述存在的问题，本发明的第一个目的是提供一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，通过调节原材料的种类及配比来达到与后续制备设备高度契合，这种膜很薄，厚度均一，具有很高的透过率，抗冲击性和韧性良好。
本发明的另一个目的是提供一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，采用熔融共混挤出、压延、同步光学双向拉伸、水冷、涂布及干燥操作，可实现有效幅宽2.5m超薄复合光学膜生产，方法简单，实用性强。
本发明的另一个目的是提供一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的应用，其主要应用于各类显示面板。
为了解决上述技术问题所采取的技术方案为：
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量份的原料：
光学级PMMA 5-10份、光学级PC 5-10份、表面改性剂0.05-0.1份、增韧剂0.05-0.1份、消泡剂0.02-0.03份、改性抗静电剂0.02-0.03份、分散剂0.01-0.03份、平流剂0.01-0.03份。
进一步地，所述改性抗静电剂由重量百分比为10％三氟甲烷磺酰亚胺锂和90％ASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
进一步地，所述表面改性剂包括为十二烷基苯磺酸钠、烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪酸甘油酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯中的至少一种；所述增韧剂为聚丁二烯橡胶、丁腈橡胶中的至少一种；所述消泡剂为聚硅氧烷；所述分散剂为四乙二醇单硬脂酸酯、十六烷基三甲基溴化铵、烷基酚聚氧乙烯基醚、卵磷脂、十六醇中的至少一种；所述平流剂为氟化聚乙烯。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量份的光学级PMMA、光学级PC、表面改性剂、增韧剂、消泡剂、改性抗静电剂、分散剂、平流剂在高速混合机中进行20-30min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中熔融挤出，挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.利用同步光学双向拉伸将薄片拉伸成薄膜；
S4.将水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜。
进一步地，所述超薄复合光学膜的厚度为30～50μm。
进一步地，所述S1中所述搅拌速率为600-800rpm；所述S2中双螺杆挤出分三段升温区，第一段：100-150℃；第二段：200-250℃；第三段：300-380℃；挤出磨口温度为380℃。
进一步地，所述S3中所述同步光学双向拉伸具体为：在130～150℃下，与薄片前进方向成0°-90°方向上进行55-60m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜。
进一步地，所述S3中所述同步光学双向拉伸具体为：在130～150℃下，与薄片前进方向成65°-85°方向上进行55-60m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜。
进一步地，所述水溶性UV的固含为30-40％。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜可用于显示面板。
本发明至少包括以下有益效果：
1、本发明采用的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，采用熔融共混挤出及配方的改进，有效控制不同熔体层之间的流动，使其均匀分布，简化控制工艺，同时提高熔体层界面均匀分布，增强结合性，显著改善了材料的抗冲击强度及韧性，克服PMMA不易加工特性，提升光学薄膜的光学性能。
2、本发明采用的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，采用采用同步光学双向拉伸，确保连续制造中的产品一致性，且实现了有效幅宽2.5m超薄复合光学膜生产，使膜达到了超薄30-50um厚度。
3、本发明采用的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，通过调节原材料的种类及配比来达到与后续制备设备高度契合，这种膜很薄，厚度均一，具有很高的透过率，抗冲击性和韧性良好。
4、本发明采用的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，采用三氟甲烷磺酰亚胺锂和ASA的交联产物作为抗静电剂，这种抗静电剂加入到本发明的原料中所制得的薄膜不仅具有抗静电性，在一定程度上也可以进一步提高膜强度和可挠性，且吸水性低。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
应当理解，本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不配出一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。
实施例1
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 5Kg、光学级PC 5Kg、十二烷基苯磺酸钠0.05Kg、聚丁二烯橡胶0.05Kg、聚硅氧烷0.02Kg、改性抗静电剂0.02Kg、四乙二醇单硬脂酸酯0.01Kg、氟化聚乙烯0.01Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.002Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.018ASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、十二烷基苯磺酸钠、聚丁二烯橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、四乙二醇单硬脂酸酯、氟化聚乙烯在高速混合机中进行600rpm、20min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：100℃；第二段：200℃；第三段：300℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在130℃下，与薄片前进方向成65°方向上进行55m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为30％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为30μm。
实施例2
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 8Kg、光学级PC 8Kg、十二烷基苯磺酸钠0.08Kg、聚丁二烯橡胶0.08Kg、聚硅氧烷0.025Kg、改性抗静电剂0.025Kg、四乙二醇单硬脂酸酯0.02Kg、氟化聚乙烯0.02Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.0025Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.0225KgASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、十二烷基苯磺酸钠、聚丁二烯橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、四乙二醇单硬脂酸酯、氟化聚乙烯在高速混合机中进行600rpm、20min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：100℃；第二段：200℃；第三段：300℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在130℃下，与薄片前进方向成75°方向上进行55m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为30％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为40μm。
实施例3
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 10Kg、光学级PC 10Kg、十二烷基苯磺酸钠0.1Kg、聚丁二烯橡胶0.1Kg、聚硅氧烷0.03Kg、改性抗静电剂0.03Kg、四乙二醇单硬脂酸酯0.03Kg、氟化聚乙烯0.03Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.003Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.027KgASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、十二烷基苯磺酸钠、聚丁二烯橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、四乙二醇单硬脂酸酯、氟化聚乙烯在高速混合机中进行600rpm、20min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：100℃；第二段：200℃；第三段：300℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在130℃下，与薄片前进方向成85°方向上进行55m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为30％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为50μm。
实施例4
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 10Kg、光学级PC 10Kg、脂肪酸甘油酯0.1Kg、丁腈橡胶0.1Kg、聚硅氧烷0.03Kg、改性抗静电剂0.03Kg、四乙二醇单硬脂酸酯0.03Kg、氟化聚乙烯0.03Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.003Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.027KgASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、脂肪酸甘油酯、丁腈橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、四乙二醇单硬脂酸酯、氟化聚乙烯在高速混合机中进行600rpm、20min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：100℃；第二段：200℃；第三段：300℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在130℃下，与薄片前进方向成85°方向上进行55m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为30％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为49μm。
实施例5
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 10Kg、光学级PC 10Kg、脂肪酸甘油酯0.1Kg、丁腈橡胶0.1Kg、聚硅氧烷0.03Kg、改性抗静电剂0.03Kg、四乙二醇单硬脂酸酯0.03Kg、氟化聚乙烯0.03Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.003Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.027KgASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、脂肪酸甘油酯、丁腈橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、四乙二醇单硬脂酸酯、氟化聚乙烯在高速混合机中进行600rpm、20min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：150℃；第二段：280℃；第三段：380℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在130℃下，与薄片前进方向成85°方向上进行55m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为30％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为48μm。
实施例6
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 10Kg、光学级PC 10Kg、烷基酚聚氧乙烯醚0.1Kg、丁腈橡胶0.1Kg、聚硅氧烷0.03Kg、改性抗静电剂0.03Kg、十六烷基三甲基溴化铵0.03Kg、氟化聚乙烯0.03Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.003Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.027KgASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、烷基酚聚氧乙烯醚、丁腈橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、十六烷基三甲基溴化铵、氟化聚乙烯在高速混合机中进行600rpm、20min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：150℃；第二段：280℃；第三段：380℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在130℃下，与薄片前进方向成85°方向上进行55m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为30％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为45μm。
实施例7
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 10Kg、光学级PC 10Kg、烷基酚聚氧乙烯醚0.1Kg、丁腈橡胶0.1Kg、聚硅氧烷0.03Kg、改性抗静电剂0.03Kg、十六烷基三甲基溴化铵0.03Kg、氟化聚乙烯0.03Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.003Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.027KgASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、烷基酚聚氧乙烯醚、丁腈橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、十六烷基三甲基溴化铵、氟化聚乙烯在高速混合机中进行600rpm、20min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：120℃；第二段：230℃；第三段：350℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在130℃下，与薄片前进方向成85°方向上进行55m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为30％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为46μm。
实施例8
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 10Kg、光学级PC 10Kg、烷基酚聚氧乙烯醚0.1Kg、丁腈橡胶0.1Kg、聚硅氧烷0.03Kg、改性抗静电剂0.03Kg、十六烷基三甲基溴化铵0.03Kg、氟化聚乙烯0.03Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.003Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.027KgASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、烷基酚聚氧乙烯醚、丁腈橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、十六烷基三甲基溴化铵、氟化聚乙烯在高速混合机中进行600rpm、20min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：120℃；第二段：230℃；第三段：350℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在130℃下，与薄片前进方向成85°方向上进行55m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为35％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为48μm。
实施例9
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 10Kg、光学级PC 10Kg、烷基酚聚氧乙烯醚0.1Kg、丁腈橡胶0.1Kg、聚硅氧烷0.03Kg、改性抗静电剂0.03Kg、十六烷基三甲基溴化铵0.03Kg、氟化聚乙烯0.03Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.003Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.027KgASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、烷基酚聚氧乙烯醚、丁腈橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、十六烷基三甲基溴化铵、氟化聚乙烯在高速混合机中进行600rpm、20min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：120℃；第二段：230℃；第三段：350℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在150℃下，与薄片前进方向成85°方向上进行60m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为35％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为45μm。
实施例10
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 10Kg、光学级PC 10Kg、烷基酚聚氧乙烯醚0.1Kg、丁腈橡胶0.1Kg、聚硅氧烷0.03Kg、改性抗静电剂0.03Kg、十六烷基三甲基溴化铵0.03Kg、氟化聚乙烯0.03Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.003Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.027KgASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、烷基酚聚氧乙烯醚、丁腈橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、十六烷基三甲基溴化铵、氟化聚乙烯在高速混合机中进行800rpm、30min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：120℃；第二段：230℃；第三段：350℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在150℃下，与薄片前进方向成85°方向上进行60m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为35％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为45μm。
实施例11
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 10Kg、光学级PC 10Kg、烷基酚聚氧乙烯醚0.1Kg、丁腈橡胶0.1Kg、聚硅氧烷0.03Kg、改性抗静电剂0.03Kg、烷基酚聚氧乙烯基醚0.03Kg、氟化聚乙烯0.03Kg；所述改性抗静电剂由重量百分比为0.003Kg三氟甲烷磺酰亚胺锂和0.027KgASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、烷基酚聚氧乙烯醚、丁腈橡胶、聚硅氧烷、改性抗静电剂、烷基酚聚氧乙烯基醚、氟化聚乙烯在高速混合机中进行800rpm、30min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：120℃；第二段：230℃；第三段：350℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在150℃下，与薄片前进方向成85°方向上进行60m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为40％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为46μm。
对比例1
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，包括下列重量的原料：
光学级PMMA 10Kg、光学级PC 10Kg、烷基酚聚氧乙烯醚0.1Kg、丁腈橡胶0.1Kg、聚硅氧烷0.03Kg、三氟甲烷磺酰亚胺锂0.03Kg、烷基酚聚氧乙烯基醚0.03Kg、氟化聚乙烯0.03Kg。
一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，包括下列步骤：
S1.将所述重量的光学级PMMA、光学级PC、表面改性剂、增韧剂、消泡剂、抗静电剂、分散剂、平流剂在高速混合机中进行800rpm、30min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中进行升温熔融挤出，所述双螺杆挤出分三段升温区，第一段：120℃；第二段：230℃；第三段：350℃；挤出磨口温度为380℃；挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.在150℃下，与薄片前进方向成85°方向上进行60m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，来改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜；
S4.将固含为40％的水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜，厚度为46μm。
所述所有实施例在同步光学双向拉伸过程中，可实现有效幅宽2.5m超薄复合光学膜生产，使膜达到了超薄30-50um厚度。
对实施例1-11和对比例1所得薄膜进行相关性能检测，吸水性的测试标准为JISK7209，结果如下表1所示。
膜平坦性的测试方法为：将膜样品和通用氯乙烯类树脂用由增塑剂构成的粘合剂粘着，在温度160℃、压力30kg/cm2、时间30min的条件下使用压辊进行压接。将试样尺寸作成25cmX25cm，在相对湿度85％、65℃的环境下，放置在平台上100小时后，观测4角的卷曲状态。测定4角的翘曲量(mm)的平均值，低于10mm的翘曲量表示合格。
膜强度的测试方法按照ASTM D882-2018执行；在25℃下，湿度50％，用MCP-T600电阻率计测试膜表面电阻，测试以JIS K7194执行。
表1超薄复合光学膜性能测试结果
Figure BDA0002581597750000121
Figure BDA0002581597750000131
从实施例11和对比例1可以看出，改性抗静电剂不仅具有抗静电性，在一定程度上也可以进一步提高膜强度和可挠性，且吸水性低。
尽管本发明的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本发明的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本发明并不限于特定的细节和这里示出与描述的实例。

Claims (10)

1.一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，其特征在于，包括下列重量份的原料：
光学级PMMA 5-10份、光学级PC 5-10份、表面改性剂0.05-0.1份、增韧剂0.05-0.1份、消泡剂0.02-0.03份、改性抗静电剂0.02-0.03份、分散剂0.01-0.03份、平流剂0.01-0.03份。
2.如权利要求1所述的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，其特征在于，所述改性抗静电剂由重量百分比为10％三氟甲烷磺酰亚胺锂和90％ASA组成，具体为：将ASA微波加热至350℃，取出，继续在350℃下加入三氟甲烷磺酰亚胺锂，1000rpm下搅拌30min，自然冷却，粉碎，过500目筛，即得改性抗静电剂。
3.如权利要求1所述的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜，其特征在于，所述表面改性剂包括为十二烷基苯磺酸钠、烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪酸甘油酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯中的至少一种；所述增韧剂为聚丁二烯橡胶、丁腈橡胶中的至少一种；所述消泡剂为聚硅氧烷；所述分散剂为四乙二醇单硬脂酸酯、十六烷基三甲基溴化铵、烷基酚聚氧乙烯基醚、卵磷脂、十六醇中的至少一种；所述平流剂为氟化聚乙烯。
4.如权利要求1-3任一项所述的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，其特征在于，包括下列步骤：
S1.将所述重量份的光学级PMMA、光学级PC、表面改性剂、增韧剂、消泡剂、改性抗静电剂、分散剂、平流剂在高速混合机中进行20-30min搅拌混合，得混合料；
S2.将混合料放入双螺杆挤出机中熔融挤出，挤出后氮气保护送至压延设备压延成厚度为1mm的薄片；
S3.利用同步光学双向拉伸将薄片拉伸成薄膜；
S4.将水溶性UV涂布于薄膜上干燥，即得超薄复合光学膜。
5.如权利要求4所述的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述超薄复合光学膜的厚度为30～50μm。
6.如权利要求4所述的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述S1中所述搅拌速率为600-800rpm；所述S2中双螺杆挤出分三段升温区，第一段：100-150℃；第二段：200-250℃；第三段：300-380℃；挤出磨口温度为380℃。
7.如权利要求4所述的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述S3中所述同步光学双向拉伸具体为：在130～150℃下，与薄片前进方向成0°-90°上进行55-60m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜。
8.如权利要求7所述的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述S3中所述同步光学双向拉伸具体为：在130～150℃下，与薄片前进方向成65°-85°方向上进行55-60m/min左右侧向拉伸的同时进行垂直拉伸，改变薄片材料分子排列结构；然后经过水冷将膜的温度降至室温，成薄膜。
9.如权利要求4所述的一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的制备方法，其特征在于，所述水溶性UV的固含为30-40％。
10.一种基于PMMA/PC的超薄复合光学膜的应用，其特征在于，用于显示面板。
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