CN111640880A - 有机el显示面板及有机el显示面板的制造方法 - Google Patents

有机el显示面板及有机el显示面板的制造方法 Download PDF

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Abstract

实现对发光元件的供电路径的低电阻化并改善因电压下降引起的面内亮度差异的有机EL显示面板及其制造方法。依次具备：配置于基板(100x)上并包含树脂材料的平坦化层(118)、呈行列状的多个像素电极(119)、包含有机发光材料的发光层(123)及至少覆盖发光层(123)的上方且在平面方向上连续的公共电极(125)，在平坦化层(118)上的行方向相邻的像素电极(119)间至少一个间隙中沿列方向延伸地开设有长条状的凹部(118a)，公共电极(125)在平坦化层(118)的凹部(118a)内连续，在凹部(118a)内的公共电极(125)的上表面配置有由在列方向上延伸的涂布膜构成的供电辅助布线(128Y)。

Description

有机EL显示面板及有机EL显示面板的制造方法
技术领域
本公开涉及利用了有机材料的电场发光现象的有机EL(Electro Luminescence：电致发光)显示面板及其制造方法。
背景技术
以往，已知有包括多个有机EL元件的有机EL显示面板。有机EL元件具有层叠各种材料的薄膜而得的多层结构，在被平坦化绝缘层覆盖的TFT(薄膜晶体管：Thin FilmTransistor)基板上至少具备像素电极、公共电极和夹在它们之间的有机发光层。
有机EL元件在像素电极与公共电极之间施加电压，并伴随注入到发光层的空穴与电子的再结合而发光。在顶部发光型的有机EL元件中，来自发光层的光被由光反射性材料构成的像素电极反射，并且从由透光性材料构成的公共电极向上方射出。公共电极大多遍及基板整面地成膜，经由设置于除图像显示区域以外的周边区域的电极板而与用于向有机EL元件供给电流的供电部电连接。
此时，在公共电极的电阻大的情况下，针对伴随着显示面板的中央部分上的电压下降而产生的亮度降低，提出了例如在与像素电极同一层设置横穿显示面板内的供电辅助布线来实现公共电极的低电阻化的方法(例如专利文献1～2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2006-278212号公报
专利文献2：日本特开2007-227129号公报。
发明内容
发明要解决的课题
然而，在专利文献1或2所记载的以往的显示面板中，随着显示面板的大型化，有时会产生因中央部分上的电压下降而引起的面内的亮度差异，需要向发光元件供电的供电路径的进一步低电阻化。
本公开鉴于上述课题而做出，其目的在于提供一种有机EL显示面板及其制造方法，该有机EL显示面板在有机EL面板中实现向发光元件供电的供电路径的低电阻化，改善因电压下降引起的面内的亮度差异。
用于解决课题的方案
为了达到上述目的，本公开的一方案所涉及的有机EL显示面板的特征在于，具备：基板；平坦化层，配置于所述基板的上表面并包含树脂材料；多个像素电极，在所述平坦化层上配置成行列状；发光层，配置于所述像素电极上并包含有机发光材料；以及公共电极，至少覆盖所述发光层的上方并在平面方向上连续地配置，在所述平坦化层上的在行方向上相邻的所述像素电极的间隙中的至少一个间隙中以沿列方向延伸的方式开设有长条状的凹部，所述公共电极以在所述平坦化层的所述凹部内连续的方式配置，在位于所述平坦化层的所述凹部内的所述公共电极的上表面配置有由在列方向上延伸的涂布膜构成的供电辅助布线。
发明的效果
根据本公开的一方案所涉及的显示面板以及显示面板的制造方法，能够在有机EL面板中实现向发光元件供电的供电路径的低电阻化，改善因电压下降引起的面内的亮度差异。
附图说明
图1是实施方式1所涉及的有机EL显示面板10的俯视图。
图2是图1中的A部的示意俯视图。
图3是沿图2中的X1-X1剖开后的示意截面图。
图4的(a)是图1中的B部的示意俯视图，图4的(b)是图1中的B部的另一方案的示意俯视图。
图5的(a)是沿图4的(a)中的X2-X2剖开后的示意剖视图。图5的(b)是沿图4的(a)中的X3-X3剖开后的示意剖视图。
图6是有机EL显示面板10的制造工序的流程图。
图7的(a)至(e)是示出在有机EL显示面板10的制造中的各工序下的状态的、在与图2中的X1-X1相同的位置处剖开后的示意截面图。
图8的(a)至(d)是示出在有机EL显示面板10的制造中的各工序下的状态的、在与图2中的X1-X1相同的位置处剖开后的示意截面图。
图9的(a)至(d)是示出在有机EL显示面板10的制造中的各工序下的状态的、在与图2中的X1-X1相同的位置处剖开后的示意截面图。
图10的(a)至(c)是示出在有机EL显示面板10的制造中的各工序下的状态的、在与图2中的X1-X1相同的位置处剖开后的示意截面图。
图11是将变形例1所涉及的显示面板10A在与图2中的X1-X1相同的位置处剖开后的示意截面图。
图12的(a)是变形例2所涉及的显示面板10B中的与图1的B部相同的范围的示意俯视图，图12的(b)是变形例3所涉及的显示面板10C中的与图1的B部相同的范围的示意俯视图。
图13是显示面板10B的像素区域10a的一部分的示意俯视图。
图14是显示面板10C的像素区域10a的一部分的示意俯视图。
图15是示出实施方式所涉及的有机EL显示装置1的电路构成的示意框图。
图16是示出在有机EL显示装置中使用的有机EL显示面板10的各子像素100se中的电路构成的示意电路图。
符号说明
1、有机EL显示装置；10、10A、10B、10C、有机EL显示面板；10a、图像显示区域；10b、周边区域；100、有机EL元件；100ar、有机EL元件阵列；100e、单位像素；100R、100B、100G、各色有机EL元件；100se、子像素；100a、自发光区域；100b、非自发光区域；100x、基板(TFT基板)；118、平坦化层；118a、118aB、凹部；119、像素电极(反射电极)；120、空穴注入层；121、空穴输送层；122、堤；122X、522XB、行堤；522Y、列堤；522z(522zR、522zG、522zB、522zA)、间隙；123(123R、123G、123B)、发光层；124、电子输送层；125、公共电极；126、密封层；127、接合层；128Y、128XB、供电辅助布线；129Y、129XB、下层供电辅助布线；130、上部基板；131、前面板；132、滤色器层；133、遮光层；1201、金属氧化物层。
具体实施方式
本发明的实施方式概要
本公开的实施方式所涉及的显示面板的特征在于，具备：基板；平坦化层，配置于所述基板的上表面并包含树脂材料；多个像素电极，在所述平坦化层上配置成行列状；发光层，配置于所述像素电极上并包含有机发光材料；以及公共电极，至少覆盖所述发光层的上方并在平面方向上连续地配置，在所述平坦化层上的在行方向上相邻的所述像素电极的间隙中的至少一个间隙中以沿列方向延伸的方式开设有长条状的凹部，所述公共电极以在所述平坦化层的所述凹部内连续的方式配置，在位于所述平坦化层的所述凹部内的所述公共电极的上表面配置有由在列方向上延伸的涂布膜构成的供电辅助布线。
通过这样的构成，形成于凹部的辅助布线能够确保与凹部沿行方向剖切而得的截面形状等价的横截面积，能够在有机EL面板中实现向发光元件供电的供电路径的低电阻化，改善因电压下降引起的面内的亮度差异。另外，能够改善因在显示面板的中央部分上的响应性降低引起的串扰，提高显示品质。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，进一步在所述平坦化层上的所述凹部与和所述凹部在行方向的两侧分别相邻的所述像素电极之间以沿列方向延伸的方式形成有两条长条状的列堤，所述平坦化层的所述凹部的深度比所述列堤的高度大。
通过这样的构成，辅助布线通过具备预定的厚度而能够使辅助布线的电阻降低。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，进一步在所述平坦化层的所述凹部内且在所述公共电极的下方配置有由沿列方向延伸的蒸镀膜构成的下层供电辅助布线。
通过这样的构成，在行方向上与凹部相邻的列堤的截面可以形变为在行方向上等价的形状。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，进一步在所述平坦化层上具备电极板，该电极板在俯视观察中在所述像素电极所存在的区域的外方沿着所述基板的周缘延伸，所述平坦化层的所述凹部在俯视观察中一直开设至所述基板的周缘附近，所述电极板以在所述平坦化层的所述凹部内连续的方式配置，所述供电辅助布线在俯视观察中延伸至所述电极板的上表面。
通过这样的构成，形成于凹部的供电辅助布线在通过具备预定的厚度而确保了与凹部的截面积相当的截面积的状态下延伸至基板的周缘。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，所述公共电极在俯视观察中延伸至所述电极板的上表面。
通过这样的构成，形成于凹部的供电辅助布线在通过具备预定的厚度而确保了与凹部的截面积相当的截面积的状态下与存在于基板的周缘的电极板连接而与外部连接端子连接。因此，能够实现从电极板到有机EL元件阵列为止的供电路径的低电阻化。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，所述平坦化层的所述凹部一直开设至在俯视观察中位于所述像素电极所存在的区域的外方且相比于所述电极板基板靠内方的终点，所述供电辅助布线在俯视观察中延伸至所述终点，所述公共电极在俯视观察中延伸至所述电极板的上表面。
通过这样的构成，在周边区域中，供电辅助布线经由公共电极与电极板电连接，能够实现从电极板到有机EL元件阵列为止的供电路径的低电阻化。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，所述平坦化层的所述凹部的深度为2μm以上且5μm以下，所述供电辅助布线包含银，厚度为0.5μm以上且2μm以下。
通过这样的构成，辅助布线通过设为上述的厚度而能够使辅助布线的电阻降低。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，在将所述凹部设为第一凹部、将所述供电辅助布线设为第一供电辅助布线时，进一步在所述平坦化层上的在列方向上相邻的所述像素电极的间隙中的至少一个间隙中以沿行方向延伸的方式开设有长条状的第二凹部，所述公共电极以在所述平坦化层的所述第二凹部内连续的方式配置，在位于所述平坦化层的所述第二凹部内的所述公共电极的上表面配置有由沿行方向延伸的涂布膜构成的第二供电辅助布线。
通过这样的构成，除了列方向以外在行方向上也能够降低辅助布线的电阻，能够减少因电压下降而引起的面内的亮度差异。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，所述第二凹部及所述第二供电辅助布线的列方向位置根据在列方向上夹持着被开设所述第二凹部的间隙的所述像素电极的行方向的位置而不同。
通过这样的构成，由于构成所谓的交错格子状，因此能够使因存在供电辅助布线而引起的列方向上的亮度差异(横向条纹)不明显。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，所述第二凹部及所述第二供电辅助布线在列方向上按每多个像素电极而配置。
通过这样的构成，能够抑制列方向上的每个子像素的油墨的涂布差异所引起的亮度差异的产生。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，在所述平坦化层上的所述第二凹部与和所述第二凹部在列方向的两侧分别相邻的所述像素电极之间以沿行方向延伸的方式形成有两条长条状的行堤，所述行堤的高度比所述第二凹部的深度小。
通过这样的构成，在发光层的形成工序中，当将包含有机发光材料的油墨涂布于列堤间的间隙内时，能够通过行堤来拦截所涂布的油墨。因此，能够防止油墨从间隙内流入到铺设辅助布线的凹部内。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，所述像素电极及所述下层供电辅助布线由蒸镀膜构成，所述像素电极和所述下层供电辅助布线由相同的材料构成。
通过这样的构成，能够在制造时同时对所述像素电极和所述下层供电辅助布线进行制膜及图案化。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，所述公共电极由蒸镀膜构成，并以在所述列堤的上方连续的方式形成。
通过这样的构成，能够实现公共电极在所述平坦化层的所述凹部内连续配置的结构。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，在将所述列堤作为第一列堤时，进一步在所述平坦化层上的在行方向上相邻的所述像素电极与所述像素电极之间以沿列方向延伸的方式形成有长条状的第二列堤，所述有机发光层由涂布膜构成，并以在所述第一列堤与第二列堤的间隙内以及在行方向上相邻的所述第二列堤之间的间隙内在列方向上连续的方式配置。
通过这样的构成，即使设置有在列方向上在基板内延伸的供电辅助电极的情况下，也能够抑制列方向上的每个子像素的油墨的涂布差异所引起的亮度差异的产生。
本发明的实施方式所涉及的显示面板的制造方法可以构成为，具有：准备基板的工序；形成平坦化层的工序，该平坦化层配置于所述基板的上表面并包含树脂材料；形成像素电极的工序，在所述平坦化层上以行列状形成多个像素电极；形成发光层的工序，该发光层配置于所述像素电极上并包含有机发光材料；以及配置公共电极的工序，以至少覆盖所述发光层的上方的方式在平面方向上连续地配置公共电极，在所述形成平坦化层的工序中，在所述平坦化层上的在行方向上相邻的应形成所述像素电极的区域的间隙中的至少一个间隙中以沿列方向延伸的方式开设长条状的凹部，在形成所述公共电极的工序中，以在所述平坦化层的所述凹部内连续的方式形成所述公共电极，进一步，在所述配置公共电极的工序之后进一步具有形成供电辅助布线的工序，在位于所述平坦化层的所述凹部内的所述公共电极的上表面形成由沿列方向延伸的涂布膜构成的供电辅助布线。
通过这样的构成，能够制造如下的有机EL面板：实现向发光元件供电的供电路径的低电阻化，改善因电压下降而引起的面内的亮度差异。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，在形成所述像素电极的工序之后且形成所述发光层的工序之前，进一步具有形成列堤的的工序，在所述平坦化层上的所述凹部与和所述凹部在行方向的两侧分别相邻的所述像素电极之间以沿列方向延伸的方式形成两条长条状的列堤，在所述形成供电辅助布线的工序中，通过在所述列堤之间的间隙涂布包含金属材料的油墨并进行干燥而形成所述供电辅助布线。
通过这样的构成，通过在间隙内存在凹部，即使在间隙内涂布较多的油墨，也能够防止油墨溢出到相邻的间隙而堵塞相邻的间隙内的发光层123。由此，能够防止油墨向子像素泄漏，并且能够增加辅助布线的厚度。
另外，在另一方案中，可以构成为，在上述的任一方案中，在所述形成像素电极的工序中，进一步在所述平坦化层的所述凹部内且在所述公共电极的下方形成由沿列方向延伸的蒸镀膜构成的下层供电辅助布线。
通过这样的构成，能够抑制伴随着油墨向与凹部在行方向上邻接的间隙溢出而产生的发光层堵塞。
实施方式
使用附图来对本实施方式所涉及的有机EL显示面板10(以后称为“显示面板10”)进行说明。需要注意的是，附图是示意图，其比例尺有时与实际不同。
＜显示面板10的整体构成＞
图1是实施方式1所涉及的显示面板10的俯视图。图2是图1中的A部的放大图。显示面板10是利用了有机材料的电场发光现象的有机EL(Electro Luminescence：电致发光)面板，多个有机EL元件被构成为排列成例如矩阵状。如该图所示，在俯视时，显示面板10具有图像显示区域(像素区域)10a和位于图像显示区域10a的基板外方的周边区域10b。
<显示面板10的图像显示区域10a的构成>
在图像显示区域10a中，多个单位像素100e排列成矩阵状。各个单位像素100e包括发光颜色不同的多个子像素100se，一个子像素100se由一个有机EL元件100构成。这些多个有机EL元件100以矩阵状排列在显示面板10的图像显示区域10a中，构成有机EL元件阵列100ar。如图2所示，在显示面板10的图像显示区域10a中，分别具有像素电极119并具备R、G、B子像素100se的单位像素100e配置成行列状，构成有机EL元件阵列100ar。
图2是示出显示面板10的图像显示区域10a内的一部分的示意俯视图，是表示拆除后述的发光层123、电子输送层124、公共电极125、密封层126、前面板131后的状态的图。这里，在本说明书中，将图2中的X方向、Y方向、Z方向分别设为显示面板10中的行方向、列方向、厚度方向。
显示面板10具有在形成有薄膜晶体管(TFT：Thin Film Transistor)的基板100x(TFT基板)上以行列状配置分别用于构成像素的多个有机EL元件100并从上面发出光的顶部发光型的结构。
显示面板10由配置有将基板100x上划分成矩阵状并规定RGB各色的发光单位的列堤522Y和行堤122X(总称为“堤122”)的图像显示区域10a构成。在显示面板10的图像显示区域10a中与有机EL元件100对应的子像素100se配置成行列状，各子像素100se形成发出红色光的100aR、发出绿色光的100aG、发出蓝色光100aB(在不作区分时记为“100a”)三种自发光区域100a中的任一个，并由与在行方向上排列的自发光区域100aR、100aG、100aB对应的三个子像素100se构成单位像素100e。
另外，在显示面板10中，多个像素电极119在基板100x上以分别沿行及列方向分开预定的距离的状态配置成行列状。像素电极119在俯视观察中为矩形形状，由光反射材料构成，与自发光区域100a对应。
在显示面板10中，堤122的形状采用所谓的线状的堤形式，在在行方向上邻接的两个像素电极119之间，沿行方向并排设置有多条各条在列方向(图2的Y方向)上延伸的列堤522Y。
另一方面，在在列方向上邻接的两个像素电极119之间，沿列方向并排设置有多条各条在行方向(图2的X方向)上延伸的行堤122X，形成行堤122X的区域由于在发光层123中不产生有机电致发光而成为非自发光区域100b。在非自发光区域100b设置有将像素电极119与TFT的源极S1连接的连接凹部(接触孔、图中没示出)。
将相邻的列堤522Y间定义为间隙522z，将与自发光区域100aR、100aG、100aB对应的间隙设为间隙522zR、522zG、522zB，将被间隙522zB和间隙522zR夹着并铺设有下层供电辅助布线129Y及供电辅助布线128Y(以后记为“下层辅助布线129Y”、“辅助布线128Y”)的间隙设为辅助间隙522zA(在不作区分时称为“间隙522z”)。
<图像显示区域10a中的各部的构成>
使用图3来对显示面板10中的有机EL元件100的构成进行说明。图3是沿图2中的X1-X1剖开后的示意截面图。
如图3所示，在显示面板10中，在Z轴方向下方构成有形成有薄膜晶体管的基板100x(TFT基板)，在其上层叠有平坦化层118、有机EL元件部、前面板131。有机EL元件部作为其主要的构成而由平坦化层118、像素电极119、空穴注入层120、空穴输送层121、有机发光层123、电子输送层124、公共电极125、密封层126各层构成。进一步，在平坦化层118之上形成有划分有机EL元件部的堤122。
(基板)
[基板100x]
基板100x是显示面板10的支撑部件，具有基材(图中没示出)和形成在基材上的TFT层(图中没示出)。
基材为显示面板10的支撑部件，为平板状。作为基材的材料，可以由具有电绝缘性的材料例如无碱玻璃、钠玻璃、聚碳酸酯系树脂、聚酯树脂、聚酰亚胺材料、氧化铝等绝缘性材料中的任一种形成。
TFT层在基材的表面按每个子像素设置，在各个TFT层形成有包括薄膜晶体管元件的子像素电路。TFT层由形成于基材上表面的电极、半导体层、绝缘层等多层构造构成。
[平坦化层118]
在基材上以及TFT层的上表面设置有平坦化层118。位于基板100x的上表面的平坦化层118确保TFT层与像素电极119之间的电绝缘性，并且即使在TFT层的上表面存在高低差也将其平坦化，具有抑制对形成像素电极119的基底面的影响的功能。作为平坦化层118的材料，例如能够使用聚酰亚胺系树脂、丙烯酸系树脂、硅氧烷系树脂、酚醛清漆型酚醛系树脂等有机绝缘材料；SiO(氧化硅)和/或SiN(氮化硅)等无机绝缘材料。在平坦化层118开设有用于将像素电极119与对应的TFT的子像素电路的源极S1连接的接触孔(图中没示出)。
(有机EL元件100)
[像素电极119]
在位于基板100x的图像显示区域10a的上表面的平坦化层118上与子像素100se对应地设置有像素电极119。
像素电极119用于向发光层123供给载流子，例如在作为阳极发挥功能的情况下，向发光层123供给空穴。作为金属层，由作为薄层电阻小、具有高光反射性的材料例如Ag(银)、Al(铝)、铝合金、Mo(钼)、APC(银、钯、铜的合金)等构成。像素电极119的厚度例如可以设为200nm以上且400nm以下。
像素电极119的形状例如是呈大致矩形形状的平板状。在平坦化层118的接触孔上形成有使像素电极119的一部分向基板100x方向凹入而成的像素电极119的连接电极(图中没示出)，在连接凹部的底处连接像素电极119和与对应的像素的源极S1连接的布线。
需要说明的是，也可以在像素电极119的表面进一步设置公知的透明导电膜。作为透明导电膜的材料，例如可以使用氧化铟锡(ITO)和/或氧化铟锌(IZO)。
[空穴注入层120]
在像素电极119上层叠有空穴注入层120。空穴注入层120具有将从像素电极119注入的空穴向空穴输送层121输送的功能。
空穴注入层120是由例如银(Ag)、钼(Mo)、铬(Cr)、钒(V)、钨(W)、镍(Ni)、铱(Ir)等氧化物、或者PEDOT(聚噻吩与聚苯乙烯磺酸的混合物)等导电性聚合物材料构成的层。空穴注入层120的厚度例如可以设为数nm～数十nm。
[堤122]
以覆盖像素电极119、空穴注入层120的端缘的方式形成有由绝缘物构成的堤。在堤中，列堤522Y和行堤122X形成为格子状。在列堤522Y彼此之间形成有由列堤522Y划分出的间隙522z，在各间隙522z的底部沿Y方向排列设置有多个像素电极119，在其上形成有作为功能层的空穴注入层120、空穴输送层121、有机发光层123、电子输送层124。列堤522Y的形状是在列方向上延伸的线状，与行方向平行地剖切而得的截面是使上方越往顶端越细的正锥台形状。在通过湿法形成发光层123时，列堤522Y也作为对包含成为发光层123的材料的有机化合物的油墨向行方向的流动进行拦截而使已涂布的油墨不溢出的结构物发挥功能。另外，列堤522Y通过行方向的基部来规定各子像素100se的发光区域100a的行方向上的外缘。
行堤122X在各间隙522z中形成于在Y方向上邻接的像素电极119与像素电极119之间，对在Y方向上邻接的子像素100se彼此进行划分。因此，由行堤122X和列堤522Y形成与自发光区域100a对应的开口。行堤122X的形状是沿行方向延伸的线状，与列方向平行地剖切而得的截面是使上方越往顶端越细的正锥台形状。行堤122X在各自比列堤522Y的上表面522Yb低的位置具有上表面。
堤122由绝缘性的有机材料(例如丙烯酸系树脂、聚酰亚胺系树脂、酚醛清漆型酚醛树脂等)、或者氧化硅(SiO)、氮化硅(SiN)、氮氧化硅(SiON)等无机材料构成。
[空穴输送层121]
在间隙522zR、522zG、522zB内的空穴注入层120上层叠空穴输送层121。空穴输送层121具有将从空穴注入层120注入的空穴输送到发光层123的功能。空穴输送层121例如可以使用聚芴和/或其衍生物或者作为胺系有机高分子的聚芳基胺和/或其衍生物等高分子化合物、或者TFB(聚(9,9-二正辛基芴-alt-(1,4-亚苯基-((4-仲丁基苯基)亚氨基)-1,4-亚苯基))等。
[发光层123]
在空穴输送层121上层叠有发光层123。发光层123是由有机化合物构成的层，具有通过在内部注入空穴和电子并再结合而生成激发状态并发光的功能。在由列堤522Y规定的间隙522zR、间隙522zG、间隙522zB内，发光层123以沿列方向延伸的方式设置为线状。在红色间隙522zR、绿色间隙522zG、蓝色间隙522zB分别形成有发出各色光的发光层123R、123G、123B。
在显示面板10中，发光层123的材料使用能够使用湿式印刷法进行成膜的发光性的有机材料。具体而言，优选由如下的荧光物质形成：例如专利公开公报(日本国特开平5-163488号公报)中记载的喔星化合物、苝化合物、香豆素化合物、氮杂香豆素化合物、噁唑化合物、噁二唑化合物、紫环酮化合物、吡咯并吡咯化合物、萘化合物、蒽化合物、芴化合物、荧蒽化合物、并四苯化合物、芘化合物、六苯并苯化合物、喹诺酮化合物及氮杂喹诺酮、吡唑啉衍生物及吡唑啉酮衍生物、若丹明化合物、
Figure BDA0002395896490000141
化合物、菲化合物、环戊二烯化合物、二苯基乙烯化合物、二苯基苯醌化合物、苯乙烯基化合物、丁二烯化合物、二氰基亚甲基吡喃化合物、二氰基亚甲基噻喃化合物、荧光素化合物、吡喃鎓化合物、噻喃鎓化合物、硒代吡喃鎓化合物、碲代吡喃鎓化合物、芳香族坎利酮(aldadiene)化合物、寡聚苯化合物、硫杂蒽化合物、蒽化合物、花青苷化合物、吖啶化合物、8-羟基喹啉化合物的金属络化物、2-联吡啶化合物的金属络化物、席夫碱与III族金属的络化物、羟基喹啉金属络合物、稀土类络化物等。
[电子输送层124]
以覆盖由列堤522Y以及列堤522Y规定的间隙522z内的发光层123上的方式层叠形成电子输送层124。电子输送层124具有将来自公共电极125的电子向发光层123输送并且限制电子向发光层123注入的功能。在显示面板10中，至少在整个显示区域以连续的状态形成。
作为电子输送层124中使用的电子输送性高的有机材料，例如可举出噁二唑衍生物(OXD)、三唑衍生物(TAZ)、邻菲咯啉衍生物(BCP、Bphen)等π电子类低分子有机材料。也可以包括由氟化钠形成的层。另外，也可以包括掺杂了从碱金属或碱土金属中选择的掺杂金属而形成的层。
[公共电极125]
在电子输送层124上形成有公共电极125。公共电极125与像素电极119成对地夹着发光层123从而形成通电路径。公共电极125向发光层123供给载流子，例如在作为阴极发挥功能的情况下，向发光层123供给电子。在显示面板10中，公共电极125成为各发光层123共用的电极。公共电极125使用将银(Ag)或铝(Al)等薄膜化而得到的电极来形成。另外，可以除了金属层以外还使用或者单独使用氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)等具有透光性的导电材料。
(密封层126)
以覆盖公共电极125的方式层叠形成有密封层126。密封层126用于抑制像素电极119、下层辅助布线129Y、空穴注入层120、空穴输送层121、发光层123、电子输送层124、公共电极125、辅助布线128Y、金属氧化物层1201与水分、空气等接触而劣化。密封层126以覆盖公共电极125的上表面的方式设置。另外，在顶部发光型的情况下，为了确保作为显示器而良好的光取出性，使用具有高透光性的例如氮化硅(SiN)、氮氧化硅(SiON)等透光性无机材料来形成。另外，可以在透光性无机材料的层之上设置由丙烯酸树脂、硅树脂等树脂材料构成的密封树脂层。
(辅助布线128Y的形成部分)
下面，对图3的C部所示的辅助布线128Y的形成部分进行说明。
[平坦化层118的凹部118a]
在平坦化层118上的在行方向上相邻的像素电极的间隙中的至少一个间隙中以沿列方向延伸的方式开设有长条状的凹部118a。在本例中，对于由与沿行方向排列的自发光区域100aR、100aG、100aB对应的三个子像素100se构成的单位像素100e，在行方向上的单位像素100e与单位像素100e之间的间隙内开设有凹部118a。在本例中，平坦化层的厚度例如约为4μm，凹部118a的宽度例如约为15μm，深度例如约为3μm，底部具有约1μm的残留部分。但是，凹部118a的深度、宽度不限于上述，也可以根据在内部形成的辅助布线128Y所需要的膜厚适当调整而形成。例如，凹部118a的深度可以设为2μm以上且5μm以下。
另外，在平坦化层118的凹部118a与和凹部118a在行方向的两侧分别相邻的像素电极119之间以沿列方向延伸的方式形成有两条长条状的列堤522Y，凹部118a的深度采用比列堤522的高度大的结构。在此，将夹着平坦化层118的凹部118a的两条长条状的列堤522Y之间设为辅助间隙522zA。
在位于平坦化层118的凹部118a内的平坦化层118上配置有由沿列方向延伸的蒸镀膜构成的下层辅助布线129Y。并且，也可以构成为在下层辅助布线129Y上层叠有图案化为相同形状的金属氧化物层1201。在此，所谓下层辅助布线129Y由蒸镀膜构成是指，下层辅助布线129Y使用真空蒸镀法、电子束蒸镀法、溅射法、反应性溅射法、离子镀法、气相沉积法等干式成膜工艺而进行制膜。
下层辅助布线129Y在列堤522Y的辅助间隙522zA内的平坦化层118上沿列方向延伸配置。下层辅助布线129Y是如下用途的辅助布线层：通过实现与在层叠于上表面的金属氧化物层1201的上表面所层叠的公共电极125的电连接来降低公共电极125的电阻。下层辅助布线129Y优选由包含作为薄层电阻小的材料的例如铝(Al)作为主成分的金属层、合金层构成。厚度例如可以为200nm以上且400nm以下。下层辅助布线129Y可以由与像素电极119相同的材料形成在同一层。另外，金属氧化物层1201可以由与空穴注入层120相同的材料形成在同一层。
这样，通过在凹部118a内设置下层辅助布线129Y以及金属氧化物层1201(以后记为“下层辅助布线129Y等”)，从而与凹部118a在行方向上相邻的列堤522Y的截面变为在行方向上等价的形状。假设在不设置下层辅助布线129Y等的情况下，与凹部118a在行方向上相邻的列堤522Y的截面形状的靠近凹部118a侧的高度变小下层辅助布线129Y等的厚度的量。在该情况下，在后述的辅助布线128Y的形成工序中，当在间隙522zA内涂布包含较多的布线材料的油墨时，油墨溢出到相邻的间隙522z而堵塞间隙522z内的发光层123的可能性增加。
因此，通过在凹部118a内设置下层辅助布线129Y等，能够抑制伴随着油墨向邻接的间隙522z溢出而产生的发光层123的堵塞。
公共电极125由蒸镀膜构成，在平坦化层118的凹部118a内连续地配置于下层辅助布线129Y的上方。并且，公共电极125经由金属氧化物层1201与下层辅助布线129Y电连接。在此，所谓公共电极125由蒸镀膜构成是指，公共电极125使用真空蒸镀法、电子束蒸镀法、溅射法、反应性溅射法、离子镀法、气相沉积法等干式成膜工艺进行制膜。
需要说明的是，电子输送层124也可以在平坦化层118的凹部118a内连续地配置在下层辅助布线129Y与公共电极125之间。在这种情况下，公共电极125经由金属氧化物层1201和电子输送层124而与下层辅助布线129Y电连接。
[辅助布线128Y]
在位于平坦化层118的凹部118a内的公共电极125的上表面配置有由在列方向上延伸的涂布膜构成的辅助布线128Y。辅助布线128Y是用于通过实现与作为基底的公共电极125的电连接来降低公共电极125的电阻的辅助布线层即所谓的汇流条。辅助布线128Y优选由包含作为薄层电阻小的材料的例如银(Ag)或铝(Al)作为主成分的金属层、合金层构成。在此，所谓辅助布线128Y由涂布膜构成是指，辅助布线128Y通过使用印刷法、旋涂法、喷墨法等湿式成膜工艺来涂布包含溶质的油墨而形成。
在该方案中，形成于凹部118a的辅助布线128Y在通过具备预定的厚度而确保了与凹部118a的横截面积相当的横截面积的状态下延伸至基板100x的周缘而与外部连接端子连接。例如，辅助布线128Y的厚度可以设为0.5μm以上且2μm以下。因此，能够实现从外部连接端子到有机EL元件阵列100ar为止的供电路径的低电阻化。
(接合层127)
在密封层126的上方配置有在上部基板130的下侧的主面形成有滤色器层132而得的前面板131，前面板131通过接合层127接合。接合层127具有将基板100x与前面板131贴合且防止各层暴露于水分、空气中的功能。接合层127的材料例如由树脂粘接剂等构成，能够采用丙烯酸树脂、硅树脂、环氧树脂等透光性材料树脂材料。
(前面板131的各部构成)
[上部基板130]
在接合层127之上，设置并接合有在上部基板130形成有滤色器层132而得的前面板131。在顶部发光型中，上部基板130使用例如玻璃盖片、透明树脂膜等透光性材料。另外，通过上部基板130，能够实现显示面板10的刚度提高、水分或空气等的侵入防止等。
[滤色器层132]
在上部基板130上的与像素的各色自发光区域100a对应的位置形成有滤色器层132。滤色器层132是为了使与R、G、B对应的波长的可见光透过而设置的透明层，具有使从各色像素射出的光透过并矫正其色度的功能。例如，在本例中，在红色间隙522zR内的发光区域100aR、绿色间隙522zG内的发光区域100aG、蓝色间隙522zB内的发光区域100aB的上方分别形成有红色、绿色、蓝色的滤色器层132R、132G、132B。作为滤色器层132，可以采用公知的树脂材料(例如作为市售产品的JSR株式会社制彩色抗蚀剂)等。
[遮光层133]
在上部基板130上的与各像素的发光区域100a之间的边界对应的位置形成有遮光层133。遮光层133是为了不使与R、G、B对应的波长的可见光透过而设置的黑色树脂层，例如由包含光吸收性和遮光性优异的黑色颜料的树脂材料构成。例如，由以紫外线固化树脂(例如紫外线固化丙烯酸树脂)材料为主成分并在其中添加例如炭黑颜料、钛黑颜料、金属氧化颜料、有机颜料等遮光性材料的黑色颜料而成的树脂材料构成。
＜显示面板10的周边区域10b的构成＞
图4的(a)是实施方式的一方案中的、图1中的B部的示意俯视图。该图是示出图像显示区域10a和周边区域10b内的一部分的示意俯视图，是示出拆除了堤122、发光层123、电子输送层124、公共电极125、密封层126、前面板131后的状态的图。图5的(a)是沿图4的(a)中的X2-X2剖开后的示意截面图。图5的(b)是沿图4的(a)中的X3-X3剖开后的示意截面图。
如图4的(a)所示，下层辅助布线129Y和辅助布线128Y在行方向上与单位像素100e邻接地在列方向上延伸。
在显示面板10的周边区域10b中，在平坦化层118上配置有在俯视观察中在有机EL元件阵列100ar所存在的图像显示区域10a的外方延伸的电极板129PL。进一步，也可以构成为在电极板129PL层叠有图案化为相同形状的金属氧化物层1201。电极板129PL连续地配置至基板100x的周边区域10b的外缘附近，并与外部连接端子连接。通过沿着基板100x的周缘以预定的宽度呈带状地配置电极板129PL，能够降低公共电极125的显示面板10内的电阻。
电极板129PL优选由含有作为薄层电阻小的材料的例如铝(Al)作为主成分的金属层、合金层构成。另外，电极板129PL可以由与下层辅助布线129Y及像素电极119相同的材料形成于同一层。另外，金属氧化物层1201可以由与空穴注入层120相同的材料形成于同一层。
公共电极125在俯视观察中连续地延伸至基板100x的周缘附近。
电子输送层124也可以构成为在俯视观察中延伸至有机EL元件阵列100ar所存在的图像显示区域10a的外方。
如图4的(a)所示，在实施方式的一个方案中，平坦化层118的凹部118a在俯视观察中开设到基板100x的周缘附近。
而且，如图5的(a)所示，电极板129PL在基板100x的周缘的平坦化层118的凹部118a内连续地配置。
辅助布线128Y在平坦化层118的凹部118a内在俯视观察中延伸至基板100x的周缘附近。而且，辅助布线128Y在俯视观察中延伸至电极板129PL的上表面，辅助布线128Y与电极板129PL电连接。
而且，如图5的(b)所示，在平坦化层118的凹部118a内，下层辅助布线129Y也可以构成为在俯视观察中延伸形成至基板100x的周缘附近且与电极板129PL连接。
在该方案中，形成于凹部118a的辅助布线128Y在通过具备预定的厚度而确保了与凹部118a的横截面积相当的横截面积的状态下与存在于基板100x的周缘的电极板129PL连接而与外部连接端子连接。因此，能够实现从电极板129PL到有机EL元件阵列100ar为止的供电路径的低电阻化。
图4的(b)是实施方式的另一方案中的、图1中的B部的另一方案的示意俯视图。在图4的(b)所示的方案中，平坦化层118的凹部118a在俯视观察中从基板100x的周边区域10b的内缘朝向外方而开设到预定距离10b′的位置。另外，辅助布线128Y以及下层辅助布线129Y也在平坦化层118的凹部118a内延伸至与凹部118a相同的位置，在基板100x的周边区域10b中，仅公共电极125连续地延伸至基板100x的周缘附近。
在该方案中，在周边区域10b中，辅助布线128Y经由公共电极125与电极板129PL电连接，能够实现从电极板129PL到有机EL元件阵列100ar为止的供电路径的低电阻化。
＜显示面板10的制造方法＞
使用图6～10来对显示面板10的制造方法进行说明。图6是有机EL显示面板10的制造工序的流程图。图7至图10中的各图是示出显示面板10的制造中的各工序下的状态的、在与图2(图像显示区域10a)中的X1-X1相同的位置处剖开后的示意截面图。
[基板100x的制作]
在基板100x形成多个TFT、布线(TFT层)(图6中的步骤S1、图7的(a))。
[平坦化层118的形成]
以覆盖基板100x的方式形成平坦化层118。
那时，利用光刻法在平坦化层118以沿列方向延伸的方式形成长条状的凹部118a。在行方向上，在本例中，凹部118a形成于在行方向上相邻的单位像素100e形成区域之间。在此，如上所述，平坦化层118的凹部118a的深度可以设为2μm以上且5μm以下。在本例中，平坦化层的厚度例如约为4μm，凹部118a的宽度例如约为15μm，深度例如约为3μm，底部具有约1μm的残留部分。
另外，在平坦化层118中的、TFT元件的例如源电极上的部位，与凹部118a同时形成接触孔(图中没示出)。接触孔是以在其底部露出源电极的表面的方式使用图案化法等形成的。
在平坦化层118的形成中，首先，将平坦化层118的构成材料(感光性的树脂材料)作为光致抗蚀剂进行涂布，使表面平坦化，由此形成平坦化层118(图6的步骤S2、图7的(b))。具体而言，例如通过模涂法，沿着基板100x的上表面，以填埋由TFT层形成的基板100x1上的凹凸的方式涂布具有一定的流动性的树脂材料并进行烧成，从而形成树脂膜。树脂材料例如通过使用旋涂法等均匀地涂布使作为正型的感光性材料的丙烯酸系树脂、聚酰亚胺系树脂、硅氧烷系树脂、酚醛系树脂溶解于溶剂而成的溶液来形成。
接着，对树脂膜进行图案化，通过使用了包括半色调(半透光)部分的光掩膜的光刻法来同时形成具有凹部118a和接触孔的平坦化层118(图6：步骤S3、图7的(c))。在所使用的光掩膜中，相当于接触孔的部分可以是透光部分，相当于凹部118a的部分可以是半色调部分，除此以外的区域可以设为遮光部。凹部118a通过如下来形成：使用掩模的半色调掩模部进行曝光，然后通过显影来去除曝光部分并进行烧成，由此保留底面部分而图案化。另外，接触孔通过如下来形成：使用掩模的透光部分进行曝光，然后通过显影去除曝光部分并进行烧成，由此以在底部露出源电极的表面的方式进行图案化。形成的凹部118a的截面如图7的(c)所示，与行方向平行地剖切而得的截面为使下方越往顶端越细的倒锥台形状。
其后，在接触孔内形成连接电极(图中没示出)。
[像素电极119、下层辅助布线129Y、电极板129PL、空穴注入层120、金属氧化物层1201的形成]
接着，进行像素电极119、空穴注入层120的形成。
首先，形成平坦化层118，然后对平坦化层118的表面进行干蚀刻处理，并进行成膜前清洗。
接着，在平坦化层118的表面进行成膜前清洗后，在图像显示区域10a中，通过溅射法、真空蒸镀法等气相沉积法在平坦化层118的表面上形成用于形成像素电极119、下层辅助布线129Y的像素电极用金属膜119x；在周边区域10b中，通过溅射法、真空蒸镀法等气相沉积法在平坦化层118的表面上形成用于形成电极板129PL的金属膜(图6：步骤S4、图7的(d))。在本例中，通过溅射法来形成由铝或以铝为主成分的合金构成的膜。可以在成膜后进行烧成。
并且，在金属膜119x的表面进行成膜前清洗后，紧接着在真空气氛下，在图像显示区域10a中，通过气相沉积法来在金属膜119x的表面上形成用于形成空穴注入层120、金属氧化物层1201的空穴注入层120用的金属膜120’；在周边区域10b中，通过气相沉积法来在金属膜119x的表面上形成用于形成金属氧化物层1201的金属膜(图6：步骤S5、图7的(d))。在本例中，通过溅射法来形成钨膜。可以在成膜后进行烧成。
然后，在涂布了由感光性树脂等构成的光致抗蚀剂层FR之后，载置施加有预定的开口部的光掩膜PM，从光掩膜PM上进行紫外线照射来对光致抗蚀剂进行曝光，在该光致抗蚀剂上转印光掩膜所具有的图案(图8的(a))。接着，通过显影将光致抗蚀剂层FR图案化。
然后，经由图案化后的光致抗蚀剂层FR，在图像显示区域10a中，对金属膜120’实施干式蚀刻处理而进行图案化，形成空穴注入层120、金属氧化物层1201。另外，在周边区域10b中，对金属膜实施干式蚀刻处理而进行图案化，形成金属氧化物层1201。
接着，经由图案化后的光致抗蚀剂层FR及空穴注入层120，在图像显示区域10a中，对金属膜119x实施湿式蚀刻处理而进行图案化，形成像素电极119、下层辅助布线129Y。另外，在周边区域10b中，对金属膜实施湿式蚀刻处理而进行图案化，形成电极板129PL。
最后，剥离光致抗蚀剂层FR，在图像显示区域10a中，形成被图案化为相同形状的像素电极119与空穴注入层120的层叠体、以及下层辅助布线129Y与金属氧化物层1201的层叠体。另外，在周边区域10b中，形成被图案化为相同形状的电极板129PL与金属氧化物层1201的层叠体(图6：步骤S6、图8的(b))。
[堤122的形成]
在图像显示区域10a中，在形成了空穴注入层120之后，以覆盖空穴注入层120的方式形成堤122。在形成堤122时，首先，使用旋涂法等在空穴注入层120上层叠形成由堤122X的构成材料(例如感光性树脂材料)构成的膜。然后，对树脂膜进行图案化而形成行堤122X(图6：步骤S7、图8的(c))。
接着，在列堤522Y的形成工序中，使用旋涂法等在空穴注入层120上及行堤122X上层叠形成由列堤522Y的构成材料(例如感光性树脂材料)构成的膜。然后，在树脂膜的上方配置掩模进行曝光，在此之后进行显影，由此将树脂膜图案化而开设间隙522z，形成列堤522Y(图6：步骤S8、图8的(c))。此时，在针对行堤122X、列堤522Y的烧成工序中，金属被氧化而作为空穴注入层120完成。
[有机功能层的形成]
在形成于由包括行堤122X上的列堤522Y规定的间隙522z内的空穴注入层120上依次层叠形成空穴输送层121、发光层123。
空穴输送层121的形成通过如下来进行：使用基于喷墨法或凹版印刷法的湿法工艺，将包含构成材料的油墨涂布于由列堤522Y预定的间隙522z内，然后使溶剂挥发除去或者进行烧成(图6：步骤S9、图8的(d))。形成于RGB各子像素的空穴输送层121可以形成为膜厚根据RGB各子像素而不同。
发光层123的形成通过如下来进行：使用喷墨法将包含构成材料的油墨涂布于由列堤522Y规定的间隙522z内，然后进行烧成(图6：步骤S10、图9的(a))。
具体而言，通过如下方式来进行：基板100x以列堤522Y沿着Y方向的状态载置于液滴喷出装置的作业台上，一边使多个喷嘴孔沿着Y方向配置成线状的喷墨头301在X方向上相对于基板100x相对地移动，一边瞄准设定于列堤522Y彼此的间隙522z内的着落目标而使油墨18的液滴从各喷嘴孔着落。在该工序中，通过喷墨法，在成为子像素形成区域的间隙522z分别填充包含R、G、B任一个的有机发光层的材料的油墨18，在减压下使所填充的油墨干燥，进行烘烤处理，由此形成发光层123R、123G、123B。
当结束对基板100x涂布用于形成红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层任一个的油墨时，在该基板上涂布其他颜色的油墨，接着在该基板上涂布第三种颜色的油墨，反复进行这样的工序，依次涂布三种颜色的油墨。由此，在基板100x上沿图的纸面横方向反复排列地形成红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层。
需要说明的是，空穴注入层120的空穴输送层121、发光层123的形成方法并不限制于上述方法，例如也可以通过分配器(dispenser)法、喷嘴涂布法、旋涂法、凹版印刷、凸版印刷等公知的方法滴下、涂布油墨。
需要说明的是，也可以是，在形成空穴输送层121之前，使用喷墨法将包含PEDOT(聚噻吩与聚苯乙烯磺酸的混合物)等导电性聚合物材料的油墨涂布于间隙522z内，然后使溶剂挥发除去或进行烧成。
[电子输送层成膜前的烧成]
在真空环境下进行电子输送层成膜前的烘烤(图6：步骤S11)。由此，能够抑制在除去了平坦化层内的残留水分之后平坦化层再次吸收水分。
[电子输送层124的形成]
在形成了发光层123之后，通过真空蒸镀法等遍及显示面板10的发光区域整面(图像显示区域10a和周边区域10b的一部分)地形成电子输送层124(图6：步骤S12、图9的(b))。
使用真空蒸镀法的理由是为了不对作为有机膜的发光层123带来损伤。电子输送层124通过真空蒸镀法等在发光层123之上对金属氧化物或氟化物进行成膜。或者，通过有机材料与金属材料的共蒸镀法来进行成膜。需要说明的是，电子输送层124的膜厚设置为对于光学上的光取出最有利的适当的厚度。
[公共电极125的形成]
在形成了电子输送层124之后，在图像显示区域10a中，以覆盖电子输送层124的方式形成公共电极125，在周边区域10b中，以同时覆盖电极板129PL的方式形成公共电极125(图6：步骤S13、图9的(c))。公共电极125以覆盖基底层的方式通过溅射法或真空蒸镀法形成以金属、金属氧化物为主成分的膜。
此时，在平坦化层118的凹部118a内，将下层辅助布线129Y的上表面形成为朝向上方的正锥台形状，由此公共电极125在平坦化层118的凹部118a内的内部在下层辅助布线129Y或金属氧化物层1201的上表面连续地配置。
[辅助布线128Y的形成]
在位于平坦化层118的凹部118a内的公共电极125的上表面，以沿列方向延伸的方式形成由涂布膜构成的辅助布线128Y。辅助布线128Y通过如下方式来形成：使用基于喷墨法、凹版印刷法的湿法工艺，以在由列堤522Y规定的间隙522zA内充满油墨的方式涂布包含以银(Ag)或铝(Al)为主成分的构成材料的油墨，然后使溶剂挥发除去或者进行烧成，由此使油墨的表面下降而形成为预定厚度的布线层(图6：步骤S14、图9的(d))。
此时，由于在间隙522zA内存在凹部118a，因此即使在间隙522zA内涂布较多的油墨，也能够防止油墨溢出到相邻的间隙522z而堵塞间隙522z内的发光层123。由此，通过在间隙522zA内设置凹部118a，能够防止油墨向子像素100se泄漏，并且能够增加辅助布线128Y的厚度。
所形成的辅助布线128Y成为与铺设于列堤522Y以及平坦化层118的凹部118a内的公共电极125的上表面接触的状态。
另外，通过对由凹部118a的深度、公共电极125的疏液性和油墨的表面张力决定的钉扎位置的下方的凹部118a的容积和油墨滴下量、溶剂的种类等适当地进行调整，能够将辅助布线128Y设置为所希望的截面形状，能够将辅助布线128Y的膜厚调整为期望的值。例如，在与辅助布线128Y的行方向平行地剖切而得的截面形状上，可以将钉扎位置设为凹部118a的上缘的高度以上，形成为将上侧的平坦部所占的比例设为预定值以上的使下方越往顶端越细的倒锥台形状。由此，辅助布线128Y通过具备预定的厚度，能够确保与平坦化层118的凹部118a的沿行方向剖切而得的截面形状等价的横截面积，能够降低辅助布线128Y的电阻。
[密封层126的形成]
以覆盖从公共电极125到基板100x的平坦化层118的基板100的周缘的方式形成密封层126(图6：步骤S15、图10的(a))。密封层126可以使用CVD法、溅射法等形成。
[前面板131与背面面板的贴合]
接着，在由从基板100x到密封层126为止的各层构成的背面面板上涂布以丙烯酸树脂、硅树脂、环氧树脂等紫外线固化型树脂为主成分的接合层127的材料(图10的(b))。
接着，对所涂布的材料进行紫外线照射，在使背面面板与前面板131的相对位置关系一致的状态下将两基板贴合。其后，对两基板进行烧成而完成密封工序，于是完成显示面板10(图6：步骤S16、图10的(c))。
＜效果＞
以下，对显示面板10的效果进行说明。
如上所述，实施方式所涉及的有机EL显示面板采用如下的构成，即具备：基板100x；平坦化层118，配置于基板100x的上表面并包含树脂材料；多个像素电极119，在平坦化层118上配置成行列状；发光层123，配置于像素电极上并包含有机发光材料；以及公共电极125，至少覆盖发光层123的上方且在平面方向上连续地配置，其中在平坦化层118上的在行方向上相邻的像素电极119的间隙中的至少一个间隙中以沿列方向延伸的方式开设有长条状的凹部118a，公共电极125以在平坦化层118的凹部118a内连续的方式配置，在位于平坦化层118的凹部118a内的公共电极125的上表面配置有由在列方向上延伸的涂布膜构成的供电辅助布线128Y。
通过这样的构成，形成于凹部118a的辅助布线128Y能够确保与平坦化层118的凹部118a的沿行方向剖切而得的截面形状等价的横截面积，在确保了该横截面积的状态下延伸至基板100x的周缘而与外部连接端子连接。
其结果是，在有机EL面板中实现向发光元件供电的供电路径的低电阻化，能够改善因电压下降引起的面内的亮度差异。
另外，能够改善因在显示面板的中央部分上的响应性降低引起的串扰而提高显示品质。
另外，在另一方案中，可以构成为，进一步地，在平坦化层118上的凹部118a与和凹部118a在行方向的两侧分别相邻的像素电极119之间以沿列方向延伸的方式形成有两条长条状的列堤522Y，平坦化层118的凹部118a的深度比列堤522Y的高度大。
通过这样的构成，辅助布线128Y通过具备预定的厚度而能够使辅助布线128Y的电阻降低。
另外，实施方式所涉及的有机EL显示面板的制造方法的特征在于，具有：准备基板100x的工序；形成平坦化层118的工序，该平坦化层118配置于基板100x的上表面并包含树脂材料；形成像素电极119的工序，在平坦化层118上以行列状形成多个像素电极119；形成发光层123的工序，该发光层123配置于像素电极119上并包含有机发光材料；以及配置公共电极125的工序，至少在发光层123的上方在平面方向上连续地配置公共电极125，在形成平坦化层118的工序中，在平坦化层118上的在行方向上相邻的应形成像素电极119的区域的间隙中的至少一个间隙中以沿列方向延伸的方式开设长条状的凹部118a，在形成公共电极125的工序中，以在平坦化层118的凹部118a内连续的方式形成公共电极125，进一步，在配置公共电极125的工序之后进一步具有形成供电辅助布线128Y的工序，在位于平坦化层118的凹部118a内的公共电极125的上表面形成由沿列方向延伸的涂布膜构成的供电辅助布线128Y。
通过这样的构成，能够制造如下的有机EL面板：实现向发光元件供电的供电路径的低电阻化，改善因电压下降引起的面内的亮度差异。
另外，在另一方案中，可以构成为，在形成像素电极119的工序之后且形成发光层123的工序之前，进一步具有形成列堤522Y的工序：在平坦化层118上的凹部118a与和凹部118a在行方向的两侧分别相邻的像素电极119之间以沿列方向延伸的方式形成两条长条状的列堤522Y，在形成供电辅助布线128Y的工序中，通过在列堤522Y之间的间隙涂布包含金属材料的油墨并进行干燥而形成供电辅助布线128Y。
通过这样的构成，在间隙522zA内存在凹部118a，由此即使在间隙522zA内涂布较多的油墨，也能够防止油墨溢出到相邻的间隙522z而堵塞间隙522z内的发光层123。由此，能够防止油墨向子像素100se泄漏，并且能够增加辅助布线128Y的厚度。
另外，在另一方案中，可以构成为，在形成像素电极119的工序中，进一步在平坦化层118的凹部118a内且在公共电极125的下方形成由沿列方向延伸的蒸镀膜构成的下层辅助布线129Y。
通过这样的构成，与凹部118a在行方向上相邻的列堤522Y的截面可以形成为在行方向上等价的形状，能够抑制伴随着油墨向与凹部118a在行方向上邻接的间隙522z溢出而产生的发光层123的堵塞。
＜变形例＞
虽然对实施方式所涉及的显示面板10进行了说明，但本公开除了其本质上的特征构成要素之外，并不受以上的实施方式的任何限制。例如，本领域技术人员对实施方式实施各种变形而得到的方式、通过在不脱离本发明的主旨的范围内将各实施方式中的构成要素以及功能任意地组合而实现的方式也包含于本公开中。
下面，作为那样的方式的一个例子，说明显示面板10的变形例。
(变形例1)
图11是将变形例1所涉及的显示面板10A在与图2中的X1-X1相同的位置处剖开后的示意截面图。
在实施方式所涉及的显示面板10中，如图3的C部所示，在辅助布线128Y的形成部分，辅助布线128Y在凹部118a内沿列方向延伸地配置在由下层辅助布线129Y、金属氧化物层1201以及电子输送层124构成的层叠体的上方。
与此相对，在变形例1的显示面板10A中，如图11的D部所示，在供电辅助布线128YA(以后记为“辅助布线128YA”)的形成部分，在凹部118a内不存在下层辅助布线129Y和金属氧化物层1201、辅助布线128YA配置在铺设于凹部118a内的公共电极125的上方这一点上与显示面板10不同。
在实施方式所涉及的显示面板10中，公共电极125与下层辅助布线129Y的电连接由于在导电路径夹设电子输送层124而伴有一定的电阻。
另一方面，在显示面板10A中，能够将辅助布线128YA的横截面积增加相当于在显示面板10中凹部118a内的下层辅助布线129Y以及金属氧化物层1201的横截面积的量。由于辅助布线128YA与公共电极125直接接触，因此辅助布线128YA的横截面积的增加直接有助于辅助布线128YA的电阻的降低。因此，在显示面板10A中，代替铺设于凹部118a的下层辅助布线12及金属氧化物层1201而增加了辅助布线128YA的横截面积，由此与显示面板10相比能够降低电阻。
即，在显示面板10A中，能够有效地利用通过设置平坦化层118的凹部118a而确保的用于供电的空间来与显示面板10相比降低电阻。
(变形例2、3)
图12的(a)是变形例2所涉及的显示面板10B中的与图1的B部相同的范围的示意俯视图。
在实施方式所涉及的显示面板10中构成为，如图1所示，在辅助间隙522zA中，多个下层辅助布线129Y在基板100x上的单位像素100e之间遍及列方向连续地配置。
在变形例2所涉及的显示面板10B中，如图12的(a)所示，在在列方向上相邻的单位像素100e与单位像素100e之间，例如按每数十至数百像素这样的多个像素在平坦化层118的上表面开设有在行方向上延伸的凹部118aB，在凹部118aB内延伸形成有下层供电辅助布线129XB和供电辅助布线128XB(以后记为“下层辅助布线129XB”、“辅助布线128XB”)，在列方向上延伸的下层辅助布线129Y和辅助布线128Y构成格子状，在这一点上与实施方式所涉及的显示面板10不同。以后，在不区分行列方向的情况下将辅助布线128XB和辅助布线128Y记为“辅助布线128”。
图12的(b)是变形例3所涉及的显示面板10C中的与图1的B部相同的范围的示意俯视图。
在变形例3所涉及的显示面板10C中，如图12的(b)所示，在在列方向上相邻的单位像素100e与单位像素100e之间按每多个像素在平坦化层118的上表面开设有在行方向上延伸的凹部118aB，在凹部118aB内延伸形成有下层辅助布线129XB和供电辅助布线128XB，这一点与显示面板10B相同。
而且，在显示面板10C中，凹部118aB、下层辅助布线129XB以及辅助布线128XB形成的列方向的位置在行方向上按每个单位像素100e不同，在这一点上与显示面板10B不同。因此，在显示面板10C中，下层辅助布线129XB及辅助布线128XB和在列方向上延伸的下层辅助布线129Y以及辅助布线128Y构成所谓的交错格子状。
通过这样的构成，在显示面板10B和10C中，除了列方向以外在行方向上也能够降低辅助布线128的电阻，能够减少因电压下降而引起的面内的亮度差异。
图13是变形例2所涉及的显示面板10B的像素区域10a的一部分的示意俯视图。另外，图14是变形例3所涉及的显示面板10C的像素区域10a的一部分的示意俯视图。
在显示面板10B、10C中，分别如图13、14所示，在下层辅助布线129XB和辅助布线128XB延伸的行堤122X上，不存在相当于用于铺设两布线的凹部118aB的部分的行堤122X。另外，在辅助布线128XB延伸的行堤122X上，以从列方向夹着凹部118aB的方式形成有一对行堤522XB。行堤522XB的高度比行堤122X的高度高，并与列堤522Y是相同的高度。
通过这样的构成，在显示面板10B、10C的制造工序的发光层123的形成工序中，当将包含有机发光材料的油墨涂布于列堤522Y间的间隙522z内时，能够通过行堤522XB来拦截所涂布的油墨。因此，能够防止油墨从间隙522z内流入到铺设辅助布线128XB的凹部118aB内。
另外，如上所述，在显示面板10B、10C中，行堤522XB例如按数十至数百像素这样的多个像素而设置，因此能够抑制因列方向上的每个子像素的油墨的涂布差异而引起的亮度差异。
另外，在显示面板10C中，下层辅助布线129XB及辅助布线128XB和在列方向上延伸的下层辅助布线129Y及辅助布线128Y构成所谓的交错格子状，因此能够使由于存在下层辅助布线129XB和辅助布线128XB而引起的列方向上的亮度差异(横向条纹)不明显。
(其他变形例)
在实施方式1所涉及的显示面板10中，发光层123构成为在行堤上沿列方向连续地延伸。然而，在上述构成上，发光层123也可以构成为在行堤上按每个像素断续。
在显示面板10中，构成为，配置于在在行方向上邻接的列堤522Y间的间隙522z的子像素100se的发光层123所发出的光的颜色相互不同，而配置于在在列方向上邻接的行堤122X间的间隙的子像素100se的发光层123所发出的光的颜色相同。然而，在上述构成上，也可以构成为，在行方向上邻接的子像素100se的发光层123所发出的光的颜色相同，而在列方向上邻接的子像素100se的发光层123所发出的光的颜色相互不同。另外，也可以构成为，在行方向和列方向这两个方向上邻接的子像素100se的发光层123所发出的光的颜色相互不同。
在实施方式所涉及的显示面板10中，在像素100e存在红色像素、绿色像素、蓝色像素这三种，但本发明不限于此。例如，发光层可以是一种，发光层也可以是发出红色光、绿色光、蓝色光、黄色光的四种。
另外，在上述实施方式中，像素100e是排列成矩阵状的构成，但本发明不限于此。例如对于如下的构成也具有效果：在将像素区域的间隔设为一个节距时，在相邻的间隙彼此之间像素区域在列方向上错开半节距。在进行了高精细化的显示面板中，在视觉辨认上难以辨别列方向的多少有点偏移，即使膜厚不均排列成具有一定程度的宽度的直线(或交错状)，视觉辨认上也变为带状。因此，这种情况也能够通过抑制亮度不均排列成上述直线状而提高显示面板的显示品质。
另外，在上述实施方式中，是一种如下的构成：在像素电极119与公共电极125之间存在空穴注入层120、空穴输送层121、发光层123以及电子输送层124，但本发明不限于此。例如，也可以构成为不使用空穴注入层120、空穴输送层121以及电子输送层124而仅在像素电极119与公共电极125之间存在发光层123。另外，例如也可以是具备空穴注入层、空穴输送层、电子输送层、电子注入层等的构成、或同时具备它们中的多个或全部的构成。另外，这些层不需要均由有机化合物构成，也可以由无机物等构成。
另外，在上述实施方式中，作为发光层123的形成方法，是使用印刷法、旋涂法、喷墨法等湿式成膜工艺的构成，但本发明不限于此。例如，也可以使用真空蒸镀法、电子束蒸镀法、溅射法、反应性溅射法、离子镀法、气相沉积法等干式成膜工艺。此外，各构成部位的材料可以适当采用公知的材料。
此外，在上述实施方式中，将顶部发光型的EL显示面板作为一个例子，但本发明并不限定于此。例如，也可以应用于底部发光型的显示面板等。在该情况下，能够对各构成进行适当的变更。另外，也可以适用于使用了胶体状量子点(Quantum Dot)的量子点显示装置等。
＜电路构成＞
下面，对实施方式所涉及的有机EL显示装置1的电路构成进行说明。如图15所示，有机EL显示装置1构成为具有显示面板10和与其连接的驱动控制电路部20。驱动控制电路部20由四个驱动电路21～24和控制电路25构成。
在显示面板10中，多个像素100e配置成行列状而构成显示区域。各像素100e由三个各色有机EL元件100R、100B、100G即发出R(红)、G(绿)、B(蓝)这三种颜色的三个子像素100se构成。对各子像素100se的电路构成进行说明。图16是示出与显示面板10的各子像素100se对应的各色有机EL元件100R、100B、100G中的电路构成的电路图。在本实施方式所涉及的显示面板10中，各子像素100se构成为具有两个晶体管Tr1、Tr2和一个电容器C以及作为发光部的有机EL元件部EL。晶体管Tr1是驱动晶体管，晶体管Tr2是开关晶体管。
开关晶体管Tr2的栅极G2与扫描线Vscn连接，源极S2与数据线Vdat连接。开关晶体管Tr2的漏极D2与驱动晶体管Tr1的栅极G1连接。
驱动晶体管Tr1的漏极D1与电源线Va连接，源极S1与有机EL元件部EL的像素电极(阳极)连接。有机EL元件部EL中的公共电极(阴极)与接地线Vcat连接。
需要说明的是，电容器C的第一端与开关晶体管Tr2的漏极D2以及驱动晶体管Tr1的栅极G1连接，电容器C的第二端与电源线Va连接。
在显示面板10中，栅极线从各子像素100se的栅极G2分别引出，并与从显示面板10的外部连接的扫描线Vscn连接。同样地，源极线从各子像素100se的源极S2分别引出，并与从显示面板10的外部连接的数据线Vdat连接。
另外，各子像素100se的电源线Va以及各子像素100se的接地线Vcat被集中地与有机EL显示装置1的电源线以及接地线连接。
需要说明的是，虽然采用了在EL元件部的下部配置有作为阳极的像素电极119并使像素电极119连接于与TFT的源电极连接的布线的构成，但也可以采用在EL元件部的下部配置有公共电极、在上部配置有阳极的构成。在该情况下，将配置于下部的阴极连接于TFT中的漏极。
另外，在上述实施方式中，采用了针对一个子像素100se设置有两个晶体管Tr1、Tr2而成的构成，但本发明并不限制于此。例如，既可以是针对一个子像素具备一个晶体管的构成，也可以是具备三个以上晶体管的构成。
补充
以上说明的实施方式均为示出本发明的优选的一个具体例的实施方式。实施方式中示出的数值、形状、材料、构成要素、构成要素的配置位置以及连接方式、工序、工序的顺序等只是一个例子，并非旨在限制本发明。另外，实施方式的构成要素中，对于未记载在示出本发明的最上位概念的独立权利要求的工序，作为构成更优选的方式的任意的构成要素进行说明。
另外，执行上述工序的顺序是用于为具体说明本发明而例示的顺序，也可以是除上述以外的顺序。另外，上述工序的一部分也可以与其它工序同时(并列)地执行。
另外，为了容易理解发明，在上述各实施方式中列举的各图的构成要素的比例尺有时与实际的比例尺不同。另外，本发明并不受上述各实施方式的记载限制，能够在不脱离本发明的主旨的范围内进行适当变更。
另外，也可以将各实施方式及其变形例的功能中的至少一部分组合。
并且，对本实施方式实施了本领域技术人员想到的范围内的变更的各种变形例也包含在本发明中。
工业上的利用可能性
本公开的一方案所涉及的有机EL显示面板及有机EL显示装置能够广泛地利用于电视机、个人计算机、移动电话等装置或其它具有显示面板的各种各样的电子设备。

Claims (17)

1.一种有机EL显示面板，其特征在于，具备：
基板；
平坦化层，配置于所述基板的上表面并包含树脂材料；
多个像素电极，在所述平坦化层上配置成行列状；
发光层，配置于所述像素电极上并包含有机发光材料；以及
公共电极，至少覆盖所述发光层的上方并在平面方向上连续地配置，
在所述平坦化层上的在行方向上相邻的所述像素电极的间隙中的至少一个间隙中以沿列方向延伸的方式开设有凹部，
所述公共电极以在所述平坦化层的所述凹部内连续的方式配置，
在位于所述平坦化层的所述凹部内的所述公共电极的上表面配置有由在列方向上延伸的涂布膜构成的供电辅助布线。
2.根据权利要求1所述的有机EL显示面板，其特征在于，
进一步在所述平坦化层上的所述凹部与和所述凹部在行方向的两侧分别相邻的所述像素电极之间以沿列方向延伸的方式形成有两条列堤，
所述平坦化层的所述凹部的深度比所述列堤的高度大。
3.根据权利要求1或2所述的有机EL显示面板，其特征在于，
进一步在所述平坦化层的所述凹部内且在所述公共电极的下方配置有由沿列方向延伸的蒸镀膜构成的下层供电辅助布线。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的有机EL显示面板，其特征在于，
进一步在所述平坦化层上具备电极板，所述电极板在俯视观察中在所述像素电极所存在的区域的外方沿着所述基板的周缘延伸，
所述平坦化层的所述凹部在俯视观察中开设至所述基板的周缘附近，
所述电极板以在所述平坦化层的所述凹部内连续的方式配置，
所述供电辅助布线在俯视观察中延伸至所述电极板的上表面。
5.根据权利要求4所述的有机EL显示面板，其特征在于，
所述公共电极在俯视观察中延伸至所述电极板的上表面。
6.根据权利要求4所述的有机EL显示面板，其特征在于，
所述平坦化层的所述凹部一直开设至在俯视观察中位于所述像素电极所存在的区域的外方且相比于所述电极板靠内方的终点，
所述供电辅助布线在俯视观察中延伸至所述终点，
所述公共电极在俯视观察中延伸至所述电极板的上表面。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的有机EL显示面板，其特征在于，
所述平坦化层的所述凹部的深度为2μm以上且5μm以下，
所述供电辅助布线包含银，所述供电辅助布线的厚度为0.5μm以上且2μm以下。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的有机EL显示面板，其特征在于，
在将所述凹部设为第一凹部、将所述供电辅助布线设为第一供电辅助布线时，
进一步在所述平坦化层上的在列方向上相邻的所述像素电极的间隙中的至少一个间隙中以沿行方向延伸的方式开设有第二凹部，
所述公共电极以在所述平坦化层的所述第二凹部内连续的方式配置，
在位于所述平坦化层的所述第二凹部内的所述公共电极的上表面配置有由沿行方向延伸的涂布膜构成的第二供电辅助布线。
9.根据权利要求8所述的有机EL显示面板，其特征在于，
所述第二凹部及所述第二供电辅助布线的列方向位置根据在列方向上夹持着被开设所述第二凹部的间隙的所述像素电极的行方向的位置而不同。
10.根据权利要求8或9所述的有机EL显示面板，其特征在于，
所述第二凹部及所述第二供电辅助布线在列方向上按每多个像素电极而配置。
11.根据权利要求8至10中任一项所述的有机EL显示面板，其特征在于，
在所述平坦化层上的所述第二凹部与和所述第二凹部在列方向的两侧分别相邻的所述像素电极之间以沿行方向延伸的方式形成有两条行堤，
所述行堤的高度比所述第二凹部的深度小。
12.根据权利要求3所述的有机EL显示面板，其特征在于，
所述像素电极及所述下层供电辅助布线由蒸镀膜构成，
所述像素电极和所述下层供电辅助布线由相同的材料构成。
13.根据权利要求2所述的有机EL显示面板，其特征在于，
所述公共电极由蒸镀膜构成，并以在所述列堤的上方连续的方式形成。
14.根据权利要求2所述的有机EL显示面板，其特征在于，
在将所述列堤作为第一列堤时，
进一步在所述平坦化层上的在行方向上相邻的所述像素电极与所述像素电极之间以沿列方向延伸的方式形成有第二列堤，
所述发光层由涂布膜构成，并以在所述第一列堤与第二列堤的间隙内以及在行方向上相邻的所述第二列堤之间的间隙内在列方向上连续的方式配置。
15.一种有机EL显示面板的制造方法，其特征在于，具有：
准备基板的工序；
形成平坦化层的工序，所述平坦化层配置于所述基板的上表面并包含树脂材料；
形成像素电极的工序，在所述平坦化层上以行列状形成多个像素电极；
形成发光层的工序，所述发光层配置于所述像素电极上并包含有机发光材料；以及
配置公共电极的工序，以至少覆盖所述发光层的上方的方式在平面方向上连续地配置公共电极，
在所述形成平坦化层的工序中，在所述平坦化层上的在行方向上相邻的应形成所述像素电极的区域的间隙中的至少一个间隙中以沿列方向延伸的方式开设凹部，
在形成所述公共电极的工序中，以在所述平坦化层的所述凹部内连续的方式形成所述公共电极，
进一步，在所述配置公共电极的工序之后还具有形成供电辅助布线的工序，在位于所述平坦化层的所述凹部内的所述公共电极的上表面形成由沿列方向延伸的涂布膜构成的供电辅助布线。
16.根据权利要求15所述的有机EL显示面板的制造方法，其特征在于，
在形成所述像素电极的工序之后且形成所述发光层的工序之前，进一步具有形成列堤的工序，在所述平坦化层上的所述凹部与和所述凹部在行方向的两侧分别相邻的所述像素电极之间以沿列方向延伸的方式形成两条列堤，
在所述形成供电辅助布线的工序中，通过在所述列堤之间的间隙涂布包含金属材料的油墨并进行干燥而形成所述供电辅助布线。
17.根据权利要求15或16所述的有机EL显示面板的制造方法，其特征在于，
在所述形成像素电极的工序中，进一步在所述平坦化层的所述凹部内且在所述公共电极的下方形成由沿列方向延伸的蒸镀膜构成的下层供电辅助布线。
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