CN111636079A - 一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法 - Google Patents

一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111636079A
CN111636079A CN201910153963.8A CN201910153963A CN111636079A CN 111636079 A CN111636079 A CN 111636079A CN 201910153963 A CN201910153963 A CN 201910153963A CN 111636079 A CN111636079 A CN 111636079A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
diffusion
phase
platinum
electroplating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201910153963.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111636079B (zh
Inventor
鲍泽斌
刘贺
余春堂
朱圣龙
王成
辛丽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Institute of Metal Research of CAS
Original Assignee
Institute of Metal Research of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Institute of Metal Research of CAS filed Critical Institute of Metal Research of CAS
Priority to CN201910153963.8A priority Critical patent/CN111636079B/zh
Publication of CN111636079A publication Critical patent/CN111636079A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111636079B publication Critical patent/CN111636079B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C10/00Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
    • C23C10/06Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using gases
    • C23C10/08Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using gases only one element being diffused
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/50Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/48After-treatment of electroplated surfaces
    • C25D5/50After-treatment of electroplated surfaces by heat-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

本发明涉及单晶高温合金领域,具体为一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法。该方法包括以下步骤:(1)对金属基体预磨、喷砂及除油等表面处理;在基体上采用电镀法电镀Ni‑Re层;(2)采用碱性镀铂液进行镀铂;(3)扩散退火;(4)采用包埋、料浆及CVD化学气相沉积法渗铝,获得高温防护单相铝化物涂层。本发明在单相铂铝涂层与镍基单晶基体间生成以Re为主的致密扩散障,为了提高铂改性铝化物涂层的抗高温氧化及热腐蚀综合性能,同时阻碍或减缓涂层与基体之间的元素互扩散。该方法制备过程简单,可控性高,成本低廉,Re元素含量可控,镀层适用范围广,普适性强。

Description

一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法
技术领域
本发明涉及单晶高温合金领域,具体为一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法。
背景技术
单晶高温合金消除晶界,明显减少降低熔点的晶界强化元素,初熔温度较铸造、定向凝固高温合金大幅度提高,能够在较高温度范围进行固溶处理,是先进动力推进系统航空发动机叶片所用关键材料。单晶高温合金Al含量一般低于7wt.%,不足以发生选择性氧化生成单一保护性的氧化铝膜,抗高温氧化腐蚀性能较差,服役前需施加高温防护涂层进行保护。目前高温防护涂层主要包括:简单铝化物涂层、M(M=Ni、Co或Ni-Co)CrAlY包覆涂层及铂铝(主要为单相β-(Ni,Pt)Al)涂层三大类,其中铂铝涂层较前两者具有更为优异的抗高温氧化热腐蚀综合性能。元素Pt能促进Al的选择性氧化、降低S等有害元素的作用,同时还能提高涂层生成保护性氧化铝膜的粘附性能,因此抗氧化性能优异。然而,与其他高温防护涂层一样,铂改性铝化物涂层在提高镍基单晶高温合金抗氧化性能的同时,也会因涂层/基体间元素互扩散导致基体单晶合金力学性能(高温持久、疲劳等)的明显下降。因此,为了保证铂铝涂层的优异抗高温氧化性能的同时较少降低镍基单晶高温合金力学性能,必须要解决铂铝涂层与镍基单晶高温合金之间元素互扩散问题,通过减缓涂层退化速率的方式提高镍基单晶高温部件(例如:航空发动机叶片)的使役寿命。在涂层与基体间添加难熔元素如:Re、Ta、W等,可降低涂层与基体之间的互扩散。
采用EB-PVD(电子束物理气相沉积)的方法在基体上沉积纯金属Re的方法也可制备金属扩散障,但此方法需要大型EB-PVD设备,成本高昂。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,在单相铂铝涂层与镍基单晶基体间生成以Re为主的致密扩散障,为了提高铂改性铝化物涂层的抗高温氧化及热腐蚀综合性能,同时阻碍或减缓涂层与基体之间的元素互扩散。
本发明的技术方案是:
一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,包括如下步骤:
(1)表面处理方法:对基体进行预磨、喷砂处理,之后用碱洗及超声处理方法除油;
(2)处理后的基体进行Ni-Re电镀:电镀液为硫酸镍、氯化钠、硼酸、硫酸钠、高铼酸钾、十二烷基硫酸钠配制的水溶液,pH值维持在4~5.5之间,将配好的溶液在水浴40~65℃,电流密度为1~5A/dm2,以纯镍板为阳极进行电镀,电镀Ni-Re层厚度为2~10μm;
(3)在制备好的Ni-Re镀层上进行镀铂:采用碱性镀铂工艺,镀铂时pH值维持在7~11之间,电镀时温度控制在60~90℃;电流密度范围为为1~5A/dm2,以纯铂或镀铂钛网为阳极进行电镀,镀Pt层厚度为3~8μm;
(4)将电镀后的镀层在真空退火炉中进行退火:真空退火炉内气压小于6×10-3Pa,退火时升温速率在10℃/min以下;退火过程中先在400~700℃保持2~4h以去除镀层残留的氢气,防止鼓包现象发生;除氢后继续加热至1000~1100℃保温1~4h,炉冷至室温;
(5)经过扩散退火后,采用化学气相沉积或非接触气相法渗铝,获得含有Re阻扩散障的低扩散NiRePtAl涂层。
所述的用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,步骤(1)中,基体为Ni基单晶高温合金,包括:二、三代镍基单晶或单晶金属间化合物。
所述的用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,步骤(2)中,电镀液的成分含量范围如下:硫酸镍100~300g/L,氯化钠10~30g/L,硼酸20~40g/L,硫酸钠20~100g/L,高铼酸钾3~30g/L,十二烷基硫酸钠0.05~0.2g/L,余量为水。
所述的用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,该制备方法获得低扩散单相NiRePtAl涂层,涂层分为三部分,外层为单相β-(Ni,Pt)Al涂层,中间层为Re阻扩散层,内层为互扩散区,其中:Re阻扩散层富集在单相β-(Ni,Pt)Al涂层与互扩散区界面处,互扩散区富集在单晶基体界面处。
所述的用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,单相β-(Ni,Pt)Al涂层的厚度范围为20~30μm,中间层为Re阻扩散层的厚度范围为5~10μm,内层为互扩散区的厚度范围为10~30μm。
本发明的设计思想是:
本发明发展一种抑制与基体互扩散,同时在高温下具有较慢氧化增重的先进高温防护涂层。铼基扩散障的熔点为2362℃,在高温下稳定存在,且铝在铼基扩散障中的溶解度很小。在单相铂铝涂层与基体中引入铼基扩散障,可以起到抑制互扩散的作用。
本发明具有以下优点及有益效果:
1、制备过程简单,可控性高。本发明用电镀方式沉积Ni-Re层,不需要EB-PVD等大型真空设备,可用于沉积复杂形状零件,成本低廉。
2、本发明电镀配方中的Re由镀液中含Re盐提供,在涂层中的含量可控,镀层的厚度可控。
附图说明
图1是Ni-Re镀层的截面形貌。
图2是Ni-Re加Pt镀层退火前(a)及退火后(b)的截面形貌。
图3是渗铝后涂层XRD结果。图中,横坐标2theta代表衍射角(deg.),纵坐标Intensity代表相对强度(a.u.)。
图4是NiRePtAl/N5截面形貌。
图5是NiRePtAl/IC21截面形貌。
图6为实施例1的高温氧化动力学曲线以及氧化后的涂层下方互扩散区微观截面形貌照片。其中,(a)为高温氧化动力学曲线,(b)为普通(Ni,Pt)Al涂层1100℃氧化300h后互扩散区截面微观形貌照片,(c)为NiRePtAl涂层1100℃氧化300h后互扩散区截面微观形貌照片。
图7为实施例2的高温氧化动力学曲线以及氧化后的互扩散微观截面形貌照片。其中,(a)为高温氧化动力学曲线,(b)普通(Ni,Pt)Al涂层1100℃氧化200h微观截面形貌照片,(c)为NiRePtAl涂层1100℃氧化200h微观截面形貌照片。
具体实施方式
在具体实施过程中,本发明用于镍基单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,包括如下步骤:
(1)表面处理方法:对基体进行预磨、喷砂处理,之后用碱洗及超声处理方法除油;
(2)处理后的基体进行电镀Ni-Re:电镀液为硫酸镍、氯化钠、硼酸、硫酸钠、高铼酸钾、十二烷基硫酸钠配制的水溶液,电镀时pH值维持在5~5.5之间,将配好的溶液在水浴40~65℃,电流密度为1~5A/dm2,以纯镍板为阳极进行电镀,电镀Ni-Re层厚度为2~10μm。
(3)在制备好的Ni-Re镀层上进行镀铂:采用碱性镀铂工艺,镀铂时pH值维持在7~11之间,电镀时温度控制在60~90℃。电流密度范围为为1~5A/dm2,以纯铂或镀铂钛网为阳极进行电镀,镀Pt层厚度为3~8μm;
(4)将电镀后的镀层在真空退火炉中进行退火:真空退火炉内气压小于6×10-3Pa,退火时升温速率在10℃/min以下;退火过程中先在400~700℃保持2~4h以去除镀层残留的氢气,防止鼓包现象发生;除氢后继续加热至1000~1100℃保温1~4h,炉冷至室温;
(5)经过扩散退火后,采用包埋、料浆、化学气相沉积(CVD)或非接触气相(Above-pack)法渗铝,获得一种含有Re阻扩散障的低扩散NiRePtAl涂层。
下面,通过实施例对本发明进一步详细说明。
实施例1
本实施例中,使用的基体为镍基二代单晶高温合金N5,基体尺寸为Φ15×2mm,电镀前基体依次用240#、400#SiC砂纸打磨后,并进行氧化铝喷砂处理,随后采用NaOH水溶液碱洗除油,并采用酒精和丙酮溶液超声分别清洗15min,吹干备用。
电镀Ni-Re层:采用电镀法沉积Ni-Re涂层。电镀液的配方如表1所示。采用直流电源进行电镀,电镀在磁力搅拌器中进行,搅拌速度为10r/min。整个电镀过程保持在恒温下进行,电镀时温度控制为45℃,平均电流密度控制在5A/dm2,电镀1h后获得厚度为5μm的Ni-Re镀层(图1)。
表1 Ni-Re电镀液的配方
电镀液成分 含量(g/L)
硫酸镍 200
氯化钠 20
硼酸 30
硫酸钠 60
高铼酸钾 5
十二烷基硫酸钠 0.1
余量
电镀Pt涂层:采用碱性镀铂法电镀。电镀液成分如表2所示,用氨水将溶液pH值调制11。采用直流电源进行电镀,电镀在磁力搅拌器中进行,搅拌速度为20r/min。整个电镀过程保持在恒温下进行,电镀时温度控制在90℃,电流密度控制在5A/dm2,电镀2h后获得厚度为6μm的Pt镀层。
表2 Pt电镀液的配方
电镀液成分 含量(g/L)
二亚硝基二氨铂 10
亚硝酸钠 10
柠檬酸钠 12
乙酸钠 6
余量
电镀后的复合镀层进行真空退火,退火时真空退火炉的气压为5×10-3Pa,升温速率为10℃/min。退火过程中先在500℃保持1.5h以去除镀层中残留的氢气,防止鼓包等现象。除氢后保持升温速率不变加热至1030℃保温2h,使电镀层与基体金属进行扩散。
如图2所示,从Ni-Re加Pt镀层退火前(a)及退火后(b)的截面形貌可以看出,退火前(a)镀Pt层与Ni-Re层界面致密,无孔洞。退火后(b)Re基扩散障以颗粒状分布在涂层与基体界面。
采用非接触气相渗铝的方法进行渗铝。渗剂由Fe-Al粉和活性剂NH4Cl组成,Fe-Al合金粉中Al含量约为51wt.%,渗剂中的活性剂NH4Cl占2wt.%。采用高温低活度渗铝方法,在1060℃下渗铝5h,在N5合金上获得低扩散单相NiRePtAl涂层。如图3所示,渗铝后的XRD结果,从结果可知,涂层具有β-(Ni,Pt)Al相。如图4所示,渗铝后的截面扫描图片,从图中可以看出涂层分三部分,外层为单相β-(Ni,Pt)Al涂层,中间层为Re阻扩散层,内层为互扩散区(IDZ),其中:Re阻扩散层富集在单相β-(Ni,Pt)Al涂层与互扩散区(IDZ)界面处,互扩散区(IDZ)富集在单晶基体界面处。Re阻扩散层的厚度是8μm,单相β-(Ni,Pt)Al涂层的厚度是30μm,互扩散区(IDZ)的厚度是15μm。
该涂层外层为固溶Pt元素的改性NiAl相涂层,NiAl相熔点高,能够在高温下形成保护性氧化膜。加入以Re为主的阻扩散障可以在高温氧化过程中减少涂层与基体间的互扩散,减缓涂层退化,延长涂层使用寿命。
如图6所示,本实施例获得带有阻扩散效果的NiRePtAl涂层,从高温氧化动力学以及氧化后的互扩散微观截面形貌照片可以看出,在1100℃恒温氧化300h后,相比于普通(Ni,Pt)Al涂层,NiRePtAl涂层的氧化增重更小。对比截面形貌看出,氧化300h后,NiRePtAl涂层的氧化膜更薄,且在互扩散区下方仅出现少量针尖状TCP相。
实施例2
本实施例中,使用的基体为镍基单晶金属间化合物IC21,基体尺寸为15×10×2mm,电镀前基体依次用240#、400#SiC砂纸打磨后,并进行刚玉干喷砂处理,随后用NaOH水溶液碱洗除油,并分别采用酒精和丙酮溶液超声清洗15min,吹干备用。
电镀Ni-Re层:采用电镀法沉积Ni-Re镀层,电镀液成分及如表3所示。采用直流电源进行电镀,电镀时采用磁力搅拌器,搅拌速度为10r/min。电镀过程中保持在镀液恒温,温度控制在60℃,电流密度5A/dm2,电镀1.5h后获得厚度为7μm的Ni-Re镀层。
表3 Ni-Re电镀液的配方
电镀液成分 含量(g/L)
硫酸镍 150
氯化钠 15
硼酸 35
硫酸钠 80
高铼酸钾 25
十二烷基硫酸钠 0.1
余量
电镀Pt涂层:采用碱性镀铂法电镀。电镀液成分及电镀工艺如表2所示。采用直流电源进行电镀,电镀在磁力搅拌器中进行,搅拌速度为10r/min。整个电镀过程保持在恒温下进行,电镀时温度控制90℃,电流密度控制5A/dm2,电镀1h后获得厚度为3μm的Pt镀层。
电镀后的复合镀层进行真空退火,退火时真空退火炉的气压4×10-3Pa,升温速率为5℃/min。退火过程中先在500℃保持2h以去除镀层中残留的氢气,防止鼓包等现象。除氢后保持升温速率不变加热至1050℃保温1h,使镀层与基体金属进行有效扩散。
采用非接触气相渗铝的方法进行渗铝。渗剂由Fe-Al合金粉和活性剂NH4Cl组成,Fe-Al合金粉中Al含量约为51wt.%,渗剂中的活性剂NH4Cl占3wt.%。采用高温低活度渗铝方法,在1080℃下渗铝4.5h,在IC21合金上获得低扩散单相NiRePtAl涂层。如图5所示,渗铝后的截面扫描图片,从图中可以看出涂层分为三部分,外层为单相β-(Ni,Pt)Al涂层,中间层为Re阻扩散层,内层为互扩散区(IDZ),其中:Re阻扩散层富集在单相β-(Ni,Pt)Al涂层与互扩散区(IDZ)界面处,互扩散区(IDZ)富集在单晶基体界面处。Re阻扩散层的厚度是7μm,单相β-(Ni,Pt)Al涂层的厚度是25μm,互扩散区(IDZ)的厚度是19μm。
如图7所示,本实施例获得带有阻扩散效果的NiRePtAl涂层,从高温氧化动力学以及氧化后的互扩散微观截面形貌照片可以看出,在1100℃恒温氧化200h后,相比于普通(Ni,Pt)Al涂层,NiRePtAl涂层的氧化增重更小,氧化膜厚度更薄,且在互扩散区下方出现的二次反应区的长度更短。
实施例结果表明,本发明提供一种制备简单、经济的电镀方法制备Ni-Re扩散障抑制铂铝涂层与基体间互扩散对提高铂铝涂层抗高温氧化性能,有效延长涂覆低扩散铂铝涂层的镍基单晶合金部件服役寿命,推动航空涡轮及燃气涡轮发动机的发展具有重要意义。

Claims (5)

1.一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)表面处理方法:对基体进行预磨、喷砂处理,之后用碱洗及超声处理方法除油;
(2)处理后的基体进行Ni-Re电镀:电镀液为硫酸镍、氯化钠、硼酸、硫酸钠、高铼酸钾、十二烷基硫酸钠配制的水溶液,pH值维持在4~5.5之间,将配好的溶液在水浴40~65℃,电流密度为1~5A/dm2,以纯镍板为阳极进行电镀,电镀Ni-Re层厚度为2~10μm;
(3)在制备好的Ni-Re镀层上进行镀铂:采用碱性镀铂工艺,镀铂时pH值维持在7~11之间,电镀时温度控制在60~90℃;电流密度范围为为1~5A/dm2,以纯铂或镀铂钛网为阳极进行电镀,镀Pt层厚度为3~8μm;
(4)将电镀后的镀层在真空退火炉中进行退火:真空退火炉内气压小于6×10-3Pa,退火时升温速率在10℃/min以下;退火过程中先在400~700℃保持2~4h以去除镀层残留的氢气,防止鼓包现象发生;除氢后继续加热至1000~1100℃保温1~4h,炉冷至室温;
(5)经过扩散退火后,采用化学气相沉积或非接触气相法渗铝,获得含有Re阻扩散障的低扩散NiRePtAl涂层。
2.按照权利要求1所述的用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,基体为Ni基单晶高温合金,包括:二、三代镍基单晶或单晶金属间化合物。
3.按照权利要求1所述的用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,电镀液的成分含量范围如下:硫酸镍100~300g/L,氯化钠10~30g/L,硼酸20~40g/L,硫酸钠20~100g/L,高铼酸钾3~30g/L,十二烷基硫酸钠0.05~0.2g/L,余量为水。
4.按照权利要求1所述的用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,其特征在于,该制备方法获得低扩散单相NiRePtAl涂层,涂层分为三部分,外层为单相β-(Ni,Pt)Al涂层,中间层为Re阻扩散层,内层为互扩散区,其中:Re阻扩散层富集在单相β-(Ni,Pt)Al涂层与互扩散区界面处,互扩散区富集在单晶基体界面处。
5.按照权利要求4所述的用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法,其特征在于,单相β-(Ni,Pt)Al涂层的厚度范围为20~30μm,中间层为Re阻扩散层的厚度范围为5~10μm,内层为互扩散区的厚度范围为10~30μm。
CN201910153963.8A 2019-03-01 2019-03-01 一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法 Active CN111636079B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910153963.8A CN111636079B (zh) 2019-03-01 2019-03-01 一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910153963.8A CN111636079B (zh) 2019-03-01 2019-03-01 一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111636079A true CN111636079A (zh) 2020-09-08
CN111636079B CN111636079B (zh) 2021-10-22

Family

ID=72324624

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910153963.8A Active CN111636079B (zh) 2019-03-01 2019-03-01 一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111636079B (zh)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113789557A (zh) * 2021-09-17 2021-12-14 北京航空航天大学 高温合金表面致密型富Re阻扩散涂层的制备方法
CN114016097A (zh) * 2021-11-26 2022-02-08 湖南兴弘新材料科技有限公司 一种镀铂液及其制备方法和应用
CN114134545A (zh) * 2021-10-21 2022-03-04 中国科学院金属研究所 一种在光亮金属表面电镀铂的镀液及其电镀方法
CN114481235A (zh) * 2022-01-27 2022-05-13 北京航空航天大学 一种单晶叶片热障涂层的等离子物理气相沉积制备方法
CN114672859A (zh) * 2022-03-11 2022-06-28 沈阳梅特科航空科技有限公司 一种可作为热障涂层粘结层的铂改性铝化物涂层及其制备工艺
CN114737229A (zh) * 2022-04-11 2022-07-12 中国科学院金属研究所 一种在单晶高温合金的表面制备铂改性铝化物涂层的方法
CN115125592A (zh) * 2022-07-19 2022-09-30 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种Pt改性铝化物涂层及其制备方法与应用
CN117646127A (zh) * 2023-12-01 2024-03-05 美特林科航空科技(安徽)有限公司 一种无碳镍基单晶高温合金纯净化熔炼方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070071991A1 (en) * 2005-02-01 2007-03-29 Marie-Pierre Bacos Protective coating for monocrystalline superalloy
CN101709470A (zh) * 2009-11-30 2010-05-19 中国科学院金属研究所 一种含有原位生成扩散障的复合涂层制备方法
JP2010242189A (ja) * 2009-04-08 2010-10-28 Dbc System Kenkyusho:Kk 耐熱および耐環境性合金皮膜の除去方法、耐熱および耐環境性合金皮膜の製造方法、高温装置部材の製造方法ならびに金属基材の製造方法
CN101914774A (zh) * 2010-08-19 2010-12-15 上海应用技术学院 具有Re-Ni-Cr合金扩散障碍层的粘结层材料及其制备方法
CN105350042A (zh) * 2015-10-28 2016-02-24 上海大学 涂覆于高温合金表面的β-(Ni,Pt)Al单相合金层的制备方法
CN105624617A (zh) * 2014-10-29 2016-06-01 中国科学院金属研究所 电弧离子镀制备致密MCrAlRe型涂层的方法
CN108998794A (zh) * 2018-08-21 2018-12-14 中国科学院金属研究所 一种Re-Si共改性铝化物涂层及其制备方法
CN112011812A (zh) * 2020-07-14 2020-12-01 中国科学院金属研究所 一种用于镍基四代单晶高温合金低扩散率铂改性金属粘结层的制备方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070071991A1 (en) * 2005-02-01 2007-03-29 Marie-Pierre Bacos Protective coating for monocrystalline superalloy
JP2010242189A (ja) * 2009-04-08 2010-10-28 Dbc System Kenkyusho:Kk 耐熱および耐環境性合金皮膜の除去方法、耐熱および耐環境性合金皮膜の製造方法、高温装置部材の製造方法ならびに金属基材の製造方法
CN101709470A (zh) * 2009-11-30 2010-05-19 中国科学院金属研究所 一种含有原位生成扩散障的复合涂层制备方法
CN101914774A (zh) * 2010-08-19 2010-12-15 上海应用技术学院 具有Re-Ni-Cr合金扩散障碍层的粘结层材料及其制备方法
CN105624617A (zh) * 2014-10-29 2016-06-01 中国科学院金属研究所 电弧离子镀制备致密MCrAlRe型涂层的方法
CN105350042A (zh) * 2015-10-28 2016-02-24 上海大学 涂覆于高温合金表面的β-(Ni,Pt)Al单相合金层的制备方法
CN108998794A (zh) * 2018-08-21 2018-12-14 中国科学院金属研究所 一种Re-Si共改性铝化物涂层及其制备方法
CN112011812A (zh) * 2020-07-14 2020-12-01 中国科学院金属研究所 一种用于镍基四代单晶高温合金低扩散率铂改性金属粘结层的制备方法

Non-Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
LIU, H等: ""Preparation and oxidation performance of a low-diffusion Pt-modified aluminide coating with Re-base diffusion barrier"", 《CORROSION SCIENCE》 *
MERCIER, S等: ""A novel duplex Re-NiW based diffusion barrier on a nickel-base superalloy for TBC systems"", 《MATERIALS SCIENCE FORUM》 *
NARITA, T等: ""Development of Re-based diffusion barrier coatings on nickel based superalloys"", 《MATERIALS AND CORROSION-WERKSTOFFE UND KORROSION》 *
REZA GHASEMI等: ""Electrodeposition of rhenium-base layer as a diffusion barrier between the NiCoCrAlY coating and a Ni-based superalloy"", 《JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS》 *
刘贺: ""单晶高温合金用低扩散铂铝涂层的制备及性能研究"", 《中国博士学位论文全文数据库》 *
常占河 等: ""铂改性铝化物涂层的研究进展"", 《科技展望》 *
阳颖飞: ""Pt改性铝化物涂层的制备科学及性能研究"", 《中国博士学位论文全文数据库》 *

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113789557A (zh) * 2021-09-17 2021-12-14 北京航空航天大学 高温合金表面致密型富Re阻扩散涂层的制备方法
CN113789557B (zh) * 2021-09-17 2022-06-10 北京航空航天大学 高温合金表面致密型富Re阻扩散涂层的制备方法
CN114134545A (zh) * 2021-10-21 2022-03-04 中国科学院金属研究所 一种在光亮金属表面电镀铂的镀液及其电镀方法
CN114016097A (zh) * 2021-11-26 2022-02-08 湖南兴弘新材料科技有限公司 一种镀铂液及其制备方法和应用
CN114481235A (zh) * 2022-01-27 2022-05-13 北京航空航天大学 一种单晶叶片热障涂层的等离子物理气相沉积制备方法
CN114672859A (zh) * 2022-03-11 2022-06-28 沈阳梅特科航空科技有限公司 一种可作为热障涂层粘结层的铂改性铝化物涂层及其制备工艺
CN114672859B (zh) * 2022-03-11 2024-05-17 沈阳梅特科航空科技有限公司 一种可作为热障涂层粘结层的铂改性铝化物涂层及其制备工艺
CN114737229A (zh) * 2022-04-11 2022-07-12 中国科学院金属研究所 一种在单晶高温合金的表面制备铂改性铝化物涂层的方法
CN114737229B (zh) * 2022-04-11 2024-04-05 中国科学院金属研究所 一种在单晶高温合金的表面制备铂改性铝化物涂层的方法
CN115125592A (zh) * 2022-07-19 2022-09-30 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种Pt改性铝化物涂层及其制备方法与应用
CN115125592B (zh) * 2022-07-19 2024-05-07 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种Pt改性铝化物涂层及其制备方法与应用
CN117646127A (zh) * 2023-12-01 2024-03-05 美特林科航空科技(安徽)有限公司 一种无碳镍基单晶高温合金纯净化熔炼方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN111636079B (zh) 2021-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111636079B (zh) 一种用于单晶高温合金低扩散单相铂铝涂层的制备方法
CN112011812A (zh) 一种用于镍基四代单晶高温合金低扩散率铂改性金属粘结层的制备方法
CN108130566B (zh) 用于镍基高温合金表面电镀铂层的电镀液及其电镀方法
US20130341197A1 (en) Methods for producing a high temperature oxidation resistant mcralx coating on superalloy substrates
EP3080338B1 (en) Nickel-chromium-aluminum composite by electrodeposition
EP2465977B1 (en) Methods for producing a high temperature oxidation resistant coating on superalloy substrates
FI110875B (fi) Suojapinnoitus
CN108998794B (zh) 一种Re-Si共改性铝化物涂层及其制备方法
Zhu et al. Oxidation of a novel chromium coating with CeO 2 dispersions
CN101914774B (zh) 具有Re-Ni-Cr合金扩散障碍层的粘结层材料的制备方法
Ghasemi et al. Electrodeposition of rhenium-base layer as a diffusion barrier between the NiCoCrAlY coating and a Ni-based superalloy
US20170335483A1 (en) Nickel-based electrochemical cell cathode with an alumina-coated co-deposit
CN105603424A (zh) 一种Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层及其制备方法
CN110735162A (zh) 一种Hf改性的PtAl涂层及制备方法与应用
Allahyarzadeh et al. Electrodeposition on superalloy substrates: a review
CN100519842C (zh) 一种γ'-Ni3Al/γ-Ni涂层的制备方法
CN105624658B (zh) 一种活性元素改性铝化物涂层及其制备工艺
CN103484824B (zh) 一种抗1200℃高温氧化耐燃气热腐蚀的复合粘结层材料及其制备方法
CN117107311A (zh) 一种Pt改性的叶片叶尖防护涂层及其制备方法
CN114737229B (zh) 一种在单晶高温合金的表面制备铂改性铝化物涂层的方法
CN112553625B (zh) 一种活性元素Hf改性的β-NiAl涂层及其制备工艺
CN110295383B (zh) 一种Cr改性铝化物涂层及其制备方法
CN115961285A (zh) 一种Ce和Pt共改性铝化物涂层及其制备方法
CN116121831A (zh) 一种cBN陶瓷颗粒/铝化物复合涂层及其制备方法
CN109136849B (zh) 一种Pt改性的梯度Al涂层及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant