CN111629824A - 在反应室中分配光 - Google Patents

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F·塔吉波尔
M·辛格
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Abstract

在反应室中分配电磁辐射可以包括使至少一部分来自至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射被至少一个透镜以相对于反应室的纵向方向和/或相对于该至少一部分来自该至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射侧向地偏斜的、折射的电磁辐射的形式折射到所述反应室中。

Description

在反应室中分配光
相关申请的交叉引用
本申请要求于2017年9月25日提交的加拿大专利申请No.2,980,178的权益和优先权，其全部内容通过引用合并于此。
技术领域
本公开总体上涉及在反应室中分配光。
背景技术
通过使流体在反应室中经受紫外线(“UV”)可以处理诸如水或空气的流体，例如以使病原体失活。诸如发光二极管(“LED”)的固态光源可以产生这种UV光，但是这种光可能无法足够地分布在整个反应室中。
结果，反应室可能具有一个或多个暗区，该暗区很少暴露或不暴露于这种光。例如，完全准直或会聚准直的辐射图案可以节省功率，但是可能留下暗区，暗区可能导致反应器性能下降，特别是当反应室仅由一个通道组成时。
类似地，当局部流体速率例如由于从反应室的一侧将流体引入反应室而在反应室的某些位置较高时，在这种较高的流体速率下的流体需要较高的UV强度才能达到与具有较低速率的流体相似的杀菌水平。
通过此类暗区的或与这种高速流体一起流动的流体中的病原体可能不会失活，这可能对健康有害。
发明内容
根据一个实施例，提供了一种在反应室中分配电磁辐射的方法，所述反应室至少在反应室的入口与反应室的出口之间沿纵向方向延伸，该方法包括使至少一部分来自至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射被至少一个透镜折射到反应室中作为相对于纵向方向侧向地偏斜的折射的电磁辐射。
根据另一实施例，提供了一种在反应室中分配电磁辐射的方法，该方法包括使至少一部分来自至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射被至少一个透镜以相对于所述至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射侧向地偏斜的、折射的电磁辐射的形式折射到反应室中。
在一些实施例中，所述反应室至少在反应室的入口与反应室的出口之间沿纵向方向延伸。
在一些实施例中，使所述至少一部分折射的电磁辐射折射到反应室中包括使反应室中的折射的电磁辐射相对于纵向方向侧向地偏斜。
在一些实施例中，所述纵向方向平行于反应室的纵向中心轴线。
在一些实施例中，所述入口构造成沿不平行于纵向方向的入口方向将流体引导到反应室中。
在一些实施例中，所述入口方向基本垂直于纵向方向。
在一些实施例中，使所述至少一部分折射的电磁辐射折射到反应室中包括使折射的电磁辐射的注量率在反应室中且从该入口并沿着入口方向随着离入口的距离的增大而增高。
在一些实施例中，使所述至少一部分折射的电磁辐射折射到反应室中包括使折射的电磁辐射在反应室的靠近入口的第一横向侧的注量率小于折射的电磁辐射在反应室的第二横向侧的注量率，该第二横向侧与反应室的第一横向侧相对且与入口相对。
在一些实施例中，所述入口构造成沿基本平行于纵向方向的入口方向将流体引导到反应室中。
在一些实施例中，使所述反应室中的折射的电磁辐射相对于纵向方向侧向地偏斜包括使反应室中的折射的电磁辐射朝向自入口的入口方向在反应室中的延伸部分并相对于纵向方向侧向地偏斜。
在一些实施例中，使所述至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射被所述至少一个透镜折射到反应室中包括使所述至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射被围绕沿着入口方向延伸的入口轴线间隔开的多个透镜折射到反应室中；并且朝向自入口的入口方向在反应室中的延伸部分并相对于纵向方向侧向地偏斜。
在一些实施例中，所述多个透镜围绕所述入口轴线。
在一些实施例中，所述电磁辐射包括紫外线(“UV”)辐射。
在一些实施例中，所述至少一个电磁辐射发射器包括至少一个UV发光二极管(“UV-LED”)。
在一些实施例中，所述至少一个电磁辐射发射器包括至少一个发光二极管(“LED”)。
在一些实施例中，所述至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射具有主辐射方向。
在一些实施例中，所述至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射关于所述主辐射方向基本上轴向对称。
在一些实施例中，所述折射的电磁辐射相对于所述至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射的主辐射方向轴向不对称地分布。
在一些实施例中，所述折射的电磁辐射在所述主辐射方向的第一横向侧的注量率大于所述折射的电磁辐射在与所述主辐射方向的第一横向侧相对的所述主辐射方向的第二横向侧的注量率。
在一些实施例中，所述至少一个透镜包括具有不平行于所述主辐射方向的光轴的至少一个透镜。
在一些实施例中，所述至少一个透镜包括具有平行于所述主辐射方向并与所述主辐射方向间隔开的光轴的至少一个透镜。
在一些实施例中，所述至少一个透镜包括至少一个轴向不对称的透镜。
根据另一实施例，提供了一种反应器设备，其包括：主体，其限定入口、出口和至少在所述入口与所述出口之间沿纵向方向延伸的反应室；至少一个电磁辐射发射器；和至少一个透镜，其构造成将至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射以相对于所述纵向方向侧向地偏斜的、折射的电磁辐射的形式折射到所述反应室中。
根据另一个实施例，提供了一种反应器设备，其包括：限定反应室的主体；至少一个电磁辐射发射器；和至少一个透镜，其构造成将至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射以相对于从所述至少一个电磁辐射发射器到所述反应室中的至少一部分电磁辐射侧向地偏斜的、折射的电磁辐射的形式折射到所述反应室中。
在一些实施例中：所述主体进一步限定所述反应室的入口和所述反应室的出口；并且所述反应室至少在所述入口与所述出口之间沿纵向方向延伸。
在一些实施例中，所述至少一个透镜构造成使所述反应室中的折射的电磁辐射相对于所述纵向方向侧向地偏斜。
在一些实施例中，所述纵向方向平行于所述反应室的纵向中心轴线。
在一些实施例中，所述入口构造成沿不平行于所述纵向方向的入口方向将流体引导到所述反应室中。
在一些实施例中，所述入口方向基本垂直于所述纵向方向。
在一些实施例中，所述至少一个透镜构造成使所述折射的电磁辐射的注量率在所述反应室中从入口并沿着入口方向随着离入口的距离的增大而增高。
在一些实施例中，所述至少一个透镜构造成使所述折射的电磁辐射在所述反应室的靠近所述入口的第一横向侧的注量率小于所述折射的电磁辐射在所述反应室的第二横向侧的注量率，该第二横向侧与所述反应室的第一横向侧相对且与所述入口相对。
在一些实施例中，所述入口构造成沿基本平行于所述纵向方向的入口方向将流体引导到所述反应室中。
在一些实施例中，所述至少一个透镜构造成使所述反应室中的折射的电磁辐射朝向自入口的入口方向在反应室中的延伸部分并相对于纵向方向侧向地偏斜。
在一些实施例中，所述至少一个透镜包括多个透镜，所述多个透镜围绕沿着所述入口方向延伸的入口轴线间隔开。
在一些实施例中，所述多个透镜围绕所述入口轴线。
在一些实施例中，所述至少一个电磁辐射发射器包括至少一个UV辐射发射器。
在一些实施例中，所述至少一个UV辐射发射器包括至少一个UV-LED。
在一些实施例中，所述至少一个电磁辐射发射器包括至少一个LED。
在一些实施例中，所述至少一个电磁辐射发射器构造成使得所述至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射具有主辐射方向。
在一些实施例中，所述至少一个电磁辐射发射器构造成使所述至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射关于所述主辐射方向基本上轴向对称。
在一些实施例中，所述至少一个透镜构造成使所述折射的电磁辐射相对于所述至少一部分来自所述至少一个电磁辐射发射器的电磁辐射的主辐射方向轴向不对称地分布。
在一些实施例中，所述至少一个透镜构造成使所述折射的电磁辐射在所述主辐射方向的第一横向侧的注量率大于所述折射的电磁辐射在所述主辐射方向的第二横向侧的注量率，所述第二横向侧与所述主辐射方向的第一横向侧相对。
在一些实施例中，所述至少一个透镜具有不平行于主辐射方向的光轴。
在一些实施例中，所述至少一个透镜具有平行于所述主辐射方向并与所述主辐射方向间隔开的光轴。
在一些实施例中，所述至少一个透镜包括轴向不对称的透镜。
在查阅下文结合附图对示例性实施例的描述后，其它方面和特征对本领域普通技术人员而言将变得显而易见。
附图说明
图1是根据一个实施例的反应器设备的透视图。
图2是沿着图1中的线2-2截取的图1的反应器设备的截面图。
图3是图1的反应器设备的反应器头的截面图。
图4是根据另一实施例的反应器头的截面图。
图5是根据另一实施例的反应器头的截面图。
图6是根据另一实施例的反应器头的截面图。
图7是根据另一实施例的反应器头的截面图。
图8是根据另一实施例的反应器头的截面图。
图9是根据另一实施例的反应器头的截面图。
图10是根据另一实施例的反应器头的透视图。
图11是图10的反应器头的侧视图。
图12是根据另一实施例的反应器头的透视图。
图13是图12的反应器头的侧视图。
图14是根据另一实施例的反应器头的透视图。
图15是根据另一实施例的反应器设备的截面图。
图16是根据另一实施例的反应器设备的截面图。
具体实施方式
参照图1和2，根据一个实施例的反应器设备总体上以100示出，并且包括限定反应室104的反应器主体102，该反应室104在反应室104的纵向端部108和110之间沿纵向方向106延伸。反应器主体102还限定反应室104的靠近纵向端部108的入口112和反应室104的靠近纵向端部110的出口114。因此，反应室104至少在入口112与出口114之间沿纵向方向106延伸。
入口112沿着入口轴线116延伸，因此构造成沿入口方向118将流体引导到反应室104中，该入口方向118可以是入口轴线116向反应室104中的延伸，并且可以基本垂直于纵向方向106。然而，在其它实施例中，入口方向118可以不同，并且可以例如在不平行于纵向方向106的其它方向上。反应室104具有靠近入口112的横向侧120和与横向侧120相对且与入口112相对的横向侧122。在所示的实施例中，由于入口方向118不平行于纵向方向106，所以反应室104中的流体可以在反应室104的位于入口112下游的区域中比在反应室104的其它区域中更快地流动，并且反应室104中的流体可以在横向侧122比在横向侧120更快地流动。
反应器设备100包括在纵向端部108处的半透明或透明壁124，以及在纵向端部110处的半透明或透明壁126。反应器设备100还包括反应器头128，其靠近纵向端部108并且定位成透过半透明或透明壁124将电磁辐射从纵向端部108引导到反应室104中。反应器设备100还包括反应器头130，其靠近纵向端部110并且定位成透过半透明或透明壁126将电磁辐射从纵向端部110引导到反应室104中。因此，例如，半透明或透明壁124和126可以是能透过或能半透过来自不同反应器头(例如文中描述的那些)的电磁辐射的。
反应器头128包括UV发光二极管(“UV-LED”)132、透镜134和透镜136。在所示的实施例中，透镜134是半球形透镜，并且透镜136是平凸透镜，不过替代实施例可以不同。至少一部分来自UV-LED 132的UV辐射可以被透镜134折射，至少一部分被透镜134折射的UV辐射可以被透镜136折射，并且至少一部分被透镜136折射的UV辐射可以透过半透明或透明壁124从纵向端部108被引导到反应室104中。因此，例如，UV-LED 132、透镜134和透镜136可以共同用作用于反应室(例如文中描述的反应室)的UV源(或更一般地说，用作电磁辐射源)。如图2所示，来自UV-LED 132并从纵向端部108进入反应室104的这种折射的UV辐射可以基本上被准直或发散，并且来自UV-LED 132并进入反应室104的这种折射的UV辐射的主辐射方向可以基本平行于纵向方向106。然而，替代实施例可以不同。
一般地，电磁辐射的主辐射方向可以是电磁辐射的强度加权平均传播方向，或者可以以其它方式定义。一般而言，电磁辐射可以关于其主辐射方向轴向对称或可以轴向不对称。
参照图2和图3，反应器头130包括UV-LED 138、透镜140和透镜142。在所示的实施例中，透镜140是半球形透镜，并且透镜142是平凸透镜，但是替代实施例可以不同。来自UV-LED 138的至少一部分UV辐射可以被透镜140折射，至少一部分被透镜140折射的UV辐射可以被透镜142折射，并且至少一部分被透镜142折射的UV辐射可以透过半透明或透明壁126从纵向端部110引导到反应室104中。因此，UV-LED 138、透镜140和透镜142可以共同充当用于反应室(例如，本文描述的反应室)的UV源(或更一般地，电磁辐射源)。
如图3所示，透镜140具有光轴144，并且透镜142具有光轴146。此外，在所示的实施例中，光轴144和146基本共线，并且来自UV-LED 138的UV辐射可以基本上关于光轴144轴向对称，但是替代实施例可以不同。然而，光轴144和146不平行于纵向方向106并且相对于纵向方向106倾斜。在所示的实施例中，光轴144和146与纵向方向106之间的倾斜角度可以在约1度与约45度之间，但是替代实施例可以不同。结果，如图2和3所示，来自UV-LED 138并从纵向端部110进入反应室104的折射的UV辐射相对于纵向方向106侧向地偏斜，并且被透镜142折射的UV辐射的主辐射方向148是与纵向方向106的倾斜角度150。
如图3所示，来自UV-LED 138并从纵向端部110进入反应室104的折射的UV辐射相对于沿远离入口112的横向方向的、来自UV-LED 138的被折射的UV辐射侧向地偏斜。结果，沿着从入口112起的入口方向118，来自UV-LED 138并从纵向端部110进入反应室104的折射的UV辐射的注量率(强度密度)或局部强度随着与入口112的距离增大而增大。而且，结果，来自UV-LED 138并从纵向端部110进入反应室104的横向侧120的折射的UV辐射的注量率或局部强度小于来自UV-LED 138并从纵向端部110进入反应室104的横向侧122的折射的UV辐射的注量率或局部强度。
如上所述，在所示的实施例中，反应室104中的流体在反应室104的在入口112下游的区域中的流动可以比在反应室104中的其它区域中的流动快，并且反应室104中的流体在横向侧122的流动比在横向侧120的流动快。如图2所示，由于来自UV-LED 138并从纵向端部110进入反应室104的折射的UV辐射沿远离入口112的横向方向侧向地倾斜，所以反应室104中的UV辐射注量率或局部强度可以与反应室104中的流体流速相关。换句话说，一般而言，反应室104中的UV辐射注量率或局部强度可能在反应室104中的流体流速也可能较高的区域中较高，并且与没有这种偏斜的UV辐射的其它反应器设备相比，对于流过反应室104的流体的总UV暴露可能更一致。
参照图4，根据另一实施例的反应器头总体上以156示出，并且包括UV-LED 158、具有光轴162的透镜160和具有光轴166的透镜164。在所示的实施例中，透镜160是半球形透镜，而透镜164是平凸透镜，但是替代实施例可以不同。至少一部分来自UV-LED 158的UV辐射可以被透镜160折射，至少一部分被透镜160折射的UV辐射可以被透镜164折射，并且至少一部分被透镜164折射的UV辐射可以被引导到反应室中，例如透过半透明或透明壁124从纵向端部108进入反应室104，或透过半透明或透明壁126从纵向端部110被引导到反应室104中，或更一般地，被引导到反应室(例如如本文所述的反应室)的一个或两个纵向端部中。因此，例如，UV-LED 158、透镜160和透镜164可共同用作用于反应室(例如本文描述的反应室)的UV源(或更一般地，电磁辐射源)。
来自UV-LED 158的UV辐射可以关于主辐射方向168基本轴向对称，并且光轴162与主辐射方向168基本共线，但是替代实施例可以不同。然而，光轴166不平行于主辐射方向168和光轴162，而是相对于主辐射方向168和光轴162倾斜的。在所示的实施例中，光轴166与主辐射方向168之间(或光轴166与反应室的纵向方向——例如反应室104的纵向方向106——之间)的倾斜角度可以在约1度至约45度之间，但是替代实施例可以不同。结果，由透镜164折射的UV辐射关于主辐射方向168不是基本轴向对称的，而是相对于主辐射方向168侧向地偏斜并且相对于从UV-LED 158折射的UV辐射侧向地偏斜。换句话说，来自UV-LED158并由透镜160和164折射的UV辐射的注量率或局部强度在主辐射方向168的一个横向侧(在图4的取向中在主辐射方向168上方)比在主辐射方向168的相对横向侧(在图4的取向在主辐射方向168下方)大。此外，由透镜164折射的UV辐射可以折射到反应室中，并且由透镜164折射到反应室中的UV辐射可以相对于反应室的纵向方向侧向地偏斜，例如，类似于如以上参考图2所述的反应器头130。
在图4的实施例中，UV-LED 158、透镜160和透镜164可以定位在反应器头156中，使得主辐射方向168和光轴162可以平行于反应室的纵向方向(例如，反应室104的纵向方向106)，但是替代实施例可以不同。例如，参照图5，根据另一实施例的反应器头总体上以170示出，并且包括UV-LED 172、透镜174和具有光轴178的透镜176。UV-LED172、透镜174和透镜176可以类似于UV-LED 158、透镜160和透镜164，UV-LED 172、透镜174和透镜176可以以使得光轴178可以平行于反应室的纵向方向(例如，反应室104的纵向方向106)的方式定位在反应器头170中除外。结果，反应器头170可以侧向地偏斜地将UV辐射引导到反应室中，例如，类似于如以上参考图2所述的反应器头130。
参照图6，根据另一实施例的反应器头总体上以180示出，并且包括UV-LED 182、具有光轴186的透镜184和具有光轴190的透镜188。在所示的实施例中，透镜184是半球形透镜，并且透镜188是平凸透镜，但是替代实施例可以不同。至少一部分来自UV-LED 182的UV辐射可以被透镜184折射，至少一部分被透镜184折射的UV辐射可以被透镜188折射，并且至少一部分被透镜188折射的UV辐射可以被引导到反应室中，例如透过半透明或透明壁124从纵向端部108被引导到反应室104中，或透过半透明或透明壁126从纵向端部110被引导到反应室104中，或更一般地，被引导到反应室(例如如本文所述的反应室)的一个或两个纵向端部中。因此，例如，UV-LED 182、透镜184和透镜188可共同用作用于反应室(例如本文所述的反应室)的UV源(或更一般地，用作电磁辐射源)。
来自UV-LED 182的UV辐射可以关于主辐射方向192基本上轴向对称，并且光轴186和190平行于主辐射方向192并与之间隔开。在所示的实施例中，光轴186和190与主辐射方向192之间的分隔距离可以是透镜184的直径的约1％至约37.5％，但是替代实施例可以不同。结果，与反应器头156一样，由透镜188折射的UV辐射不是关于主辐射方向192基本上轴向对称，而是相对于主辐射方向192侧向地偏斜并且相对于从UV-LED 182折射的UV辐射侧向地偏斜。换句话说，来自UV-LED 182并由透镜184和188折射的UV辐射的注量率或局部强度在主辐射方向192的一个横向侧(在图6的取向中在主辐射方向192上方)比在主辐射方向192的相对横向侧(在图6的取向中在主辐射方向192下方)大。此外，由透镜188折射的UV辐射可以被折射到反应室中，并且由透镜188折射到反应室中的UV辐射可以相对于反应室的纵向方向侧向地偏斜，例如，类似于如以上参考图2所述的反应器头130。
参照图7，根据另一实施例的反应器头总体上以194示出，并且包括UV-LED 196、具有光轴200的透镜198和具有光轴204的透镜202。在所示的实施例中，透镜198为半球形透镜，并且透镜202是平凸透镜，但是替代实施例可以不同。至少一部分来自UV-LED 196的UV辐射可以被透镜198折射，至少一部分被透镜198折射的UV辐射可以被透镜202折射，并且至少一部分被透镜202折射的UV辐射可以被引导到反应室中，例如，透过半透明或透明壁124从纵向端部108被引导到反应室104中，或透过半透明或透明壁126从纵向端部110被引导到反应室104中，或更一般地，被引导到反应室(例如如本文所述的反应室)的一个或两个纵向端部中。因此，例如，UV-LED 196、透镜198和透镜202可以共同用作用于反应室(例如，本文所述的反应室)的UV源(或更一般地，用作电磁辐射源)。
来自UV-LED 196的UV辐射可以关于主辐射方向206基本上轴向对称，并且光轴200与主辐射方向206基本共线，但是替代实施例可以不同。然而，光轴204平行于主辐射方向206和光轴200并与主辐射方向206和光轴200间隔开。在所示的实施例中，光轴204与光轴200之间的分隔距离可以是透镜198的直径的约1％至约37.5％，但是替代实施例可以不同。结果，与反应器头156一样，由透镜202折射的UV辐射不是关于主辐射方向206基本上轴向对称，而是相对于主辐射方向206侧向地偏斜并且相对于从UV-LED 206折射的UV辐射侧向地偏斜。换句话说，来自UV-LED196并由透镜198和202折射的UV辐射的注量率或局部强度在主辐射方向206的一个横向侧(在图7的取向中在主辐射方向206上方)比在主辐射方向206的相对横向侧(在图7的取向中在主辐射方向206下方)大。此外，由透镜202折射的UV辐射可以被折射到反应室中，并且由透镜202折射到反应室中的UV辐射可以相对于反应室的纵向方向侧向地偏斜，例如，类似于如以上参考图2所述的反应器头130。
参照图8，根据另一实施例的反应器头总体上以208示出，并且包括UV-LED 210、具有光轴214的透镜212和具有光轴218的透镜216。在所示的实施例中，透镜212为半球形透镜，并且透镜216是平凸透镜，但是替代实施例可以不同。至少一部分来自UV-LED 210的UV辐射可以被透镜212折射，至少一部分被透镜212折射的UV辐射可以被透镜216折射，并且至少一部分被透镜216折射的UV辐射可以被引导到反应室中，例如，透过半透明或透明壁124并从纵向端部108被引导到反应室104中，或透过半透明或透明壁126从纵向端部110被引导到反应室104中，或更一般地，被引导到反应室(例如如本文所述的反应室)的一个或两个纵向端部中。因此，例如，UV-LED 210、透镜212和透镜216可以共同用作用于反应室(例如，本文所述的反应室)的UV源(或更一般地，用作电磁辐射源)。
来自UV-LED 210的UV辐射可以关于主辐射方向220基本上轴向对称，并且光轴214和218与主辐射方向220基本共线，但是替代实施例可以不同。然而，透镜216是轴向不对称的。结果，与反应器头156一样，由透镜216折射的UV辐射不是关于主辐射方向220基本上轴向对称，而是相对于主辐射方向220侧向地偏斜并且相对于从UV-LED 210折射的UV辐射侧向地偏斜。换句话说，来自UV-LED 210并由透镜212和216折射的UV辐射的注量率或局部强度在主辐射方向220的一个横向侧(在图8的取向中在主辐射方向220上方)比在主辐射方向220的相对横向侧(在图8的取向中在主辐射方向220下方)大。此外，由透镜216折射的UV辐射可以被折射到反应室中，并且由透镜216折射到反应室中的UV辐射可以相对于反应室的纵向方向侧向地偏斜，例如，类似于如以上参考图2所述的反应器头130。
图3至8的反应器头仅为示例，并且替代实施例可以不同。例如，图3至8的反应器头中的每一个都包括一个UV-LED，但是替代实施例可以包括多于一个的UV-LED、一个或多个其它LED、可以不必是LED或UV-LED的一个或多个其它UV辐射发射器或可以不必是UV辐射发射器的一个或多个电磁辐射发射器。此外，图3至8的反应器头中的每一个包括两个透镜，但是替代实施例可以包括少于或多于两个透镜。此外，在一些实施例中，可将至少一个透镜结合到一个或多个电磁辐射发射器中，并且至少一个透镜可与一个或多个电磁辐射发射器分开。
作为另一示例，参照图9，根据另一实施例的反应器头总体上以222示出，并且包括UV-LED 224和226、具有光轴230的透镜228、具有光轴234的透镜232以及具有光轴238的透镜236。在所示的实施例中，透镜228和232是半球形透镜，并且透镜236是双凸透镜或凸透镜，但是替代实施例可以不同。至少一部分来自UV-LED 224的UV辐射可以被透镜228折射，至少一部分被透镜228折射的UV辐射可以被透镜236折射，并且至少一部分被透镜228和透镜236折射的UV辐射可以被引导到反应室中，例如，透过半透明或透明壁124从纵向端部108被引导到反应室104中，或透过半透明或透明壁126从纵向端部110被引导到反应室104中，或更一般地，被引导到反应室(例如如本文所述的反应室)的一个或两个纵向端部中。因此，例如，UV-LED 224和226以及透镜228、232和236可以共同用作用于反应室(例如，本文所述的反应室)的UV源(或更一般地，用作电磁辐射源)。此外，至少一部分来自UV-LED 226的UV辐射可以被透镜232折射，至少一部分被透镜232折射的UV辐射可以被透镜236折射，并且至少一部分被透镜232和透镜236折射的UV辐射可以被引导到同一反应室中。
来自UV-LED 224的UV辐射可以关于主辐射方向240基本上轴向对称，并且光轴230与主辐射方向240基本共线，但是替代实施例可以不同。此外，来自UV-LED 226的UV辐射可以关于主辐射方向242基本上轴向对称，并且光轴234与主辐射方向242基本共线，但是替代实施例也可以不同。然而，光轴238与主辐射方向240和242以及光轴230和234不平行并且相对于其倾斜。在所示的实施例中，光轴238与主辐射方向240和242之间(或光轴238与反应室的纵向方向——例如，反应室104的纵向方向106——之间)的倾斜角度可以在约1度至约45度之间，但是替代实施例可以不同。
结果，与反应器头156一样，由透镜238折射的UV辐射不是关于主辐射方向240或242基本上轴向对称，而是相对于主辐射方向240和242侧向地偏斜并且相对于从UV-LED224和226折射的UV辐射侧向地偏斜。换句话说，来自UV-LED 224和226并由透镜228、232和236折射的UV辐射的注量率或局部强度在主辐射方向240和242的一个横向侧(在图9的取向中在主辐射方向240和242上方)比在主辐射方向240和242的相对横向侧(在图9的取向中在主辐射方向240和242下方)大。此外，由透镜236折射的UV辐射可以被折射到反应室中，并且由透镜236折射到反应室中的UV辐射可以相对于反应室的纵向方向侧向地偏斜，例如，类似于如以上参考图2所述的反应器头130。
再次，图9的反应器头仅为示例，并且替代实施例可以不同。例如，图9的反应器头包括两个UV-LED，但是替代实施例可以包括更少或更多的UV-LED，一个、两个或多于两个其它LED，可以不必是UV-LED的一个、两个或多于两个UV辐射发射器，或可以不必是UV辐射发射器的一个、两个或多于两个电磁辐射发射器。此外，图9的反应器头包括三个透镜，但是替代实施例可以包括少于或多于三个透镜。此外，在一些实施例中，可将至少一个透镜结合到一个或多个电磁辐射发射器中，并且至少一个透镜可与一个或多个电磁辐射发射器分开。一般而言，如本文所述的透镜可以构造成来自不同的电磁辐射发射器——例如，本文描述的那些——的电磁辐射。
此外，类似于图4的实施例，UV-LED 224和226以及透镜228、232和236可以以使得主辐射方向240和242以及光轴230和234可平行于反应器的纵向方向(例如，反应室104的纵向方向106)的方式定位在反应器头222中，但是替代实施例可以不同。例如，类似于图5的实施例，UV-LED 224和226以及透镜228、232和236可以以使得光轴238可以平行于反应器的这种纵向方向的方式定位在反应器头222中，并且反应器头222仍可以将UV辐射侧向地偏斜地引导到反应室中，例如，类似于如上所述的反应器头130。
图3至9的反应器头仅为示例，并且一般而言，在不同的实施例中，电磁辐射(例如，UV辐射)可以被至少一个光轴不平行于反应室的纵向方向(例如，反应室104的纵向方向106)的透镜、至少一个光轴不平行于电磁辐射发射器的主辐射方向(例如，主辐射方向168、192、206或220)的透镜、至少一个光轴平行于主辐射方向并与之间隔开的透镜、至少一个轴向不对称的透镜、一个或多个其它透镜或它们中的两个或更多个的组合折射。
根据其它实施例的反应器头可以限定可用作反应室的入口或出口的一个或多个流体管道。此外，根据其它实施例的反应器头可包括多于一个的电磁辐射发射器。
例如，参照图10和11，根据另一实施例的反应器头总体上以224示出，并且包括具有相对侧248和250的主体246。主体246限定在相对侧248和250之间延伸的流体管道252。流体管道252沿着轴线254延伸，并且可用作反应室的入口或出口。因此，如果流体管道252用作反应室的入口，则流体管道252构造成沿入口方向256将流体引导到反应室中，入口方向256可以是轴线254在反应室中的延伸。同样，如果流体管道252用作反应室的出口，则流体管道252构造成沿出口方向将流体引出反应室，该出口方向可以是轴线254的延伸。
反应器头244还包括电磁辐射源258、260、262、264、266、268、270和272，但是替代实施例可以包括更多或更少的电磁辐射源。每个电磁辐射源可包括一个或多个电磁辐射发射器和一个或多个透镜，例如以上描述的那些，但是为了简单起见，图10和11仅示出电磁辐射发射器的最外部透镜。在所示的实施例中，电磁辐射源258、260、262、264、266、268、270和272位于侧248，并且围绕流体管道252，但是替代实施例可以不同。
电磁辐射源258、260、262、264、266、268、270和272可以类似于如以上描述并且例如如图3至9所示的电磁辐射源，并且因此可以产生例如如图3至9所示侧向地偏斜的电磁辐射(例如，UV辐射)。此外，在所示的实施例中，电磁辐射源258、260、262、264、266、268、270和272可以产生朝向入口方向256侧向地偏斜的电磁辐射。例如，如图11所示，来自电磁辐射源262的电磁辐射的主辐射方向272朝向入口方向256侧向地偏斜，来自电磁辐射源264的电磁辐射的主辐射方向274朝向入口方向256侧向地偏斜，来自电磁辐射源268的电磁辐射的主辐射方向276朝向入口方向256侧向地偏斜，并且来自电磁辐射源270的电磁辐射的主辐射方向278朝向入口方向256侧向地偏斜。为简单起见，在图11中示出了主辐射方向272、274、276和278，但反应器头244的其它电磁辐射源的主辐射方向也可以朝向入口方向256侧向地偏斜。换言之，反应器头244包括多个透镜(即电磁辐射源258、260、262、264、266、268、270和272的透镜)，其围绕沿着入口方向256延伸的轴线间隔开并且围绕该轴线并且构造成使折射的电磁辐射朝向入口方向256的延伸部分侧向地偏斜，但是替代实施例可以不同。
参照图12和13，根据另一实施例的反应器头总体上以280示出并且包括电磁辐射源282、284、286、288、290、292、294和296，但是替代实施例可以包括更多或更少的电磁辐射源。再次，每个电磁辐射源可包括一个或多个电磁辐射发射器和一个或多个透镜，例如以上描述的那些，但是为了简单起见，图12和13仅示出电磁辐射发射器的最外部透镜。同样，在所示的实施例中，电磁辐射源282、284、286、288、290、292、294和296围绕反应器头280的中心轴线298，但是替代实施例可以不同。
电磁辐射源282、284、286、288、290、292、294和296可以类似于图2所示的UV-LED132、透镜134和透镜136。因此，电磁辐射源282、284、286、288、290、292、294和296可产生基本上准直或发散的电磁辐射(例如，UV辐射)，并且由电磁辐射源282、284、286、288、290、292、294和296产生的电磁辐射的主辐射方向可以基本上平行于反应器头280的中心轴线298。例如，如图13所示，来自电磁辐射源286的电磁辐射的主辐射方向300基本上平行于中心轴线298，来自电磁辐射源288的电磁辐射的主辐射方向302基本上平行于中心轴线298，来自电磁辐射源290的电磁辐射的主辐射方向304基本上平行于中心轴线298，来自电磁辐射源292的电磁辐射的主辐射方向306基本上平行于中心轴线298，并且来自电磁辐射源294的电磁辐射的主辐射方向308基本上平行于中心轴线298。为简单起见，在图13中示出了主辐射方向300、302、304、306和308，但反应器头280的其它电磁辐射的主辐射方向也可以基本上平行于中心轴线298。
参照图14，根据另一实施例的反应器头总体上以310示出并且包括电磁辐射源312、314、316、318、320、322、324、326和328，但是替代实施例可以包括更多或更少的电磁辐射源。电磁辐射源312、314、316、318、320、322、324和326可以类似于如上所述的电磁辐射源282、284、286、288、290、292、294和296并且围绕反应器头310的中心轴线330，但是替代实施例可以不同。此外，与电磁辐射源282、284、286、288、290、292、294和296相似，电磁辐射源312、314、316、318、320、322、324和326可产生基本上准直或发散的电磁辐射(例如，UV辐射)，并且由电磁辐射源312、314、316、318、320、322、324和326产生的电磁辐射的主辐射方向可以基本上平行于反应器头310的中心轴线330。
电磁辐射源328可以沿着中心轴线330定位，使得电磁辐射源312、314、316、318、320、322、324和326也围绕电磁辐射源328。与电磁辐射源312、314、316、318、320、322、324和326相似，电磁辐射源328也可产生基本上准直或发散的电磁辐射(例如，UV辐射)，并且由电磁辐射源328产生的电磁辐射的主辐射方向也可基本上平行于反应器头310的中心轴线330。在一些实施例中，电磁辐射源328可以更大，和/或可在分别比电磁辐射源312、314、316、318、320、322、324和326大的功率或强度下产生电磁辐射。
一般而言，诸如上述的反应器头可将电磁辐射(例如，UV辐射)引导到不同反应器设备的不同反应室中。在一些实施例中，此类反应室可具有纵向端部，并且此类反应器头可以定位成将电磁辐射从一个或两个这种纵向端部引导到此类反应室中。
例如，参照图15，根据另一实施例的反应器设备总体上以332示出，并且包括限定反应室336的反应器主体134，反应室336在反应室336的纵向端部340和342之间沿纵向方向338延伸。
反应器设备332还包括靠近纵向端部340并且定位成将电磁辐射从纵向端部340引导到反应室336中的反应器头344。反应器头344可类似于反应器头244。因此，反应器头344在纵向端部340附近限定反应室336的入口346，入口346沿着入口轴线348延伸，并且入口346构造成沿入口方向将流体引导到反应室336中，该入口方向可以是入口轴线348向反应室336中的延伸部分。在所示的实施例中，入口轴线348和入口方向与沿纵向方向338延伸的反应室336的纵向中心轴线350大致共线或平行于该纵向中心轴线350，但是替代实施例可以不同。
反应室336中的流体在反应室336的位于入口346下游的区域中的流动可以比在反应室336的其它区域中的流动快。此外，由于反应器头344可以类似于反应器头244，所以反应器头344的电磁辐射源的主辐射方向也可以朝向入口方向并因此朝向反应室336的纵向中心轴线350侧向地偏斜，如图15所示，但是替代实施例也可以不同。
由于反应室336中的流体在反应室336的位于入口346下游的区域中的流动会比在反应室336的其它区域中的流动快，并且由于反应器头344的电磁辐射源的主辐射方向可以如图15所示朝向入口方向侧向地偏斜，所以一般而言，反应室336中的UV注量率(UV强度的密度)或局部UV强度在反应室336中的流体流速也可能较高的区域中较高，并且对流过反应室336的流体的总UV暴露可以比在不具有这种偏斜的UV辐射的其它反应器设备中更一致。
反应器主体334还在纵向端部342附近限定反应室336的出口352。因此，反应室336至少在入口346与出口352之间沿纵向方向338延伸。
反应器设备332还包括靠近纵向端部342并且定位成将电磁辐射从纵向端部342引导到反应室336中的反应器头354。反应器头354可以类似于反应器头280或反应器头310。因此，来自反应器头354的电磁辐射源的电磁辐射可以基本上准直或可以是发散的，并且反应器头354的电磁辐射源的主辐射方向可以基本上平行于反应器头354的中心轴线356，如图15所示，但是再次，替代实施例可以不同。在所示的实施例中，反应器头354的中心轴线356与反应室336的纵向中心轴线350基本上共线或平行于该纵向中心轴线350，因此反应器头354的电磁辐射的主辐射方向可以基本上平行于反应室336的纵向中心轴线350，但是再次，替代实施例可以不同。
参照图16，根据另一实施例的反应器设备总体上以358示出，并且包括限定反应室362的反应器主体360，反应室362在反应室362的纵向端部366和368之间沿纵向方向364延伸。
反应器设备358还包括靠近纵向端部366并且定位成将电磁辐射从纵向端部366引导到反应室362中的反应器头370。反应器头370可以类似于反应器头244，并且在纵向端部366附近限定反应室362的入口372。因此，入口372沿着入口轴线374延伸，并且入口372构造成沿入口方向将流体引导到反应室362中，该入口方向可以是入口轴线374向反应室362中的延伸部分。在所示的实施例中，入口轴线374和入口方向与沿纵向方向364延伸的反应室362的纵向中心轴线376大致共线或平行于该纵向中心轴线376，但是替代实施例可以不同。由于反应器头370可以类似于反应器头244，所以反应器头370的电磁辐射源的主辐射方向也可以朝向入口方向并因此朝向反应室362的纵向中心轴线376侧向地偏斜，如图16所示，但是再次，替代实施例可以不同。
反应器设备358还包括靠近纵向端部368并且定位成将电磁辐射从纵向端部368引导到反应室362中的反应器头378。反应器头378可以类似于反应器头244，并且在纵向端部366附近限定反应室362的入口380。因此，反应室362至少在入口372与出口380之间沿纵向方向364延伸。此外，出口380沿着出口轴线382延伸。在所示的实施例中，出口轴线382基本上与反应室362的纵向中心轴线376共线或平行于该纵向中心轴线376，但是替代实施例可以不同。由于反应器头378可以类似于反应器头244，所以反应器头378的电磁辐射源的主辐射方向也可以朝向反应室362的纵向中心轴线376侧向地偏斜，如图16所示，但是再次，替代实施例可以不同。
反应室362中的流体在反应室362的位于入口372下游和位于出口380上游的区域中的流动可以比在反应室362的其它区域中快。由于反应器头370和378的电磁辐射源的主辐射方向可以朝向反应室362的纵向中心轴线376侧向地偏斜，如图16所示，所以一般而言，反应室362中的UV辐射注量率或局部强度在反应室362中的流体流速也可能较高的区域中较高，并且对流过反应室362的流体的总UV暴露可能比在没有这种偏斜的UV辐射的其它反应器设备中更一致。
上述反应器设备和反应器头仅为示例，并且替代实施例可以不同。例如，根据替代实施例的反应器头可以包括一个或多个电磁辐射发射器和可以使来自所述一个或多个电磁辐射发射器的电磁辐射类似于上述实施例侧向地或以不同方式偏斜的一个或多个透镜的不同组合。
此外，根据替代实施例的反应器设备可以具有一个或多个入口、一个或多个出口、一个或多个反应室以及一个或多个反应器头，其可类似于上述实施例，或者可以以不同方式变化。例如，根据替代实施例的反应器设备可以限定一个或多于一个的反应室，并且可以包括一个、两个或多于两个的反应器头，例如本文描述的定位成将电磁辐射引导到每个这样的反应室中的反应器头。
一般而言，诸如本文描述的实施例可涉及反应室中侧向地偏斜的电磁辐射，使得一般而言，反应室中的UV辐射注量率或局部强度在反应室中的流体流速也可能较高的区域中较高，并且对流过反应室的流体的总UV暴露可以比在没有这种偏斜的UV辐射的其它反应器设备中更一致。这种相对更一致的总UV暴露可增强对在反应室中流动的流体的处理，并且例如可比在没有这种偏斜的UV辐射的其它反应器设备中更有效地使流体中的病原体失活。
尽管已经描述和示出了具体实施例，但是此类实施例仅应被看作示范性的并且不应被看作限定如根据所附权利要求解释的本发明。

Claims (46)

1.一种在反应室中分配电磁辐射的方法，所述反应室至少在所述反应室的入口与所述反应室的出口之间沿纵向方向延伸，所述方法包括：
使来自至少一个电磁辐射发射器的至少一部分电磁辐射被至少一个透镜以相对于所述纵向方向侧向地偏斜的、折射的电磁辐射的形式折射到所述反应室中。
2.一种在反应室中分配电磁辐射的方法，所述方法包括：
使来自至少一个电磁辐射发射器的至少一部分电磁辐射被至少一个透镜以相对于来自所述至少一个电磁辐射发射器的所述至少一部分电磁辐射侧向地偏斜的、折射的电磁辐射的形式折射到所述反应室中。
3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述反应室至少在所述反应室的入口与所述反应室的出口之间沿纵向方向延伸。
4.根据权利要求3所述的方法，其中，使所述折射的电磁辐射的至少一部分折射到所述反应室中包括使所述反应室中的折射的电磁辐射相对于所述纵向方向侧向地偏斜。
5.根据权利要求1、3或4所述的方法，其中，所述纵向方向平行于所述反应室的纵向中心轴线。
6.根据权利要求1、3、4或5中任一项所述的方法，其中，所述入口构造成沿不平行于所述纵向方向的入口方向将流体引导到所述反应室中。
7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述入口方向基本垂直于所述纵向方向。
8.根据权利要求6或7所述的方法，其中，使所述折射的电磁辐射的至少一部分折射到所述反应室中包括使得所述折射的电磁辐射的注量率在所述反应室中且从该入口并沿着该入口方向随着离所述入口的距离的增大而增高。
9.根据权利要求6、7或8所述的方法，其中，使所述折射的电磁辐射的至少一部分折射到所述反应室中包括使所述折射的电磁辐射在所述反应室的靠近所述入口的第一横向侧的注量率小于所述折射的电磁辐射在所述反应室的第二横向侧的注量率，所述反应室的第二横向侧与所述反应室的第一横向侧相对且与所述入口相对。
10.根据权利要求1、3、4或5所述的方法，其中，所述入口构造成沿基本平行于所述纵向方向的入口方向将流体引导到所述反应室中。
11.根据直接或间接从属于权利要求1或4的权利要求10所述的方法，其中，使所述反应室中的折射的电磁辐射相对于所述纵向方向侧向地偏斜包括使所述反应室中的折射的电磁辐射朝向自所述入口的入口方向在反应室中的延伸部分并相对于所述纵向方向侧向地偏斜。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，使来自所述至少一个电磁辐射发射器的至少一部分电磁辐射被所述至少一个透镜折射到所述反应室中包括使来自所述至少一个电磁辐射发射器的所述至少一部分电磁辐射：
被围绕入口轴线间隔开的多个透镜折射到所述反应室中，所述入口轴线沿所述入口方向延伸；和
朝向自所述入口的入口方向在所述反应室中的延伸部分并相对于所述纵向方向侧向地偏斜。
13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述多个透镜围绕所述入口轴线。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的方法，其中，所述电磁辐射包括紫外线(“UV”)辐射。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述至少一个电磁辐射发射器包括至少一个UV发光二极管(“UV-LED”)。
16.根据权利要求1至13中任一项所述的方法，其中，所述至少一个电磁辐射发射器包括至少一个发光二极管(“LED”)。
17.根据权利要求1至16中任一项所述的方法，其中，来自所述至少一个电磁辐射发射器的所述至少一部分电磁辐射具有主辐射方向。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，来自所述至少一个电磁辐射发射器的所述至少一部分电磁辐射关于所述主辐射方向基本上轴向对称。
19.根据权利要求17或18所述的方法，其中，所述折射的电磁辐射相对于来自所述至少一个电磁辐射发射器的至少一部分电磁辐射的主辐射方向轴向不对称地分布。
20.根据权利要求17、18或19所述的方法，其中，所述折射的电磁辐射在所述主辐射方向的第一横向侧的注量率大于所述折射的电磁辐射在所述主辐射方向的第二横向侧的注量率，所述主辐射方向的第二横向侧与所述主辐射方向的第一横向侧相对。
21.根据权利要求17、18、19或20所述的方法，其中，所述至少一个透镜包括具有不平行于所述主辐射方向的光轴的至少一个透镜。
22.根据权利要求17、18、19或20所述的方法，其中，所述至少一个透镜包括具有平行于所述主辐射方向并与所述主辐射方向间隔开的光轴的至少一个透镜。
23.根据权利要求1至20中任一项所述的方法，其中，所述至少一个透镜包括至少一个轴向不对称的透镜。
24.一种反应器设备，包括：
主体，其限定入口、出口和至少在所述入口与所述出口之间沿纵向方向延伸的反应室；
至少一个电磁辐射发射器；和
至少一个透镜，其配置成将来自所述至少一个电磁辐射发射器的至少一部分电磁辐射以相对于所述纵向方向侧向地偏斜的、折射的电磁辐射的形式折射到所述反应室中。
25.一种反应器设备，包括：
限定反应室的主体；
至少一个电磁辐射发射器；和
至少一个透镜，其配置成将来自所述至少一个电磁辐射发射器的至少一部分电磁辐射以相对于从所述至少一个电磁辐射发射器到所述反应室中的至少一部分电磁辐射侧向地偏斜的、折射的电磁辐射的形式折射到所述反应室中。
26.根据权利要求25所述的设备，其中：
所述主体进一步限定所述反应室的入口和所述反应室的出口；和
所述反应室至少在所述入口与所述出口之间沿纵向方向延伸。
27.根据权利要求26所述的设备，其中，所述至少一个透镜配置成使所述反应室中的折射的电磁辐射相对于所述纵向方向侧向地偏斜。
28.根据权利要求24、26或27所述的设备，其中，所述纵向方向平行于所述反应室的纵向中心轴线。
29.根据权利要求24、26、27或28所述的设备，其中，所述入口构造成沿不平行于所述纵向方向的入口方向将流体引导到所述反应室中。
30.根据权利要求29所述的设备，其中，所述入口方向基本垂直于所述纵向方向。
31.根据权利要求29或30所述的设备，其中，所述至少一个透镜配置成使得所述折射的电磁辐射的注量率在所述反应室中且从该入口并沿着该入口方向随着离所述入口的距离的增大而增高。
32.根据权利要求29、30或31所述的设备，其中，所述至少一个透镜构造成使所述折射的电磁辐射在所述反应室的靠近所述入口的第一横向侧的注量率小于所述折射的电磁辐射在所述反应室的第二横向侧的注量率，所述反应室的第二横向侧与所述反应室的第一横向侧相对且与所述入口相对。
33.根据权利要求24、26、27或28所述的设备，其中，所述入口构造成沿基本平行于所述纵向方向的入口方向将流体引导到所述反应室中。
34.根据直接或间接地从属于权利要求24或27的权利要求33所述的设备，其中，所述至少一个透镜配置成使所述反应室中的折射的电磁辐射朝向自所述入口的所述入口方向在所述反应室中的延伸部分并相对于所述纵向方向侧向地偏斜。
35.根据权利要求34所述的设备，其中，所述至少一个透镜包括多个透镜，所述多个透镜围绕入口轴线间隔开，所述入口轴线沿所述入口方向延伸。
36.根据权利要求35所述的设备，其中，所述多个透镜围绕所述入口轴线。
37.根据权利要求24至36中任一项所述的设备，其中，所述至少一个电磁辐射发射器包括至少一个UV辐射发射器。
38.根据权利要求37所述的设备，其中，所述至少一个UV辐射发射器包括至少一个UV-LED。
39.根据权利要求24至36中任一项所述的设备，其中，所述至少一个电磁辐射发射器包括至少一个LED。
40.根据权利要求24至39中任一项所述的设备，其中，所述至少一个电磁辐射发射器配置成使得来自所述至少一个电磁辐射发射器的至少一部分电磁辐射具有主辐射方向。
41.根据权利要求40所述的设备，其中，所述至少一个电磁辐射发射器配置成使来自所述至少一个电磁辐射发射器的至少一部分电磁辐射关于所述主辐射方向基本上轴向对称。
42.根据权利要求40或41所述的设备，其中，所述至少一个透镜配置成使所述折射的电磁辐射相对于来自所述至少一个电磁辐射发射器的至少一部分电磁辐射的主辐射方向轴向不对称地分布。
43.根据权利要求40、41或42所述的设备，其中，所述至少一个透镜配置成使所述折射的电磁辐射在所述主辐射方向的第一横向侧的注量率大于所述折射的电磁辐射在所述主辐射方向的第二横向侧的注量率，所述主辐射方向的第二横向侧与所述主辐射方向的第一横向侧相对。
44.根据权利要求40、41、42或43所述的设备，其中，所述至少一个透镜具有不平行于所述主辐射方向的光轴。
45.根据权利要求40、41、42或43所述的设备，其中，所述至少一个透镜具有平行于所述主辐射方向并与所述主辐射方向间隔开的光轴。
46.根据权利要求24至43中任一项所述的设备，其中，所述至少一个透镜包括轴向不对称的透镜。
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