CN111628115A - 显示基板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显示基板及其制备方法，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的采用喷墨打印技术形成的显示装置的像素单元结构层的制作难度较高的问题。本发明的一种显示基板的制备方法，显示基板包括阵列分布的多个像素区以及位于任意两相邻像素区之间的像素限定区，制备方法包括：在衬底上且在像素限定区中形成像素限定结构；在至少部分像素限定结构的远离衬底的表面的至少部分上形成亲疏液可控层，亲疏液可控层的疏液性随温度的变化而变化；将第一材料液滴至少滴至像素限定结构的远离衬底的表面上，并通过调整亲疏液可控层的温度，以使至少部分第一材料液滴进入像素区，以形成第一材料层。
Description
技术领域
本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法。
背景技术
采用喷墨打印技术的聚合物电致发光显示装置具有操作简单、成本低廉、及工艺简单、易于实现大尺寸等优点，随着高性能聚合物材料的不断研发和薄膜制备技术的进一步完善，高分子发光二极管显示装置技术有望实现产业化。
然而，现有的聚合物电致发光显示装置的制备过程中，由于喷墨打印技术的局限性(如喷头滴出一滴墨水的最小体积受限等)，使得聚合物电致发光显示装置的像素单元中的结构层(如空穴注入层或者空穴传输层)的制作难度比较高。
发明内容
本发明至少部分解决现有的采用喷墨打印技术形成的显示装置的像素单元结构层的制作难度较高的问题，提供一种能够采用喷墨打印技术形成制作难度低、性能较好的结构层的显示基板的制备方法。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括阵列分布的多个像素区以及位于任意两相邻所述像素区之间的像素限定区，所述制备方法包括：
在衬底上且在所述像素限定区中形成像素限定结构；
在至少部分所述像素限定结构的远离所述衬底的表面的至少部分上形成亲疏液可控层，所述亲疏液可控层的疏液性随温度的变化而变化；
将第一材料液滴至少滴至所述像素限定结构的远离所述衬底的表面上，并通过调整所述亲疏液可控层的温度，以使至少部分所述第一材料液滴进入所述像素区，以形成第一材料层。
进一步优选的是，所述在所述像素限定结构的远离所述衬底的表面的至少部分上形成亲疏液可控层包括：在所述像素限定结构的凹槽内形成亲疏液可控层，其中，所述凹槽位于所述像素限定结构的远离所述衬底的表面上。
进一步优选的是，所述凹槽包括两个第一区和位于所述第一区之间的一个第二区，所述亲疏液可控层位于所述第一区中；所述将第一材料液滴至少滴至所述像素限定结构的远离所述衬底的表面之前还包括：在所述凹槽的第二区中形成所述疏液层。
进一步优选的是，所述第一材料层为空穴注入层，所述空穴注入层的厚度为10纳米至20纳米。
进一步优选的是，所述像素区包括多种颜色的像素区，第一列所述像素区的颜色相同，所述在衬底上且在所述像素限定区中形成像素限定结构包括：在相邻的不同颜色像素区之间的像素限定区中形成第一像素限定结构，在相邻的相同颜色像素区之间的像素限定区中形成第二像素限定结构，在垂直于所述衬底的方向上，所述第一像素限定结构的尺寸小于所述第二像素限定结构尺寸；所述在至少部分所述像素限定结构的远离所述衬底的表面的至少部分上形成亲疏液可控层包括：在所述第二像素限定结构远离所述衬底的表面上形成亲疏液可控层；所述将第一材料液滴至少滴至所述像素限定结构的远离所述衬底的表面上，并通过调整所述亲疏液可控层的温度，以使至少部分所述第一材料液滴进入所述像素区，以形成第一材料层包括：所述第一材料层至少覆盖一行所述像素区。
进一步优选的是，所述将第一材料液滴至少滴至所述像素限定结构的远离所述衬底的表面上，并通过调整所述亲疏液可控层的温度，以使至少部分所述第一材料液滴进入所述像素区，以形成第一材料层包括：将所述亲疏液可控层的温度调整至低于30℃至34℃，所述亲疏液可控层的性质变为亲液性。
进一步优选的是，所述第一材料层为空穴注入层或者空穴传输层。
进一步优选的是，所述在衬底上且在所述像素限定区中形成像素限定结构还包括：形成围绕所述像素区和所述像素限定区的第三像素限定结构，在垂直于所述衬底的方向上，所述第二像素限定结构的尺寸小于所述第三像素限定结构尺寸。
进一步优选的是，所述亲疏液可控层的形成材料包括聚N-异丙基丙烯酰胺材料。
进一步优选的是，所述以形成第一材料层之后还包括：将所述亲疏液可控层的温度调整至高于30℃至34℃，所述亲疏液可控层的性质变为疏液性，在所述像素区形成第二材料层，所述第二材料层为量子点层。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，基于上述显示基板的制备方法，所述显示基板具有阵列分布的多个像素区以及位于任意两相邻所述像素区之间的像素限定区，所述显示基板包括：
位于衬底上的像素限定结构，所述像素限定结构位于所述像素限定区，所述像素限定结构的远离所述衬底的表面的至少部分上具有亲疏液可控层，所述亲疏液可控层的疏液行随温度的变化而变化；
位于衬底上的第一材料层，所述第一材料层至少部分位于所述像素区中。
进一步优选的是，所述像素限定结构具有凹槽，所述凹槽位于所述像素限定结构的远离所述衬底的表面上，所述亲疏液可控层位于所述凹槽内。
进一步优选的是，所述像素区包括多种颜色的像素区，同一列所述像素区的颜色相同，所述像素限定结构包括第一像素限定结构和第二像素限定结构，所述第一像素限定结构位于相邻的相同颜色像素区之间的像素限定区中，所述第二像素限定结构位于相邻的不同颜色像素区之间的像素限定区中，在垂直于所述衬底的方向上，所述第一像素限定结构的尺寸小于所述第二像素限定结构尺寸，所述亲疏液可控层位于所述第二像素限定结构远离所述衬底的表面上。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1为本发明的实施例的一种显示基板的制备方法的流程示意图；
图2为本发明的实施例的一种显示基板的制备方法的流程示意图；
图3a为本发明的实施例的一种显示基板的结构示意图；
图3b为图3a的显示基板的结构侧视图；
图4为本发明的实施例的一种显示基板的制备方法的流程示意图；
图5a为本发明的实施例的一种显示基板的结构示意图；
图5b为图5a的显示基板的结构侧视图；
其中，附图标记为：1、衬底；2、像素限定结构；21、第一像素限定结构；22、第二像素限定结构；23、第三像素限定结构；24、凹槽；3、亲疏液可控层；4、第一材料层；5、疏液层；a、像素区；b、像素限定区。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
在本发明中，两结构“同层设置”是指二者是由同一个材料层形成的，故它们在层叠关系上处于相同层中，但并不代表它们与基底间的距离相等，也不代表它们与基底间的其它层结构完全相同。
在本发明中，“构图工艺”是指形成具有特定的图形的结构的步骤，其可为光刻工艺，光刻工艺包括形成材料层、涂布光刻胶、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等步骤中的一步或多步；当然，“构图工艺”也可为压印工艺、喷墨打印工艺等其它工艺。
实施例1：
如图1至图5b所示，本实施例提供一种显示基板的制备方法，显示基板包括阵列分布的多个像素区a以及位于任意两相邻像素区a之间的像素限定区b。
其中，也就是说像素限定区b将多个像素区a之间相互间隔，以使相邻的像素区a不会直接连接。
该制备方法包括：
S11、在衬底1上且在像素限定区b中形成像素限定结构2。
其中，也就是说采用构图工艺在像素限定区b中形成像素限定结构2，像素限定结构2用于将各个像素区a间隔，以保证后续在各个像素区a形成发光层(如量子点层等)时，各个像素区a的发光层不会相互干扰，以保证显示基板的良率。
S12、在至少部分像素限定结构2的远离衬底1的表面的至少部分上形成亲疏液可控层3，亲疏液可控层3的疏液性随温度的变化而变化。
其中，也就是说可以通过改变亲疏液可控层3而改变亲疏液可控层3的性质。
S13、将第一材料液滴至少滴至像素限定结构2的远离衬底1的表面上，并通过调整亲疏液可控层3的温度，以使至少部分第一材料液滴进入像素区a，以形成第一材料层4。
其中，也就是说先将第一材料液滴至少滴至像素限定结构2的远离衬底1的表面，在通过亲疏液可控层3的疏液性使得至少部分第一材料液滴进入像素区a，以形成第一材料层4。
本实施例的显示基板的制备方法中，通过控制亲疏液可控层3的疏液性，以控制进入像素区a的第一材料液滴的量，从而控制控制形成第一材料层4的厚度以及结构。这种方式可以形成更薄的第一材料层4或者形成更大的第一材料层4(如同时覆盖至少两个像素区a和一个像素限定区b的第一材料层4)，不仅提高第一材料层4的性能，保证显示基板的性能，而且可降低第一材料层4的制作难度，降低制作成本。
实施例2：
如图2至图3b所示，本实施例提供一种显示基板的制备方法，显示基板包括阵列分布的多个像素区a以及位于任意两相邻像素区a之间的像素限定区b。
其中，也就是说像素限定区b将多个像素区a之间相互间隔，以使相邻的像素区a不会直接连接。
该制备方法包括：
S21、在衬底1上且在像素限定区b中形成像素限定结构2(bank)。
其中，也就是说采用构图工艺在像素限定区b中形成像素限定结构2，像素限定结构2用于将各个像素区a间隔，以保证后续在各个像素区a形成发光层(如量子点层等)时，各个像素区a的发光层不会相互干扰，以保证显示基板的良率。
S22、在至少部分像素限定结构2的远离衬底1的表面的至少部分上形成亲疏液可控层3，亲疏液可控层3的疏液性随温度的变化而变化。
其中，亲疏液可控层3的形成材料包括聚N-异丙基丙烯酰胺材料。
具体的，在像素限定结构2的远离衬底1的表面的至少部分上形成亲疏液可控层3包括：
S221、在像素限定结构2的凹槽24内形成亲疏液可控层3，其中，凹槽24位于像素限定结构2的远离衬底1的表面上。
优选的，凹槽24包括两个第一区和位于第一区之间的一个第二区，亲疏液可控层3位于第一区中。
S23、在凹槽24的第二区中形成疏液层5。
其中，如图5b所示，也就是说在像素限定结构2的凹槽24底面靠近中心的部分形成疏液层5，在像素限定结构2的凹槽24底面边缘的部分形成亲疏液可控层3。
S24、将第一材料液滴至少滴至像素限定结构2的远离衬底1的表面上，并通过调整亲疏液可控层3的温度，以使至少部分第一材料液滴进入像素区a，以形成第一材料层4。
优选的，第一材料层4为空穴注入层，空穴注入层的厚度为10纳米至20纳米。
需要说明的是，该步骤为喷墨打印技术，即通过微米级的打印喷头将第一材料液滴喷涂在相应位置，以形成发光像素单元的膜层，第一材料液滴可以是PEDOT/PSS(掺杂聚苯胺)、或者红、绿、蓝三色发光材料的溶液等。第一材料液滴的厚度由打印在像素内的溶质的量决定。然而，现有技术的一种显示基板的空穴注入层厚度比较薄，经计算得可知用最小的打印喷头喷出的一滴的液滴材料的体积太大而难以形成较薄的空穴注入层(对于160ppi像素，经模拟计算，对于顶发射红绿器件所需空穴注入层HIL的厚度为10nm，所需液滴材料体积为2.7pl，而对于目前最小的打印喷头喷G2.5喷出的一滴滴材料体积为10pl)。
本实施例的显示基板的制备方法中，通过控制亲疏液可控层3的疏液性，以控制进入像素区a的第一材料液滴的量，从而控制控制形成第一材料层4的厚度。具体的，通过调整亲疏液可控层3的温度(如将亲疏液可控层3的温度调整至低于30℃至34℃)，使得亲疏液可控层3的亲液性提高，这样位于亲疏液可控层3上的第一材料液滴只有一部分会流入像素区a，这样在像素区a中形成的第一材料层4的厚度就很薄，从而符合显示基板的需求。
优选的，亲疏液可控层3位于红像素区和绿像素区之间的像素限定结构2的凹槽24中。
S25、在像素区a依次形成空穴传输层HTL和量子点层EML。
其中，也就是说在形成厚度要求为较厚结构层时，为了避免墨水在该沟道位置存留，通过调节亲疏液可控层3的温度，使得像素限定结构2的凹槽24底面疏液，这样可避免在形成空穴注入层和空穴传输层、量子点层中更换打印喷头，从而简化工艺过程，易于量产。
S26、依次形成电子传输层ETL、电子注入层EIL等，以形成完整的像素结构。
本实施例还公开一种显示基板，基于本实施例的显示基板的制备方法，显示基板具有阵列分布的多个像素区a以及位于任意两相邻像素区a之间的像素限定区b，显示基板包括：
位于衬底1上的像素限定结构2，像素限定结构2位于像素限定区b，像素限定结构2的远离衬底1的表面的至少部分上具有亲疏液可控层3，亲疏液可控层3的疏液行随温度的变化而变化；
位于衬底1上的第一材料层(图3a和图3b未示出)，第一材料层至少部分位于像素区a中。
其中，第一材料层为空穴注入层，空穴注入层的厚度为10纳米至20纳米。
优选的，像素限定结构2具有凹槽24，凹槽24位于像素限定结构2的远离衬底1的表面上，亲疏液可控层3位于凹槽24内。
本实施例的显示基板中，通过控制亲疏液可控层3的疏液性，以控制进入像素区a的第一材料液滴的量，从而形成较薄的第一材料层。
具体的，该显示装置可为聚合物电致发光显示装置(如高分子发光二极管显示装置，PLED)、有机发光二极管(OLED)显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
实施例3：
如图4至图5b所示，本实施例提供一种显示基板的制备方法，显示基板包括阵列分布的多个像素区a以及位于任意两相邻像素区a之间的像素限定区b。
其中，也就是说像素限定区b将多个像素区a之间相互间隔，以使相邻的像素区a不会直接连接。
该制备方法包括：
S31、在衬底1上且在像素限定区b中形成像素限定结构2。
其中，也就是说采用构图工艺在像素限定区b中形成像素限定结构2，像素限定结构2用于将各个像素区a间隔，以保证后续在各个像素区a形成发光层(如量子点层等)时，各个像素区a的发光层不会相互干扰，以保证显示基板的良率。
优选的，像素区a包括多种颜色的像素区a，第一列像素区a的颜色相同，在衬底1上且在像素限定区b中形成像素限定结构2包括：
S311、在相邻的不同颜色像素区a之间的像素限定区b中形成第一像素限定结构21，在相邻的相同颜色像素区a之间的像素限定区b中形成第二像素限定结构22，形成围绕像素区a和像素限定区b的第三像素限定结构23，在垂直于衬底1的方向上，第一像素限定结构21的尺寸小于第二像素限定结构22尺寸，第二像素限定结构22的尺寸小于第三像素限定结构23尺寸。
其中，第二像素限定结构22在垂直于衬底1的方向上的尺寸(厚度)为1.0um。
S32、在至少部分像素限定结构2的远离衬底1的表面的至少部分上形成亲疏液可控层3，亲疏液可控层3的疏液性随温度的变化而变化。
其中，亲疏液可控层3的形成材料包括聚N-异丙基丙烯酰胺材料。
优选的，在至少部分像素限定结构2的远离衬底1的表面的至少部分上形成亲疏液可控层3包括：
S321、在第二像素限定结构22远离衬底1的表面上形成亲疏液可控层3。
S33、将第一材料液滴至少滴至像素限定结构2的远离衬底1的表面上，并通过调整亲疏液可控层3的温度，以使至少部分第一材料液滴进入像素区a，以形成第一材料层4。
优选的，第一材料层4至少覆盖一行像素区a。
具体的，将亲疏液可控层3的温度调整至低于30℃至34℃，亲疏液可控层3的性质变为亲液性。第一材料层4为空穴注入层或者空穴传输层。亲疏液可控层3的形成材料包括聚N-异丙基丙烯酰胺材料。
需要说明的是，该步骤为喷墨打印技术，利用喷墨打印技术制备像素单元时，由于喷嘴的喷墨量的误差，会导致不同像素单元的结构层厚度不均一，显示基板亮度不一致。通过实验采用多种方式可提高像素单元的结构层的均匀性，但是实验表明像素单元结构层的长边均匀性有所改善，但是像素单元结构层的短边均匀性都要比长边差(如图5a中，一个像素区中的较短的边为短边，一个像素区中的较长的边为长边)。
而本实施例的显示基板的制备方法中，具有第二像素限定结构22以及在第二像素限定结构22远离衬底1的表面上形成亲疏液可控层3，通过控制亲疏液可控层3的疏液性，使得第一材料液滴在相邻的不同颜色的像素区a中形成比较大的第一材料层4(如图5b中的c所示)，即相当于现有的第一材料层4的短边变成为长边，从而提高第一材料层4的成膜均匀性。该方式简单操作、易于量产。
需要说明的是，在形成第一材料层4之后可以将采用构图方式将第二像素限定结构22上的第一材料层4除去。
S34、将亲疏液可控层3的温度调整至高于30℃至34℃，亲疏液可控层3的性质变为疏液性，在像素区a形成第二材料层，第二材料层为量子点层。
其中，因为不同颜色的量子点层不同，因此为了避免相邻不同颜色的量子点层形成过程中的互相干扰，将亲疏液可控层3的性质变为疏液性，从而提高显示基板的品质和寿命。
本实施例还公开一种显示基板，基于本实施例的显示基板的制备方法，显示基板具有阵列分布的多个像素区a以及位于任意两相邻像素区a之间的像素限定区b，显示基板包括：：
位于衬底1上的像素限定结构2，像素限定结构2位于像素限定区b，像素限定结构2的远离衬底1的表面的至少部分上具有亲疏液可控层3，亲疏液可控层3的疏液行随温度的变化而变化；
位于衬底1上的第一材料层4，第一材料层4至少部分位于像素区a中。
优选的，像素区a包括多种颜色的像素区a，同一列像素区a的颜色相同，像素限定结构2包括第一像素限定结构21和第二像素限定结构22，第一像素限定结构21位于相邻的相同颜色像素区a之间的像素限定区b中，第二像素限定结构22位于相邻的不同颜色像素区a之间的像素限定区b中，在垂直于衬底1的方向上，第一像素限定结构21的尺寸小于第二像素限定结构22尺寸，亲疏液可控层3位于第二像素限定结构22远离衬底1的表面上。
本实施例的显示基板中，具有第二像素限定结构22以及在第二像素限定结构22远离衬底1的表面上形成亲疏液可控层3，通过控制亲疏液可控层3的疏液性，使得第一材料液滴在相邻的不同颜色的像素区a中形成比较大的第一材料层4，即相当于现有的第一材料层4的短边变成为长边，从而提高第一材料层4的成膜均匀性、降低第一材料层4的制作难度。该方式简单操作、易于量产。
具体的，该显示装置可为聚合物电致发光显示装置(如高分子发光二极管显示装置，PLED)、有机发光二极管(OLED)显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
应当说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
依照本发明的实施例如上文所述，这些实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然，根据以上描述，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本发明的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
Claims (13)
1.一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括阵列分布的多个像素区以及位于任意两相邻所述像素区之间的像素限定区，其特征在于，所述制备方法包括：
在衬底上且在所述像素限定区中形成像素限定结构；
在至少部分所述像素限定结构的远离所述衬底的表面的至少部分上形成亲疏液可控层，所述亲疏液可控层的疏液性随温度的变化而变化；
将第一材料液滴至少滴至所述像素限定结构的远离所述衬底的表面上，并通过调整所述亲疏液可控层的温度，以使至少部分所述第一材料液滴进入所述像素区，以形成第一材料层。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述像素限定结构的远离所述衬底的表面的至少部分上形成亲疏液可控层包括：
在所述像素限定结构的凹槽内形成亲疏液可控层，其中，所述凹槽位于所述像素限定结构的远离所述衬底的表面上。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述凹槽包括两个第一区和位于所述第一区之间的一个第二区，所述亲疏液可控层位于所述第一区中；
所述将第一材料液滴至少滴至所述像素限定结构的远离所述衬底的表面之前还包括：
在所述凹槽的第二区中形成所述疏液层。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一材料层为空穴注入层，所述空穴注入层的厚度为10纳米至20纳米。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述像素区包括多种颜色的像素区，第一列所述像素区的颜色相同，所述在衬底上且在所述像素限定区中形成像素限定结构包括：
在相邻的不同颜色像素区之间的像素限定区中形成第一像素限定结构，在相邻的相同颜色像素区之间的像素限定区中形成第二像素限定结构，在垂直于所述衬底的方向上，所述第一像素限定结构的尺寸小于所述第二像素限定结构尺寸；
所述在至少部分所述像素限定结构的远离所述衬底的表面的至少部分上形成亲疏液可控层包括：
在所述第二像素限定结构远离所述衬底的表面上形成亲疏液可控层；
所述将第一材料液滴至少滴至所述像素限定结构的远离所述衬底的表面上，并通过调整所述亲疏液可控层的温度，以使至少部分所述第一材料液滴进入所述像素区，以形成第一材料层包括：
所述第一材料层至少覆盖一行所述像素区。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述将第一材料液滴至少滴至所述像素限定结构的远离所述衬底的表面上，并通过调整所述亲疏液可控层的温度，以使至少部分所述第一材料液滴进入所述像素区，以形成第一材料层包括：
将所述亲疏液可控层的温度调整至低于30℃至34℃，所述亲疏液可控层的性质变为亲液性。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述第一材料层为空穴注入层或者空穴传输层。
8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述在衬底上且在所述像素限定区中形成像素限定结构还包括：
形成围绕所述像素区和所述像素限定区的第三像素限定结构，在垂直于所述衬底的方向上，所述第二像素限定结构的尺寸小于所述第三像素限定结构尺寸。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述亲疏液可控层的形成材料包括聚N-异丙基丙烯酰胺材料。
10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述以形成第一材料层之后还包括：
将所述亲疏液可控层的温度调整至高于30℃至34℃，所述亲疏液可控层的性质变为疏液性，在所述像素区形成第二材料层，所述第二材料层为量子点层。
11.一种显示基板，其特征在于，基于权利要求1至10所示的显示基板的制备方法，所述显示基板具有阵列分布的多个像素区以及位于任意两相邻所述像素区之间的像素限定区，所述显示基板包括：
位于衬底上的像素限定结构，所述像素限定结构位于所述像素限定区，所述像素限定结构的远离所述衬底的表面的至少部分上具有亲疏液可控层，所述亲疏液可控层的疏液行随温度的变化而变化；
位于衬底上的第一材料层，所述第一材料层至少部分位于所述像素区中。
12.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述像素限定结构具有凹槽，所述凹槽位于所述像素限定结构的远离所述衬底的表面上，所述亲疏液可控层位于所述凹槽内。
13.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述像素区包括多种颜色的像素区，同一列所述像素区的颜色相同，所述像素限定结构包括第一像素限定结构和第二像素限定结构，所述第一像素限定结构位于相邻的相同颜色像素区之间的像素限定区中，所述第二像素限定结构位于相邻的不同颜色像素区之间的像素限定区中，在垂直于所述衬底的方向上，所述第一像素限定结构的尺寸小于所述第二像素限定结构尺寸，所述亲疏液可控层位于所述第二像素限定结构远离所述衬底的表面上。
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