CN111624801A - 显示装置及用于修复显示装置的方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种显示装置和用于修复显示装置的方法。显示装置可包括下述元件：第一基板；第一偏振器；与第一基板重叠并且与第一偏振器重叠的第二基板；和放置于第二基板内部的偏振结构，偏振结构包括第一偏振层，并包括第二偏振层。第一偏振层可在第一方向上比第二基板窄，并且可放置于比第二偏振层更远离或更靠近第一偏振器之处。第二偏振层可在第一方向上比第二基板窄。

Description

显示装置及用于修复显示装置的方法
相关申请的交叉引用
本申请要求2019年2月27日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2019-0023326号的优先权和权益；该韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文。
技术领域
技术领域涉及显示装置和该显示装置的修复方法。
背景技术
在显示装置中，无论接收的扫描信号和接收的数据信号如何，缺陷像素都会发射光或会显示黑色。发光缺陷像素会对观察者造成明显的亮点，使得显示装置的质量会不可接受。
本背景技术章节中公开的上述信息用于增强对本申请的背景的理解。本背景技术章节可包含不构成现有技术的信息，现有技术对于本领域普通技术人员而言在本国是已知的。
发明内容
缺陷亮点像素可通过使用激光切割像素的电线部分的一部分或通过碳化构成显示装置的滤色器、有机膜和类似物来变暗。
为了切割像素的电线部分，激光可直接照射到电路电线。因此，激光会不期望地使邻近于电线部分的电线短路，造成不想要的误差。碳化方法会损坏相邻区域和/或围绕像素，造成不想要的缺陷。
实施方式可涉及显示装置和该显示装置的修复方法。该方法可使缺陷亮点像素变暗而不对显示装置造成实质性损坏或者不造成显著的光泄漏。该方法可包括在基板内部形成偏振区域。
实施方式提供显示装置，其包括：下基板；面向下基板的上基板；设置在上基板上的上偏振器；和放置于上基板中的偏振区域，其用于透射在特定方向上偏振的光，其中偏振区域包括彼此重叠的偏振平面。
偏振平面中的每一个可包括偏振线。
偏振平面可包括第一偏振平面、第二偏振平面和第三偏振平面。
第二偏振平面的偏振线可在平面图中放置于第一偏振平面的偏振线之间。
第二偏振平面的偏振线可在平面图中放置于第三偏振平面的偏振线之间。
偏振线可包括具有恒定的间隔(period)的纳米结构。
第一偏振平面和第二偏振平面之间的距离可在5μm至50μm的范围内。
包括在相同偏振平面中的偏振线之间的距离可在3μm至20μm的范围内。
偏振区域的透射偏振轴和上偏振器的透射偏振轴可彼此垂直。
彼此相邻的第一偏振平面的偏振线和第二偏振平面的偏振线之间的距离在平面图中可在1.5μm至10μm的范围内。
根据实施方式的显示装置可进一步包括：设置在下基板和上基板之间的液晶层；以及设置在下基板和液晶层之间的滤色器。
根据实施方式的显示装置可进一步包括：设置在下基板下面的背光单元；以及设置在下基板和背光单元之间的下偏振器。
实施方式提供显示装置的修复方法，包括：调整激光束的偏振；通过将激光束照射到基板中形成第一偏振平面；和在第一偏振平面上方形成第二偏振平面。
第一偏振平面的形成可通过下述进行：通过在第一方向上将激光束照射到基板中，反复地形成偏振线。
偏振线可包括纳米结构，并且纳米结构可包括纳米波纹，该纳米波纹具有在垂直于激光束的偏振方向的方向上延伸的波峰。
第二偏振平面的形成可通过下述进行：通过在第一偏振平面上方一定距离的位置处在第一方向上照射激光束，反复地形成偏振线，并且第二偏振平面的偏振线在平面图中放置于第一偏振平面的偏振线之间。
修复方法可进一步包括在第二偏振平面上方形成第三偏振平面，第三偏振平面的形成可通过下述进行：通过在第二偏振平面上方一定距离的位置处在第一方向上照射激光束，反复地形成偏振线，并且第三偏振平面的偏振线在平面图中放置于第二偏振平面的偏振线之间。
激光束的偏振的调整可通过以预定的角度旋转半波板来进行。
激光束可为具有皮秒或飞秒的脉冲持续时间的超短脉冲激光束。
激光束可具有红外波长带。
实施方式可涉及显示装置。显示装置可包括下述元件：第一基板；第一偏振器；与第一基板重叠并且与第一偏振器重叠的第二基板；和放置于第二基板内部的偏振结构，其包括第一偏振层，并且包括第二偏振层。第一偏振层可在第一方向上比第二基板窄，并且可放置于比第二偏振层更远离或更靠近第一偏振器之处。第二偏振层可在第一方向上比第二基板窄。
第一偏振层可包括各自具有垂直于第一方向的纵向方向的偏振线。
偏振结构可包括第三偏振层。第三偏振层可在第一方向上比第二基板窄。第二偏振层可放置于第一偏振层和第三偏振层之间。
第一偏振层和第二偏振层中的每一个可包括偏振线，并且第二偏振层的偏振线可在第一方向上放置于第一偏振层的偏振线之间。
偏振结构可包括第三偏振层。第二偏振层可放置于第一偏振层和第三偏振层之间。第二偏振层的偏振线可在第一方向上放置于第三偏振层的偏振线之间。
第一偏振层可包括偏振线。偏振线可包括交替地放置的多个第一部分和多个第二部分，多个第二部分具有低于多个第一部分的密度，并且多个第一部分中的每一个可彼此隔开基本上恒定的间距(pitch)。
第一偏振层和第二偏振层之间的距离可在5μm至50μm的范围内。
第一偏振层可包括两个紧邻的偏振线，并且可在两个紧邻的偏振线之间不包括中间偏振线。两个紧邻的偏振线之间的距离可在3μm至20μm的范围内。
偏振结构的透射偏振轴可垂直于第一偏振器的透射偏振轴。
第一偏振层的偏振线和第二偏振层的偏振线之间的距离在第一方向上可在1.5μm至10μm的范围内。没有中间偏振线可放置于第一偏振层的偏振线和第二偏振层的偏振线之间。
显示装置可包括下述元件：设置在第一基板和第二基板之间的液晶层；以及设置在第一基板和液晶层之间的滤色器。
显示装置可包括下述元件：与第一基板重叠的背光单元；以及设置在第一基板和背光单元之间的第二偏振器。
实施方式可涉及用于修复显示装置的方法。该方法可包括下述步骤：设定激光束的偏振方向；通过将激光束照射到基板中形成第一偏振层，其中第一偏振层在基板内部，并且比基板窄；和形成在第一偏振层上方、在基板内部并且比基板窄的第二偏振层。
第一偏振层的形成可包括形成偏振线，该偏振线布置在第一方向上并且各自具有垂直于第一方向的纵向方向。激光束可在纵向方向上移动以形成偏振线中的每一个。
第一偏振层可包括偏振线。偏振线可包括交替地放置的多个第一部分和多个第二部分，并且多个第一部分的密度可高于多个第二部分的密度。高密度区域和低密度区域中的每一个的延伸方向可垂直于激光束的偏振方向。
第二偏振层的偏振线可在第一方向上放置于第一偏振层的偏振线之间。第一方向可垂直于第二偏振层的偏振线中的每一个的纵向方向。
该方法可包括：在形成第二偏振层之后，形成在第二偏振层上方、在基板内部并且比基板窄的第三偏振层。第三偏振层的偏振线可在第一方向上放置于第二偏振层的偏振线之间。
激光束的偏振方向的设定可包括以预定的角度旋转半波长相位延迟板。
激光束可以是具有皮秒或飞秒的脉冲持续时间的脉冲激光束。
激光束的波长可在红外波长带中。
根据实施方式，缺陷亮点像素的亮度可降低到一定水平或更低。有利地，可获得令人满意的显示装置的图像显示质量。
根据实施方式，可以有效阻挡从缺陷亮点像素产生的光而不对显示装置造成不想要的光泄漏或不想要的损坏。
附图说明
图1示出根据实施方式的显示装置的框图。
图2示出根据实施方式的显示装置的截面图。
图3示出根据实施方式的图2的偏振区域的透视图。
图4示出显示根据实施方式的显示装置的修复方法的流程图。
图5示出显示根据实施方式的第一偏振层的形成步骤的透视图。
图6示出显示根据实施方式的第二偏振层的形成步骤的透视图。
图7示出显示根据实施方式的第三偏振层的形成步骤的透视图。
图8示出根据实施方式的偏振线的图像。
图9示出根据实施方式的偏振线的图像。
具体实施方式
参考附图描述示例实施方式。可以以各种不同的方式修改所描述的实施方式。
相同的数字可指相似的构成元件。
在图中，为了清楚起见，可放大层、膜、面板、区域等的尺寸。
尽管术语“第一”、“第二”等可用于描述各种要素，但这些要素不应限于这些术语。这些术语可用于区分一个要素与另一要素。在不背离一个或多个实施方式的教导的情况下，第一要素可称为第二要素。将要素描述为“第一”要素可不需要或暗示存在第二要素或其他要素。术语“第一”、“第二”等可用于区分不同类别或不同组的要素。为了简要起见，术语“第一”、“第二”等可分别表示“第一类型(或第一组)”、“第二类型(或第二组)”等。
当第一元件被称为在第二元件“上”时，第一元件可直接在第二元件上，或在第一元件和第二元件之间可存在一个或多个中间元件。当第一元件被称为“直接”在第二元件“上”时，在第一元件和第二元件之间不存在预期的中间元件(除了诸如空气的环境要素之外)。词语“上面”或“上”意指放置于对象部分上或下面，并且不一定意指基于重力方向放置于对象部分的上侧。
除非明确相反描述，否则词语“包括(comprise)”和诸如“包括(comprises)”或“包括(comprising)”的变形可暗示包括所陈述的要素而不排除任何其他要素。
术语“偏振区域”可意指“偏振结构”。术语“偏振平面”可意指“偏振层”或“偏振组”。术语“间隔”可意指“间距”。术语“延伸方向”可意指“纵向方向”。表述“在平面图(或显示装置)中在……之间”可意指“在第一方向x上在……之间”。术语“基本上”可意指小的波动，比如小于或等于±5％。
图1示出根据实施方式的显示装置10的框图。图2示出根据实施方式的显示装置10的截面图。图3示出根据实施方式的图2的偏振区域的透视图。
显示装置10可为诸如液晶显示(LCD)装置和有机发光二极管显示(OLED)装置的各种显示装置中的一种。图2和图3示出液晶显示装置作为示例。
参见图1，显示装置10包括显示面板300，显示面板300包括显示区DA和外周区PA。
显示面板300的显示区DA用于显示图像。多条栅极线G1和G2至Gn、多条数据线D1和D2至Dm-1和Dm以及与多条栅极线G1至Gn和多条数据线D1至Dm连接的多个像素PX设置在显示区DA中。栅极线G1至Gn可传送栅极信号，并且数据线D1至Dm可传送数据电压。像素PX中的每一个指示用于显示图像的最小单元，并且显示装置利用像素PX显示图像。每个像素PX可包括连接至栅极线G1至Gn中的一个和数据线D1至Dm中的一个的开关元件和像素电极。开关元件可为三端元件，比如集成在显示面板300中的薄膜晶体管。每个像素PX可包括多个子像素以改善侧向可见性。
显示装置的像素PX可包括缺陷像素PXd以及正常驱动像素。缺陷像素PXd可为缺陷亮点像素，其可透射大量光，无论由缺陷像素PXd接收的栅极信号和数据电压如何。
外周区PA放置于显示区DA的周围区域中，并且用于产生或传送要施加至显示区DA的各种信号的元件或电线设置在外周区PA中。
栅极驱动器400集成在显示面板300的外周区PA中以将栅极信号顺序地传送到栅极线G1至Gn。栅极信号中的每一个都包括栅极导通电压Von和栅极关断电压Voff。栅极驱动器400接收用于指示栅极导通脉冲的输出开始的扫描开始信号、用于控制栅极导通脉冲的输出时机的栅极时钟信号和类似信号，以便顺序地驱动栅极线G1至Gn。用于向栅极驱动器400施加信号的信号线(未示出)可设置在显示面板300的外周区PA中。
数据驱动器500连接到数据线D1至Dm以传送数据电压。数据驱动器500可直接安装在显示面板300的外周区PA上或在与包括像素PX的开关装置相同的制造工艺中集成到外周区PA中，或者可设置在连接至显示面板300的柔性印刷电路膜上，与图1所示的不同。
显示面板10可包括显示面板300、栅极驱动器400、数据驱动器500和多个电气元件，比如多个薄膜晶体管、多个电容器和多个二极管，作为各种电气构成元件。
参见图2，显示装置10包括背光单元40、显示面板300和液晶层3。显示面板300包括上显示面板200和下显示面板100。
背光单元40可设置在显示面板300的后表面上以将光供应至显示面板300。背光单元40可包括图2中示出为整体形成的光源、导光板、反射板和光学片。背光单元40的光源产生的光通过导光板、反射板和光学片供应到显示面板300。
下偏振器111设置在下显示面板100中。下偏振器111可设置在背光单元40和下基板110之间以便在特定方向上透射(从背光单元40接收的)光。穿过下偏振器111的光可基本上在该特定方向上。
下基板110设置在下偏振器111上。下基板110可包括透明的玻璃或塑料，并且可为柔性基板。
像素电路层120设置在下基板110上。像素电路层120示意性示出。像素电路层120可包括薄膜晶体管、栅极导电层和数据导电层，用于驱动显示装置。
栅极导电层可包括栅电极和栅极线。数据导电层可包括数据线，并进一步包括构成薄膜晶体管的源电极和漏电极。
设置在像素电路层120中的薄膜晶体管可通过接收来自栅极线的栅极信号而开通，并且可接收来自数据线的数据电压以将其施加至像素电极191。
滤色器230设置在像素电路层120上。滤色器230可包括第一滤色器230a、第二滤色器230b和第三滤色器230c。第一滤色器230a、第二滤色器230b和第三滤色器230c可分别为红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器。第一滤色器230a、第二滤色器230b和第三滤色器230c分别仅透射红光、绿光和蓝光。因此，穿过第一滤色器230a、第二滤色器230b和第三滤色器230c的光可为红光、绿光和蓝光。在实施方式中，滤色器230可包括品红色、黄色和青色滤色器。
有机膜130设置在滤色器230上。有机膜130可包括丙烯酸树脂或硅氧烷树脂。有机膜130可使滤色器230的上部平坦，并且可抑制由诸如溶剂的有机物质从滤色器230流进液晶层3中而造成的液晶层3的污染，以防止诸如残余图像的缺陷。
像素电极191可设置在有机膜130上。像素电极191可通过形成在滤色器230和有机膜130中的接触孔(未示出)电连接至设置在像素电路层120中的薄膜晶体管。
上显示面板200包括上偏振器211。上偏振器211可透射仅在特定方向上的光。仅在特定方向上的光可穿过上偏振器211。
上基板210设置在上偏振器211和下偏振器111之间。上基板210可为透明的，并且可包括氧化铝(Al2O3)或二氧化硅(SiO2)。上基板210包括对应于缺陷像素PXd的偏振区域250。缺陷像素PXd可为缺陷亮点像素，其可透射大量光，无论由缺陷像素PXd接收的栅极信号和数据电压如何。偏振区域250可将缺陷像素PXd的亮度降低到一定水平或更低，以防止缺陷像素PXd变得明显。缺陷像素PXd的光可能很难穿过偏振区域250；效果可类似于其中像素关闭的状态(即，关断状态)。偏振区域250可与缺陷像素PXd的区域完全重合，或可(稍微)大于缺陷像素PXd的区域。
偏振区域250包括多个偏振平面，并且可包括至少三个偏振平面/层/组。也就是，偏振区域250可包括第一偏振平面PL1、第二偏振平面PL2和第三偏振平面PL3。第一偏振平面PL1、第二偏振平面PL2和第三偏振平面PL3可在相同区域彼此重叠，并且可错开一定距离。换句话说，相邻偏振平面PL1、PL2和PL3的一些边缘可以彼此不重叠或不重合。偏振平面PL1和PL2可彼此紧邻(没有中间偏振平面)并且可彼此部分地重叠(彼此没有完全重叠)。
偏振平面PL1、PL2和PL3的组合可在一个特别方向上透射光。偏振区域250的透射偏振轴和上偏振器211的透射偏振轴可以正交。透射偏振轴指示选择性穿过偏振元件(比如偏振器或偏振区域)的光的偏振方向。
共用电极270可设置在上基板210下面。共用电极270可基本上连续对应于图1的显示区DA。
液晶层3设置在下显示面板100和上显示面板200之间。液晶层3可设置在像素电极191和共用电极270之间。液晶层3可包括具有负介电各向异性的液晶分子31。液晶分子31可定向成使得在液晶层3中没有电场的情况下它们的长轴相对于下基板110和上基板210的表面通常垂直或以预定的角度倾斜。液晶分子31可根据像素电极191的图案化的部分(例如，微分支)的边缘和共用电极270之间的边缘场(fringe field)或台阶预倾斜。
向其施加数据电压的像素电极191可与共用电极270一起产生电场，以确定对应液晶分子31的定向。穿过液晶层3的光的偏振方向可取决于液晶分子31的定向。
上偏振器211的透射偏振轴可正交于下偏振器111的透射偏振轴。
从背光单元40发射的光在各个方向上具有偏振。在光中，仅在平行于下偏振器111的透射偏振轴的方向上具有偏振的光可穿过下偏振器111和液晶层3。
从下偏振器111提供的光的偏振方向可取决于液晶分子31的排列。例如，液晶分子31可通过由像素电极191和共用电极270产生的电场在特定方向上倾斜，并且穿过液晶层3的对应部分的光的偏振可旋转90°。因此，穿过液晶层3的光的偏振方向垂直于下偏振器111的透射偏振轴，并且光可随后穿过上偏振器211。当液晶分子31具有不同定向时，从下偏振器111提供的光的偏振方向不会被液晶层3改变。因此，穿过液晶层3的光不能穿过上偏振器211，因为其偏振方向垂直于上偏振器211的透射偏振轴。
在缺陷像素PXd处，根据一个或多个接收的信号，光的偏振可通过液晶层3旋转90°，无论像素PXd是否导通或关断。例如，无论由于导电图案中的缺陷而导致的栅极驱动器或数据驱动器的信号如何，都可维持像素电极191和共用电极270之间产生的电场，或者由于液晶分子31的(多个)定向或液晶层3的缺陷，液晶分子31可在特定方向上倾斜。如果不实施偏振区域250，由于穿过液晶层3的光在偏振旋转90°的情况下行进，因此光可穿过上偏振器211并且可不期望地对于使用者可见。在实施方式中，由于偏振区域250(其具有垂直于上偏振器211的透射偏振轴的透射偏振轴)对应于缺陷像素PXd，因此来自缺陷像素PXd的光可能很难穿过偏振区域250，并且缺陷像素PXd的可见亮度降低到一定水平或更低。
显示装置10在图2中示为垂直取向(VA)模式的正常黑色液晶显示器。在实施方式中，显示装置10可具有扭曲向列(TN)模式、平面内开关(IPS)模式、边缘场开关(FFS)模式、轴对称取向的微单元(ASM)模式、光学补偿双折射(OCB)模式、铁电液晶(FLC)模式和反铁电液晶(AFLC)模式中的一种或多种。显示装置10可包括具有正介电常数而不是负介电常数的液晶分子31。
图3示出根据实施方式的图2的偏振区域250的透视图。
参见图3，偏振区域250包括至少三个偏振平面/层/组，包括第一偏振平面PL1、第二偏振平面PL2和第三偏振平面PL3。第一偏振平面PL1、第二偏振平面PL2和第三偏振平面PL3可彼此重叠并且可平行设置。第一偏振平面PL1、第二偏振平面PL2和第三偏振平面PL3可以以有规律的间隔彼此隔开。
第一偏振平面PL1和第二偏振平面PL2之间的距离h1以及第二偏振平面PL2和第三偏振平面PL3之间的距离h2可在5μm至50μm的范围内。偏振平面之间的距离h1和h2中的每一个指示偏振平面之间的最短距离。当偏振平面之间的距离h1和h2超过50μm时，可发生光泄漏现象，并因此缺陷像素PXd的变暗效果可能不够。
第一偏振平面PL1的边缘和第二偏振平面PL2的边缘之间在第一方向x上的最短距离可在1.5μm至10μm的范围内。在第二方向y上延伸的第一偏振平面PL1和第二偏振平面PL2的最外边缘可重叠或可不完全重叠。
第一至第三偏振平面PL1、PL2和PL3包括在第二方向y上延伸的多个偏振线PLi。偏振线PLi可彼此平行并且彼此隔开。包括在相同的偏振平面中的紧邻的偏振线PLi之间的距离d2可在3μm至20μm的范围内。当包括在相同偏振平面中的紧邻的偏振线PLi之间的距离d2小于3μm时，偏振线PLi(具有恒定的宽度)可重叠或可影响相邻的偏振线PLi；当包括在相同偏振平面中的紧邻的偏振线PLi之间的距离d2超过20μm时，穿过偏振线PLi的光可呈现不期望的偏振特性，使得偏振不能有效进行。
包括在偏振平面PL1、PL2和PL3中的偏振线PLi可具有预定的深度/厚度d1。偏振线PLi可具有基本上长方体的形状。偏振线PLi可形成具有恒定的间隔的纳米结构。偏振线PLi的深度d1可指示纳米结构的深度。
在平面图中，第二偏振平面PL2的偏振线PLi可放置于第一偏振平面PL1的偏振线PLi之间，并且第二偏振平面PL2的偏振线PLi和第一偏振平面PL1的偏振线PLi可以交替地放置。在平面图中，第二偏振平面PL2的偏振线PLi和第一偏振平面PL1的紧邻的偏振线PLi之间的距离d3可在1.5μm至10μm的范围内。
第一偏振平面PL1的偏振线PLi和第三偏振平面PL3的偏振线PLi可彼此重叠。在平面图中，第二偏振平面PL2的偏振线PLi可放置于第三偏振平面PL3的偏振线PLi之间。在平面图中，第二偏振平面PL2的偏振线PLi和第三偏振平面PL3的紧邻的偏振线PLi之间的距离d3可在1.5μm至10μm的范围内。
在实施方式中，第一偏振平面PL1的偏振线PLi和第三偏振平面PL3的偏振线PLi可以彼此不完全重叠，以更有效地阻挡光。
在实施方式中，偏振区域250可仅包括第一偏振平面PL1和第二偏振平面PL2。在实施方式中，偏振区域250可包括四个或更多个偏振平面。在平面图中，包括在奇数个偏振平面中的偏振线PLi和包括在偶数个偏振平面中的偏振线PLi可以交替地设置，并且紧邻的偏振平面的偏振线PLi可以彼此不重叠。
图4示出显示根据实施方式的显示装置的修复方法的流程图。
首先，检查/确定缺陷亮点像素的位置(S101)。无论接收的栅极信号和接收的数据电压如何，缺陷亮点像素都可透射大量光。
接下来，通过半波板(或半波长相位延迟板)调整激光束的偏振(S102)。当由光源产生的激光束穿过以一定角度旋转的半波板时，激光束的偏振方向改变。具体而言，当激光束穿过半波板时，激光束的偏振轴旋转多达两倍于穿过半波板之前的激光束的偏振轴和半波板的快轴之间的角度。例如，当在激光束穿过半波板之前激光束的偏振轴和半波板的快轴之间的角度为45°时，已穿过半波板的激光束的偏振轴旋转90°。因此，可通过以预定的角度旋转半波板(设置在激光束的路径上)来调整照射到上基板的激光束的偏振方向。
接下来，将调整的激光束照射到上基板中以形成第一偏振平面(S103)。当激光束的焦点在上基板中的一个方向上移动时，在由激光束的焦点加工的上基板的一部分中形成偏振线。形成第一偏振平面的步骤可通过在上基板中在第一恒定高度处形成多个偏振线来进行。
接下来，将激光束照射到上基板中以形成第二偏振平面(S104)。在形成第二偏振平面的步骤中，上基板中的激光束的焦点的位置高于基于上基板的下表面的第一偏振平面。形成第二偏振平面的步骤可通过在上基板中在第二恒定高度处形成多个偏振线来进行。包括在第二偏振平面中的偏振线可以不与包括在第一偏振平面中的偏振线重叠。
接下来，将激光束照射到上基板中以形成第三偏振平面(S105)。在形成第三偏振平面的步骤中，上基板中的激光束的焦点的位置高于基于上基板的下表面的第二偏振平面。形成第三偏振平面的步骤可通过在上基板中在第三恒定高度处形成多个偏振线来进行。包括在第三偏振平面中的偏振线可不与包括在第二偏振平面中的偏振线重叠。如果上基板仅包括第一偏振平面和第二偏振平面，则可不进行形成第三偏振平面的步骤S105。如果偏振区域250包括四个或更多个偏振平面，则该方法可进一步包括在形成第三偏振平面的步骤S105之后形成一个或多个偏振平面的一个或多个步骤。
图5示出显示根据实施方式的第一偏振平面PL1的形成步骤的透视图，图6示出显示根据实施方式的第二偏振平面PL2的形成步骤的透视图，并且图7示出显示根据实施方式的第三偏振平面PL3的形成步骤的透视图。
参见图5，光源600产生激光束50。激光束50可为具有皮秒或飞秒的脉冲持续时间的超短脉冲激光。例如，激光束50的脉冲持续时间可在190fs(飞秒)至290fs的范围内。在实施方式中，激光束50的脉冲持续时间可为100fs或更小。
一般而言，当激光束50的脉冲持续时间较短时，非线性光学效应增加，这有利于加工玻璃基板。玻璃基板的加工可造成折射率变化、色心的产生(取决于玻璃基板的颜色变化)和/或玻璃基板中的孔隙的产生。超短脉冲激光可具有非常高的能量密度，以便在不造成目标对象的物理或化学变形的情况下加工由各种材料形成的目标对象。
超短脉冲激光可加工具有高传热系数或低光吸收率的材料。超短脉冲激光可在单个工艺中加工包括两个或更多个种类的材料的目标对象或多层复合材料目标对象。当超短脉冲激光照射到玻璃基板时/之后，可形成具有期望的偏振特性的纳米结构。
激光束50可具有红外波长带。例如，激光束50的波长带可在0.78μm至1000μm的范围内。如果紫外线照射到基板，则光子能量可能过高，并且可能超出构成基板的材料的一般带隙，这会造成基板内部的孔隙或裂纹，或者会影响孔隙或裂纹附近的基板的部分。在实施方式中，激光束50可具有红外波长带，并且光子能量相对低，从而基板中的孔隙或裂纹可以最小化，并且从而加工准确度和加工质量可得到优化。
一般而言，当材料暴露于光时，能量低于材料的带隙的光子不被吸收到材料中。然而，当材料暴露于超短脉冲激光时，两个或更多个光子被吸收。即使当超短脉冲激光的光子能量低于材料的带隙时，超短脉冲激光也可被吸收到材料中。即使当激光束50具有红外波长带时，超短脉冲激光也可被吸收到宽带隙的材料中。
半波板650放置于由光源600产生的激光束50的路径上。半波板650可以以一个或多个任意或预定的角度旋转。可通过以预定的角度旋转半波板650来调整激光束50的偏振方向。
通过半波板650调整激光束50的偏振方向，并且照射调整的激光束50以在上基板210中形成焦点。激光束50的焦点可形成在第三方向z上与上基板210的下表面分隔预定的高度或更高的位置处。例如，从上基板210的下表面到激光束50的焦点的距离“a”可为150μm或更大。当激光束50的焦点过度接近上基板210的下表面时，它会损坏设置在上基板210下面的电路和类似物。
激光束50的焦点可在第二方向y上移动，并且可在上基板210中留下加工痕迹。在其中激光束50的焦点经过的加工的区域中形成偏振线PLi。偏振线PLi可具有基本上恒定的深度d1，并且可包括具有基本上恒定的间隔的纳米结构(参见图9)。
在形成第一偏振线PLi之后，通过将激光束50照射到在第一方向x上与第一偏振线PLi分隔一定距离的位置并使激光束50在第二方向y上移动而形成第二偏振线PLi。可在相对于上基板210的下表面的相同的高度处形成多个偏振线PLi。偏振线PLi可彼此平行形成，并且可彼此隔开预定的距离。两个紧邻的偏振线PLi之间的距离d2可在3μm至20μm的范围内。在第三方向z上从上基板210的下表面到激光束50的焦点(或到偏振线PLi的顶边缘)的距离“a”可为150μm或更大。多个偏振线PLi在相同的高度处形成并且可构成第一偏振平面PL1。
参见图6，通过半波板650调整激光束50的偏振方向，并且照射调整的激光束50以在上基板210中形成焦点。用于形成第一偏振平面PL1的激光束50的偏振方向可与用于形成第二偏振平面PL2的激光束50的偏振方向相同。
激光束50的焦点可形成在与第一偏振平面PL1分隔预定的高度或更高的位置处。例如，从第一偏振平面PL1到激光束50的焦点的距离h1可在5μm至50μm的范围内。如果第二偏振平面PL2和第一偏振平面PL1之间的距离h1小于5μm，则包括在第二偏振平面PL2和第一偏振平面PL1的偏振线PLi中的纳米结构不会适当地形成。如果第二偏振平面PL2和第一偏振平面PL1之间的距离h1超过50μm，则会发生光泄漏现象。
激光束50的焦点可在第二方向y上移动，并且可在上基板210中留下加工痕迹。在其中激光束50的焦点经过的加工的区域中形成偏振线PLi。偏振线PLi可具有基本上恒定的深度d1，并且可包括具有基本上恒定的间隔的纳米结构。
第二偏振平面PL2的偏振线PLi可不与第一偏振平面PL1的偏振线PLi重叠。激光束50的焦点可在第三方向z上距第一偏振平面PL1一定距离处，在第二方向y上沿着第一方向x上的第一偏振平面PL1的偏振线PLi之间的线移动。
在形成第二偏振平面PL2的第一偏振线PLi之后，通过将激光束50照射到在第一方向x上与第一偏振线PLi分隔一定距离的位置并通过使激光束50在第二方向y上移动而形成第二偏振平面PL2的第二偏振线PLi。多个偏振线PLi可在相对于上基板210的下表面的相同的高度处形成。偏振线PLi可彼此平行形成，并且两个紧邻的偏振线PLi可彼此隔开预定的距离d2。距离d2可在3μm至20μm的范围内。
在平面图中，第二偏振平面PL2的偏振线PLi可放置于第一偏振平面PL1的偏振线PLi之间，并且第一偏振平面PL1的偏振线PLi和第二偏振平面PL2的偏振线PLi可以交替地放置。在平面图中，第二偏振平面PL2的偏振线PLi和第一偏振平面PL1的紧邻的偏振线PLi之间的距离d3可在1.5μm至10μm的范围内。
偏振线PLi在相对于上基板210的下表面的相同的高度处形成，并且可构成第二偏振平面PL2。
参见图7，通过半波板650调整激光束50的偏振方向，并且照射调整的激光束50以在上基板210中形成焦点。用于形成第三偏振平面PL3的激光束50的偏振方向可与用于形成第二偏振平面PL2的激光束50的偏振方向相同。
激光束50的焦点可形成在与第二偏振平面PL2分隔预定的高度或更高的位置处。例如，从第二偏振平面PL2到激光束50的焦点的距离h2可在5μm至50μm的范围内。
激光束50的焦点可在第二方向y上移动，并且可在上基板210中留下加工痕迹。在其中激光束50的焦点经过的加工的区域中形成偏振线PLi。偏振线PLi可具有基本上恒定的深度d1，并且可包括具有基本上恒定的间隔的纳米结构。
第三偏振平面PL3的偏振线PLi可不与第二偏振平面PL2的偏振线PLi重叠。激光束50的焦点可在第三方向z上距第二偏振平面PL2一定距离处，在第二方向y上沿着第一方向x上的第二偏振平面PL2的偏振线PLi之间的线移动。
在形成第三偏振平面PL3的第一偏振线PLi之后，通过将激光束50照射到在第一方向x上与第一偏振线PLi分隔一定距离的位置并通过使激光束50在第二方向y上移动而形成第三偏振平面PL3的第二偏振线PLi。多个偏振线PLi可在相对于上基板210的下表面的相同的高度处形成。偏振线PLi可彼此平行形成，并且两个紧邻的偏振线PLi可彼此隔开预定的距离d2。距离d2可在3μm至20μm的范围内。
在平面图中，第三偏振平面PL3的偏振线PLi可放置于第二偏振平面PL2的偏振线PLi之间，并且第二偏振平面PL2的偏振线PLi和第三偏振平面PL3的偏振线PLi可以交替地放置。在平面图中，第三偏振平面PL3的偏振线PLi和第二偏振平面PL2的紧邻的偏振线PLi之间的距离d3可在1.5μm至10μm的范围内。
第三偏振平面PL3的偏振线PLi和第一偏振平面PL1的偏振线PLi可彼此重叠。在实施方式中，第三偏振平面PL3的偏振线PLi和第一偏振平面PL1的偏振线PLi可以彼此不完全重叠。
偏振线PLi在相同的高度处形成，并且可构成第三偏振平面PL3。
偏振平面PL1、PL2和PL3可形成具有期望的偏振特性的偏振区域250，使得仅在一个特别方向上具有偏振的光可以穿过偏振区域250。
根据实施方式，由于具有红外波长带的超短脉冲激光束照射到基板中以形成偏振区域250，因此缺陷亮点像素的亮度可降低到一定水平或更低，并且激光束不会对显示装置造成另外的损坏。在实施方式中，由于可通过重叠偏振平面防止光泄漏，因此显示装置的图像显示质量可令人满意。
在实施方式中，通过移动光源600来变换激光束50的焦点的位置。在实施方式中，可使用电反射镜(未示出)来变换激光束50的焦点位置，或者可使用变换要被加工的目标对象的台架(stage)。
图8示出根据实施方式的形成在基板上/中的偏振线PLi的扫描电镜(SEM)图像。使用每脉冲能量为0.07μJ的激光束，并且将照射到基板的激光束的偏振方向调整为垂直于加工方向。参见图8，偏振线PLi包括纳米结构。纳米结构可为激光诱导的周期性表面结构(LIPSS)。纳米结构可为通过向基板照射超短脉冲激光形成的具有基本上恒定的间隔的结构。纳米结构可包括在平行于激光束的偏振方向的方向上以恒定的间隔交替地放置的第一部分1001和第二部分1002。其中第一部分1001和第二部分1002延伸的方向可垂直于激光束的偏振的方向。
图9示出根据实施方式的形成在基板上/中的偏振线PLi的扫描电镜(SEM)图像。使用每脉冲能量为0.07μJ的激光束，并且将照射到基板的激光束的偏振方向调整为平行于加工方向。参见图9，偏振线PLi包括纳米结构。纳米结构可为激光诱导的周期性表面结构(LIPSS)。纳米结构可为通过向基板照射超短脉冲激光形成的具有基本上恒定的间隔的结构。纳米结构可包括在平行于激光束的偏振方向的方向上以恒定的间隔交替地放置的第一部分1001和第二部分1002。其中第一部分1001和第二部分1002延伸的方向可垂直于激光束的偏振的方向。
参见图8和图9，当偏振线PLi的纳米结构在基板的表面上时，纳米结构可包括具有第一部分1001(其为波峰/脊/突起)和第二部分1002(其为波谷)的波纹。
此外，当偏振线PLi的纳米结构在基板内部时，第二部分1002可以不是空的，并且可为具有相对低密度的区域。也就是，第一部分1001的密度可高于第二部分1002的密度，从而纳米结构可具有在平行于激光束的偏振方向的方向上交替地放置的密度较高的第一部分1001和密度较低的第二部分1002。可通过将超短脉冲激光照射到基板中形成具有恒定的间隔的纳米结构。当超短脉冲激光照射到基板中时，基板内部发生诸如密度变化或折射率变化的物理变化。
放置于基板中的偏振区域的透射偏振轴可取决于第一部分1001和第二部分1002的延伸方向。因此，可调整激光束的偏振方向以适当地调整放置于基板中的(多个)偏振平面或偏振区域的透射偏振轴。
纳米结构的间隔可在激光束的波长的一半至激光束的波长的三分之一的范围内。例如，该间隔可在10nm至100nm的范围内。由于基板的特别区域的光学特性通过具有纳米级间隔的纳米结构而改变，因此仅在一个特别方向上具有偏振的光能够通过基板的特定区域。
在实施方式中，显示装置可为有机发光二极管显示器，并且在有机发光二极管显示器中封装有机发光层的封装层中可形成多个偏振平面。偏振平面可将亮点的亮度降低到一定水平或更低。
虽然已经描述了示例实施方式，但可实践的实施方式不限于所公开的实施方式。可实践的实施方式涵盖所附的权利要求的范围内的各种修改和等效布置。

Claims (10)

1.一种显示装置，包括：
第一基板；
第一偏振器；
第二基板，所述第二基板与所述第一基板重叠并与所述第一偏振器重叠；和
偏振结构，所述偏振结构放置于所述第二基板内部，并且包括第一偏振层和第二偏振层，
其中所述第一偏振层在第一方向上比所述第二基板窄，并且放置于比所述第二偏振层更远离或更靠近所述第一偏振器之处，并且
其中所述第二偏振层在所述第一方向上比所述第二基板窄。
2.如权利要求1所述的显示装置，其中
所述第一偏振层包括各自具有垂直于所述第一方向的纵向方向的偏振线。
3.如权利要求1所述的显示装置，其中
所述第一偏振层和所述第二偏振层中的每一个包括偏振线，并且
所述第二偏振层的所述偏振线在所述第一方向上放置于所述第一偏振层的所述偏振线之间。
4.如权利要求3所述的显示装置，其中
所述偏振结构进一步包括第三偏振层，
所述第二偏振层放置于所述第一偏振层和所述第三偏振层之间，并且
所述第二偏振层的所述偏振线在所述第一方向上放置于所述第三偏振层的偏振线之间。
5.如权利要求1所述的显示装置，其中
所述第一偏振层包括偏振线，并且
所述偏振线包括交替地放置的多个第一部分和多个第二部分，所述多个第二部分具有低于所述多个第一部分的密度，所述多个第一部分中的每一个彼此隔开基本上恒定的间距。
6.如权利要求1所述的显示装置，其中
所述第一偏振层和所述第二偏振层之间的距离在5μm至50μm的范围内，
所述第一偏振层包括两个紧邻的偏振线，并且在所述两个紧邻的偏振线之间不包括中间偏振线，并且
所述两个紧邻的偏振线之间的距离在3μm至20μm的范围内。
7.如权利要求1所述的显示装置，其中
所述偏振结构的透射偏振轴垂直于所述第一偏振器的透射偏振轴。
8.如权利要求1所述的显示装置，其中
在所述第一方向上所述第一偏振层的偏振线和所述第二偏振层的偏振线之间的距离在1.5μm至10μm的范围内，并且
没有中间偏振线放置于所述第一偏振层的所述偏振线和所述第二偏振层的所述偏振线之间。
9.一种用于修复显示装置的方法，所述方法包括：
设定激光束的偏振方向；
通过将所述激光束照射到基板中形成第一偏振层，其中所述第一偏振层在所述基板内部并且比所述基板窄；且
形成在所述第一偏振层上方、在所述基板内部并且比所述基板窄的第二偏振层。
10.如权利要求9所述的方法，其中
所述第一偏振层的所述形成包括形成偏振线，所述偏振线布置在第一方向上并且各自具有垂直于所述第一方向的纵向方向，
所述激光束在所述纵向方向上移动以形成所述偏振线中的每一个，
所述激光束的所述偏振方向的所述设定包括以预定的角度旋转半波长相位延迟板，
所述激光束是具有皮秒或飞秒的脉冲持续时间的脉冲激光束，并且
所述激光束的波长在红外波长带中。
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