CN111596495B - 阵列基板、液晶显示面板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及显示面板技术领域,公开了一种阵列基板、液晶显示面板及其制备方法,该阵列基板包括衬底、半导体层、第一金属层以及光致变色层，光致变色层位于衬底和半导体层之间；第一金属层位于半导体层背离衬底的一侧；光致变色层包括受可见光照射时颜色变深的有效区以及透明的无效区，第一金属层和半导体层在衬底的正投影均被有效区在衬底的正投影覆盖。当可见光沿衬底向第一金属层的方向照射阵列基板时，有效区颜色会加深，可见光仅会透过有效区之外部分的透明的无效区，而不会照射到半导体层，减少了半导体层因光照的影响而具有导体性质的现象的发生，减少背光光照区域和无背光光照区域之间存在的像素充电差异，改善了画面显示不均的现象。

Description

阵列基板、液晶显示面板及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示面板的技术领域，尤其是涉及一种阵列基板、液晶显示面板及其制备方法。

背景技术

随着科技的进步和社会的发展，显示面板在人们的生活中逐渐普及，因此，人们对显示面板的性能要求也越来越高。

随着面板尺寸增加，背光尺寸也相应变化，随之而来的是背光功耗的急剧升高，因此背光厂商采取PWM调制方法来降低功耗。

但是，面板尺寸在增加的同时，数据线信号的长度也会增加，带来了数据线阻抗的升高，同时现有主流大尺寸电视面板均采用4Mask工艺，因而数据线下会存在有等宽度的半导体层，常用非晶硅半导体层，这样在背光开启的时候，非晶硅半导体将具有导体的特性，进而造成有背光光照区和无背光光照区之间存在线电阻差异以及与像素区电极之间的电容耦合变化，造成背光光照区域和无背光光照区域之间存在像素充电差异，从而画面显示不均。

发明内容

本发明提供了一种阵列基板，上述阵列基板能够有效减少背光光照区域和无背光光照区域之间存在像素充电差异，从而改善了显示画面显示不均的现象，提高了显示效果。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

一种阵列基板，包括衬底、半导体层、第一金属层以及光致变色层，其中：光致变色层位于衬底和半导体层之间；第一金属层位于半导体层背离衬底的一侧；光致变色层包括受可见光照射时颜色变深的有效区以及位于有效区之外部分的透明的无效区，第一金属层和半导体层在衬底的正投影均被有效区在衬底的正投影覆盖。

本发明提供的阵列基板，当可见光沿衬底向第一金属层的方向照射阵列基板时，有效区颜色会加深，可见光仅会透过有效区之外部分的透明的无效区，而不会透过深色的有效区，由于第一金属层和半导体层在衬底的正投影均被有效区在衬底的正投影覆盖，也就是说可见光不会照射到半导体层。

因此，这种阵列基板的设置方式，当背光开启的时候，有效区的存在能够有效减少甚至防止可见光照射到半导体层，大大减少了半导体层因光照的影响而具有导体性质的现象的发生，从而有效减少了有背光光照区和无背光光照区之间的线电阻差异，减少了有背光光照区域和无背光光照区域之间存在的像素充电差异，从而改善了显示画面显示不均的现象，提升了显示效果。

可选地，阵列基板还包括绝缘层以及第二金属层；绝缘层位于第一金属层与第二金属层之间；第二金属层在衬底的正投影被有效区在衬底的正投影覆盖。

可选地，第二金属层位于半导体层与光致变色层之间。

一种液晶显示面板，包括彩膜层以及上述的任一种阵列基板，其中：彩膜层位于第一金属层远离衬底的一侧；彩膜层与第一金属层之间具有遮光层，第一金属层和半导体层在衬底的正投影均被遮光层在衬底的正投影覆盖。

可选地，遮光层为黑矩阵。

一种适用于上述的任一种液晶显示面板的制备方法，包括：在衬底上依次形成光致变色层、半导体层以及第一金属层，以形成阵列基板；在阵列基板上形成彩膜层，以形成液晶显示面板；沿彩膜层向衬底的方向，用特定波长的紫外光过渡照液晶显示面板，直到光致变色层的有效区以外的部分失去光致变效应，以形成透明的无效区。

可选地，光致变色层为无色透明膜层；无效区的形成方法为：在沿第二金属层向衬底的方向，用特定波长的紫外光过渡照液晶显示面板，直到光致变色层的有效区以外的部分逐渐退化至失去光致变特性。

可选地，光致变色层为深色膜层；无效区的形成方法为：在沿第二金属层向衬底的方向，用特定波长的紫外光过渡照液晶显示面板时，直到光致变色层的有效区以外的部分逐渐褪色至透明、且失去光致变特性。

可选地，光致变色层选用无机可见光致变色材料制作。

可选地，光致变色层包括过渡金属氧化物和/或稀土配合物。

附图说明

图1为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的阵列基板的金属走线示意图；

图3为本发明另一实施例提供的阵列基板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的液晶显示面板的结构示意图；

图5为本发明另一实施例提供的液晶显示面板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的制备方法的流程图；

图7为本发明实施例提供的制备方法制备的液晶显示面板的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的制备方法制备的液晶显示面板接受紫外光照射的结构示意图；

图9为本发明实施例提供的制备方法制备的液晶显示面板接受自然光照射的结构示意图。

图标：1-衬底；2-半导体层；3-第一金属层；4-遮光层；5-有效区；6-无效区；7-绝缘层；8-第二金属层；9-彩膜层；10-平坦层；11-第一金属走线；12-第二金属走线；13-外框。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

图1为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图，如图1所示，本发明实施例提供的阵列基板，包括衬底1、半导体层2、第一金属层3以及光致变色层，其中：光致变色层位于衬底1和半导体层2之间；第一金属层3位于半导体层2背离衬底1的一侧；光致变色层包括受可见光照射时颜色变深的有效区5以及位于有效区5之外部分的透明的无效区6，第一金属层3和半导体层2在衬底1的正投影均被有效区5在衬底1的正投影覆盖。

本实施例提供的阵列基板，当可见光沿衬底1向第一金属层3的方向照射阵列基板时，有效区5颜色会加深，可见光仅会透过有效区5之外部分的透明的无效区6，而不会透过深色的有效区5，由于第一金属层3和半导体层2在衬底1的正投影均被有效区5在衬底1的正投影覆盖，也就是说可见光不会照射到半导体层2。

因此，这种阵列基板的设置方式，当背光开启的时候，有效区5的存在能够有效减少甚至防止可见光照射到半导体层2，大大减少了半导体层2因光照的影响而具有导体性质的现象的发生，从而有效减少了有背光光照区和无背光光照区之间的线电阻差异，减少了有背光光照区域和无背光光照区域之间存在的像素充电差异，从而改善了显示画面显示不均的现象，提升了显示效果。

其中，图2为本发明实施例提供的阵列基板的金属走线示意图，如图2所示，第一金属层3由若干间隔设置的第一金属走线11构成，第一金属走线11设置于外框13内。

图3为本发明另一实施例提供的阵列基板的结构示意图，参考图1和图3，作为一种可选的实施例，阵列基板还包括绝缘层7以及第二金属层8；绝缘层7位于第一金属层3与第二金属层8之间；第二金属层8在衬底1的正投影被有效区5在衬底1的正投影覆盖。

如图2所示，第二金属层8由若干间隔设置的第二金属走线12构成，第二金属走线12设置于外框13内，且第二金属走线12的延伸方向与第一金属走线11的延伸方向垂直。

本实施例中，第二金属层8与光致变色层的相对位置不做具体限定，即使第二金属层8设置于光致变色层与衬底1之间，也不会影响有效区5的作用，分两种情况进行说明：

第一种情况：当有效区5为深色时，可见光从始至终就不会透过深色的有效区5，也就是说无论第二金属层8设置在哪里，可见光都不会照射到半导体层2；

第二种情况：当有效区5为透明时，即使第二金属层8设置于光致变色层与衬底1之间，在当可见光沿衬底1向第一金属层3的方向照射阵列基板时，由于第二金属层8由若干间隔设置的第二金属走线构成，不会完全阻挡可见光的照射路线，光致变色层除了与第二金属走线对应的部分还是会透过可见光，而透过有效区5的可见光仍然会被第一金属层3反射回有效区5，令有效区5颜色会逐渐变为深色，直至可见光不能够透过有效区5，从而防止可见光照射到半导体层2。

如图3所示，作为一种可选的实施例，第二金属层8位于半导体层2与光致变色层之间。

本实施例中，当有效区5为透明时，由于第二金属层8位于半导体层2与光致变色层之间，则当可见光沿衬底1向第一金属层3的方向照射并透过有效区5后，可见光遇到第一金属层3和第二金属层8均会反射回有效区5，由于有效区5具有光致变特性，则有效区5会随着可见光的反射颜色加深，直至可见光不能照射到半导体层2。

这种设置方式，两层金属层均能够对可见光起到反射的作用，能够加快有效区5颜色的加深，进一步防止了可见光照射到半导体层2，提高了有效区5的工效率。

本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括彩膜层9以及上述的任一种阵列基板，其中：彩膜层9位于第一金属层3远离衬底1的一侧；彩膜层9与第一金属层3之间具有遮光层4，第一金属层3和半导体层2在衬底1的正投影均被遮光层4在衬底1的正投影覆盖；图4为本发明实施例提供的液晶显示面板的结构示意图，图5为本发明另一实施例提供的液晶显示面板的结构示意图，液晶显示面板结构具体可参考图4和图5。

作为一种可选的实施例，遮光层4为黑矩阵。

图6为本发明实施例提供的制备方法的流程图，图7为本发明实施例提供的制备方法制备的液晶显示面板的结构示意图，图8为本发明实施例提供的制备方法制备的液晶显示面板接受紫外光照射的结构示意图，图9为本发明实施例提供的制备方法制备的液晶显示面板接受自然光照射的结构示意图，参考图6-图9，本发明实施例还提供了一种适用于上述的任一种液晶显示面板的制备方法，包括：

步骤S101，在衬底1上依次形成光致变色层、半导体层2以及第一金属层3，以形成阵列基板；

步骤S102，在阵列基板上形成彩膜层9，以形成液晶显示面板，如图7所示；

步骤S103，沿彩膜层9向衬底1的方向，用特定波长的紫外光过渡照液晶显示面板，直到光致变色层的有效区5以外的部分失去光致变效应，以形成透明的无效区6，如图8所示。

本实施例中，由于第一金属层3和半导体层2在衬底1的正投影均被遮光层4在衬底1的正投影覆盖，则第一金属层3和半导体层2不会被紫外光照射到，而光致变色层未被紫外光照射的部分即为有效区5；参考图9可明显看出，本实施例中制备完成后的液晶显示面板在接受可见光照射时，半导体2不会被照射到。

其中，当阵列基板包括绝缘层7和第二金属层8时，步骤S101中各膜层的形成顺序可为依次为：光致变色层、第二金属层8(图7中未视出)、绝缘层7、半导体层2以及第一金属层3；

另外，参考图7，半导体层2和第一金属层3与彩膜层9之间可设置平坦层10；

还有，步骤S103可在液晶显示面板对盒完成后的紫外光照对Seal胶进行固化阶段进行，如此方式无需重新引入新的紫外线光源照射液晶显示面板，从而减少耗时，提高液晶显示面板的制备效率。

作为一种可选的实施例，光致变色层为无色透明膜层；当光致变色层为无色透明膜层时，无效区6的形成方法为：在沿第二金属层8向衬底1的方向，用特定波长的紫外光过渡照液晶显示面板，直到光致变色层的有效区5以外的部分逐渐退化至失去光致变特性。

本实施例中，当可见光沿衬底1向第一金属层3的方向照射阵列基板时，光致变色层的任何部位都可透过可见光，但是，由于第一金属层3在衬底1的正投影被有效区5在衬底1的正投影覆盖，当可见光透过有效区5时，可见光会被第一金属层3反射回有效区5，又因为有效区5具有光致变特性，则随着可见光的反射，有效区5颜色会逐渐变为深色，直至可见光不能够透过有效区5，此时，可见光不会照射到半导体层2。

作为一种可选的实施例，光致变色层为深色膜层；当光致变色层为深色膜层时，无效区6的形成方法为：在沿第二金属层8向衬底1的方向，用特定波长的紫外光过渡照液晶显示面板时，直到光致变色层的有效区5以外的部分逐渐褪色至透明、且失去光致变特性。

本实施例中，当可见光沿衬底1向第一金属层3的方向照射阵列基板时，可见光仅会透过有效区5之外部分的透明的无效区6，而不会透过深色的有效区5，由于第一金属层3和半导体层2在衬底1的正投影均被有效区5在衬底1的正投影覆盖，也就是说可见光不会照射到半导体层2。

作为一种可选的实施例，光致变色层选用无机可见光致变色材料制作。

作为一种可选的实施例，光致变色层包括过渡金属氧化物和/或稀土配合物。

显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底、半导体层、第一金属层以及光致变色层，其中：

所述光致变色层位于所述衬底和所述半导体层之间；

所述第一金属层位于所述半导体层背离所述衬底的一侧；

所述光致变色层包括受可见光照射时颜色能够变深的有效区以及位于所述有效区之外部分的透明的无效区，所述第一金属层和所述半导体层在所述衬底的正投影均被所述有效区在所述衬底的正投影覆盖。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括绝缘层以及第二金属层；

所述绝缘层位于所述第一金属层与所述第二金属层之间；

所述第二金属层在所述衬底的正投影被所述有效区在所述衬底的正投影覆盖。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二金属层位于所述半导体层与所述光致变色层之间。

4.一种液晶显示面板，其特征在于，包括彩膜层以及权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其中：

所述彩膜层位于所述第一金属层远离所述衬底的一侧；

所述彩膜层与所述第一金属层之间具有遮光层，所述第一金属层和所述半导体层在所述衬底的正投影均被所述遮光层在所述衬底的正投影覆盖。

5.根据权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述遮光层为黑矩阵。

6.一种适用于权利要求4-5任一项所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底上依次形成光致变色层、半导体层以及第一金属层，以形成阵列基板；

在阵列基板上形成彩膜层，以形成液晶显示面板；

沿彩膜层向衬底的方向，用特定波长的紫外光过渡照液晶显示面板，直到光致变色层的有效区以外的部分失去光致变效应，以形成透明的无效区。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述光致变色层为无色透明膜层；

所述无效区的形成方法为：

在沿第二金属层向衬底的方向，用特定波长的紫外光过渡照液晶显示面板，直到光致变色层的有效区以外的部分逐渐退化至失去光致变特性。

8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述光致变色层为深色膜层；

所述无效区的形成方法为：

在沿第二金属层向衬底的方向，用特定波长的紫外光过渡照液晶显示面板时，直到光致变色层的有效区以外的部分逐渐褪色至透明、且失去光致变特性。

9.根据权利要求6-8任一项所述的制备方法，其特征在于，所述光致变色层选用无机可见光致变色材料制作。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述光致变色层包括过渡金属氧化物和/或稀土配合物。

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