CN111580309A - 一种阵列基板、显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种阵列基板、显示面板,涉及显示技术领域,该显示面板的对比度高,显示效果佳。一种阵列基板,包括衬底以及设置在衬底之上的阵列排布的多个子像素;子像素包括沿第一方向排布的第一狭缝电极和第二狭缝电极;第一狭缝电极包括多个平行间隔设置的第一狭缝,第二狭缝电极包括多个平行间隔设置的第二狭缝,第一狭缝的延伸方向与第二狭缝的延伸方向不同;子像素还包括位于第一狭缝电极和第二狭缝电极之上的暗区遮光部;暗区遮光部在衬底上的正投影至少部分覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影,第一区域为第一狭缝电极和第二狭缝电极之间的区域。本发明适用于阵列基板和显示面板的制作。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板、显示面板。
背景技术
液晶显示面板已占据显示领域的大部分市场。目前液晶显示面板的类型主要包括TN(Twisted Nematic,扭曲向列)型、VA(Vertical Alignment,垂直取向)型、IPS(In-PlaneSwitching,平面转换)型和ADS(Advanced Super Dimension Switch,高级超维场转换)型。其中,ADS型液晶显示面板具有高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率等优点,受到市场的追捧。但是现有的ADS型液晶显示面板的对比度不足,不能满足用户的更高要求。
发明内容
本发明的实施例提供一种阵列基板、显示面板,该显示面板的对比度高,显示效果佳。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
一方面,提供了一种阵列基板,包括衬底以及设置在所述衬底之上的阵列排布的多个子像素;所述子像素包括沿第一方向排布的第一狭缝电极和第二狭缝电极;所述第一狭缝电极包括多个平行间隔设置的第一狭缝,所述第二狭缝电极包括多个平行间隔设置的第二狭缝,所述第一狭缝的延伸方向与所述第二狭缝的延伸方向不同;
所述子像素还包括位于所述第一狭缝电极和所述第二狭缝电极之上的暗区遮光部;所述暗区遮光部在所述衬底上的正投影至少部分覆盖所述子像素的第一区域在所述衬底上的正投影,所述第一区域为所述第一狭缝电极和所述第二狭缝电极之间的区域。
可选的,所述暗区遮光部沿所述第一方向的宽度均一。
可选的,所述暗区遮光部沿所述第一方向的宽度小于或等于所述第一区域沿所述第一方向的最大宽度。
可选的,所述子像素中,所述第一狭缝的延伸方向与第二方向之间的夹角为第一夹角,所述第二狭缝的延伸方向与所述第二方向之间的夹角为第二夹角;所述第二方向与所述第一方向垂直;
所述第一区域沿所述第一方向的最大宽度,分别与所述第一夹角和所述第二夹角呈正相关关系。
可选的,所述暗区遮光部在所述衬底上的正投影还覆盖所述子像素中的第二区域在所述衬底上的正投影,所述第二区域包括各所述第一狭缝的两端所在区域、以及各所述第二狭缝的两端所在区域。
可选的,所述第二区域还包括各所述第一狭缝和各所述第二狭缝的同一端与紧邻的所述子像素的边缘之间的区域。
本发明的实施例提供了一种阵列基板,该阵列基板包括衬底以及设置在所述衬底之上的阵列排布的多个子像素;所述子像素包括沿第一方向排布的第一狭缝电极和第二狭缝电极;所述第一狭缝电极包括多个平行间隔设置的第一狭缝,所述第二狭缝电极包括多个平行间隔设置的第二狭缝,所述第一狭缝的延伸方向与所述第二狭缝的延伸方向不同;所述子像素还包括位于所述第一狭缝电极和所述第二狭缝电极之上的暗区遮光部;所述暗区遮光部在所述衬底上的正投影至少部分覆盖所述子像素的第一区域在所述衬底上的正投影,所述第一区域为所述第一狭缝电极和所述第二狭缝电极之间的区域。
将上述阵列基板应用到液晶显示面板中,由于子像素中第一狭缝电极的第一狭缝的延伸方向与第二狭缝电极的第二狭缝的延伸方向不同,则第一狭缝电极和第二狭缝电极之间的区域(即交界区域)对应的液晶无法偏转至合适位置;则该区域的亮态亮度明显低于其它区域的亮态亮度,从而形成显示暗区;但该区域的暗态亮度与其它区域的暗态亮度一致。基于此,上述阵列基板设置暗区遮光部,且暗区遮光部在衬底上的正投影至少部分覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影;从而至少将部分第一区域遮挡住,进而可以提高子像素的平均亮度,同时暗态平均亮度不变;而对比度的定义是亮态的平均亮度除以暗态的平均亮度,则包括上述阵列基板的液晶显示面板的对比度得到较大提升,显示效果佳,从而满足市场要求。
另一方面,提供了一种显示面板,包括对盒的彩膜基板和上述所述的阵列基板、以及位于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层。该显示面板的对比度得到较大提升,显示效果佳,能够满足市场要求。
再一方面,提供了又一种显示面板,包括对盒的阵列基板和彩膜基板;
所述阵列基板包括衬底和设置在所述衬底之上的阵列排布的多个子像素;所述子像素包括沿第一方向排布的第一狭缝电极和第二狭缝电极;所述第一狭缝电极包括多个平行间隔设置的第一狭缝,所述第二狭缝电极包括多个平行间隔设置的第二狭缝,所述第一狭缝的延伸方向与所述第二狭缝的延伸方向不同;
所述彩膜基板包括黑矩阵,所述黑矩阵包括多个暗区遮光部;所述暗区遮光部在所述衬底上的正投影,至少部分覆盖所述子像素中的第一区域在所述衬底上的正投影;所述第一区域为所述第一狭缝组和所述第二狭缝组之间的区域。
可选的,所述暗区遮光部沿所述第一方向的宽度,小于或等于所述阵列基板和所述彩膜基板的对位偏差与所述第一区域沿所述第一方向的最大宽度之和。
可选的,所述子像素中,所述第一狭缝的延伸方向与第二方向之间的夹角为第一夹角,所述第二狭缝的延伸方向与所述第二方向之间的夹角为第二夹角;所述第二方向与所述第一方向垂直;
所述第一区域沿所述第一方向的最大宽度,分别与所述第一夹角和所述第二夹角呈正相关关系。
可选的,所述阵列基板还包括多条沿所述第一方向排布的栅线;所述栅线位于沿所述第一方向的相邻两排所述子像素之间;所述黑矩阵还包括栅线遮光部,所述栅线遮光部在所述衬底上的正投影覆盖所述栅线在所述衬底上的正投影;
所述暗区遮光部沿所述第一方向的宽度,占所述栅线遮光部沿所述第一方向的宽度的比例小于或等于二分之一。
可选的,所述暗区遮光部在所述衬底上的正投影还覆盖所述子像素中的第二区域在所述衬底上的正投影,所述第二区域包括各所述第一狭缝的两端所在区域、以及各所述第二狭缝的两端所在区域。
可选的,所述第二区域还包括各所述第一狭缝和各所述第二狭缝的同一端与紧邻的所述子像素的边缘之间的区域。
本发明的实施例提供了一种显示面板,包括对盒的阵列基板和彩膜基板;所述阵列基板包括衬底和设置在所述衬底之上的阵列排布的多个子像素;所述子像素包括沿第一方向排布的第一狭缝电极和第二狭缝电极;所述第一狭缝电极包括多个平行间隔设置的第一狭缝,所述第二狭缝电极包括多个平行间隔设置的第二狭缝,所述第一狭缝的延伸方向与所述第二狭缝的延伸方向不同;所述彩膜基板包括黑矩阵,所述黑矩阵包括多个暗区遮光部;所述暗区遮光部在所述衬底上的正投影,至少部分覆盖所述子像素中的第一区域在所述衬底上的正投影;所述第一区域为所述第一狭缝组和所述第二狭缝组之间的区域。
将上述显示面板应用到液晶显示面板中,由于子像素中第一狭缝电极的第一狭缝的延伸方向与第二狭缝电极的第二狭缝的延伸方向不同,则第一狭缝电极和第二狭缝电极之间的区域(即交界区域)对应的液晶无法偏转至合适位置;则该区域的亮态亮度明显低于其它区域的亮态亮度,从而形成显示暗区;但该区域的暗态亮度与其它区域的暗态亮度一致。基于此,上述彩膜基板的黑矩阵设置暗区遮光部,且暗区遮光部在衬底上的正投影至少部分覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影;从而至少将部分第一区域遮挡住,进而可以提高子像素的平均亮度,同时暗态平均亮度不变;而对比度的定义是亮态的平均亮度除以暗态的平均亮度,则上述显示面板的对比度得到较大提升,显示效果佳,从而满足市场要求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的第一种显示面板的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的第二种显示面板的结构示意图;
图3为本发明实施例提供的第三种显示面板的结构示意图;
图4为本发明实施例提供的第四种显示面板的结构示意图;
图5为本发明实施例提供的一种显示面板的版图;
图6为本发明实施例提供的子像素照片对比图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的实施例中,采用“第一”、“第二”等字样对功能和作用基本相同的相同项或相似项进行区分,仅为了清楚描述本发明实施例的技术方案,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。
在本发明的实施例中,“多个”的含义是两个或两个以上,“多条”的含义是两条或两条以上,除非另有明确具体的限定。
在本发明的实施例中,术语“上”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
实施例一
本发明的实施例提供了一种阵列基板,包括衬底以及设置在衬底之上的阵列排布的多个子像素;参考图1所示,子像素包括沿第一方向排布的第一狭缝电极1和第二狭缝电极2;第一狭缝电极1包括多个平行间隔设置的第一狭缝11,第二狭缝电极2包括多个平行间隔设置的第二狭缝21,第一狭缝11的延伸方向与第二狭缝21的延伸方向不同;
子像素还包括位于第一狭缝电极和第二狭缝电极之上的暗区遮光部;参考图2和图5所示,暗区遮光部6在衬底上的正投影至少部分覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影,第一区域为第一狭缝电极和第二狭缝电极之间的区域。
需要说明的是,为了清楚地体现第一狭缝电极和第二狭缝电极的结构,图1中未绘示暗区遮光部。
上述子像素一般设置为条状,上述第一方向可以是如图1所示的OB方向(即子像素的长边方向),也可以是如图1所示的OA方向(即子像素的短边方向),这里不做限定,图1以第一方向为OB方向为例进行绘示。
上述阵列排布的多个子像素中,可以包括R(红色)子像素、G(绿色)子像素、B(蓝色)子像素,当然还可以包括Y(黄色)子像素等其它颜色的子像素。
上述暗区遮光部在衬底上的正投影至少部分覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影是指:暗区遮光部在衬底上的正投影可以部分覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影;还可以全部覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影;另外,由于第一狭缝的延伸方向与第二狭缝的延伸方向不同,则第一狭缝电极和第二狭缝电极之间的区域形状不规则,则参考图2所示,暗区遮光部6在衬底上的正投影还可以部分覆盖紧邻第一区域的第一狭缝11和第二狭缝21在衬底上的正投影。
上述暗区遮光部在衬底上的正投影是指暗区遮光部沿垂直于衬底的方向在衬底上的投影;上述子像素的第一区域在衬底上的正投影是指子像素的第一区域沿垂直于衬底的方向在衬底上的投影。
上述暗区遮光部的材料不做限定,只要能够起到遮光的作用即可。示例的,该暗区遮光部的材料可以与黑矩阵的材料相同。
上述第一狭缝电极和第二狭缝电极电连接,为了简化工艺,可以采用一次构图工艺制作。这里对于第一狭缝电极包括的第一狭缝的数量、第二狭缝电极包括的第二狭缝的数量均不作限定。
上述子像素还可以包括位于上述第一狭缝电极和第二狭缝电极下方的面状电极。若该面状电极与公共电极信号线电连接、第一狭缝电极和第二狭缝电极与像素电极信号线电连接,则该面状电极作为公共电极,第一狭缝电极和第二狭缝电极作为像素电极,此时形成的阵列基板为ADS型阵列基板。若该面状电极与像素电极信号线电连接、第一狭缝电极和第二狭缝电极与公共电极信号线电连接,则该面状电极作为像素电极,第一狭缝电极和第二狭缝电极作为公共电极,此时形成的阵列基板为HADS型阵列基板。这里对于上述第一狭缝电极和第二狭缝电极电连接的信号线类型不作限定,具体可以根据实际要求确定。
将上述阵列基板应用于液晶显示面板时,第一狭缝电极、第二狭缝电极、面状电极接通电压后,第一狭缝电极和第二狭缝电极在狭缝边缘产生电场,同时第一狭缝电极和第二狭缝电极分别与面状电极产生电场,从而形成多维电场,驱使液晶分子旋转,进而实现显示。
但是由于子像素中第一狭缝电极的第一狭缝的延伸方向与第二狭缝电极的第二狭缝的延伸方向不同,则第一狭缝电极和第二狭缝电极之间的区域(即交界区域)对应的液晶无法偏转至合适位置;则该区域的亮态亮度明显低于其它区域的亮态亮度,从而形成显示暗区。但该区域的暗态亮度与其它区域的暗态亮度一致。
基于此,上述阵列基板设置暗区遮光部,且暗区遮光部在衬底上的正投影至少部分覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影;从而至少将部分第一区域遮挡住,进而可以提高子像素的平均亮度,同时暗态平均亮度不变;而对比度的定义是亮态的平均亮度除以暗态的平均亮度,则包括上述阵列基板的液晶显示面板的对比度得到较大提升,显示效果佳,从而满足市场要求。
需要说明的是,上述阵列基板还可以包括图1所示的栅线3、数据线4、薄膜晶体管5等结构,这里仅介绍与发明点相关的结构和膜层,其它结构可以参考现有技术获得,这里不再赘述。
为了便于制作,可选的,参考图2所示,暗区遮光部6沿第一方向(图2的OB方向)的宽度h均一。此时,暗区遮光部采用横条贯穿,以遮挡子像素中的显示暗区(又称发光弱区),从而提高整个子像素的平均亮度。
可选的,参考图2所示,暗区遮光部6沿第一方向(图2的OB方向)的宽度h小于或等于第一区域沿第一方向(图2的OB方向)的最大宽度h1。这样可以保证在提高对比度(CR)的同时,尽可能降低对于透过率(Tr)的影响。
可选的,参考图3所示,子像素中,第一狭缝11的延伸方向与第二方向(图3的OA方向)之间的夹角为第一夹角α,第二狭缝21的延伸方向与第二方向(图3的OA方向)之间的夹角为第二夹角β;第二方向与第一方向垂直;第一区域沿第一方向(图3的OB方向)的最大宽度h1,分别与第一夹角α和第二夹角β呈正相关关系。
上述第二方向可以是如图3所示的OB方向,此时,第一方向可以是如图3所示的OA方向;或者,上述第二方向还可以是如图3所示的OA方向,此时,第一方向可以是如图3所示的OB方向;这里不做限定,本发明实施例的附图均以第二方向为OA方向、第一方向为OB方向为例进行绘示。
上述第一区域沿第一方向的最大宽度分别与第一夹角和第二夹角呈正相关关系。即第一夹角越大,第一区域沿第一方向的最大宽度越大,此时,暗区遮光部沿第一方向的宽度也要相应增大。同理,第二夹角越大,第一区域沿第一方向的最大宽度越大,此时,暗区遮光部沿第一方向的宽度也要相应增大。示例的,若第一夹角或者第二夹角由5°增加到11°,则暗区遮光部沿第一方向的宽度需要增加8μm,相对增加量为1.3μm/°(即每增加一度,该暗区遮光部沿第一方向的宽度大约需要增加1.3μm)。
需要说明的是,第一狭缝的宽度以及相邻第一狭缝之间的距离、第二狭缝的宽度以及相邻第二狭缝之间的距离均会影响到显示暗区的面积,从而影响暗区遮光部沿第一方向的宽度设计。通常,第一狭缝的宽度越宽、相邻第一狭缝之间的距离越大,第二狭缝的宽度越宽、相邻第二狭缝之间的距离越大,则暗区遮光部沿第一方向的宽度需要设计的越宽。
可选的,参考图4所示,暗区遮光部6在衬底上的正投影还覆盖子像素中的第二区域在衬底上的正投影,第二区域包括各第一狭缝的两端所在区域、以及各第二狭缝的两端所在区域。
进一步可选的,第二区域还包括各第一狭缝和各第二狭缝的同一端与紧邻的子像素的边缘之间的区域。
上述第二区域也属于显示暗区,通过暗区遮光部遮挡该区域,从而更进一步提高亮态的平均亮度,进而更进一步提高对比度。图4中以暗区遮光部在衬底上的正投影还覆盖各第一狭缝的两端所在区域、各第二狭缝的两端所在区域、以及各第一狭缝和各第二狭缝的同一端与紧邻的子像素的边缘之间的区域为例进行绘示。
实施例二
本发明实施例提供了一种显示面板,包括对盒的彩膜基板和实施例一的阵列基板、以及位于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层。
该显示面板可以是ADS型显示面板,也可以是HADS型显示面板,还可以是包括这些显示面板的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。该显示面板的对比度得到较大提升,显示效果佳,能够满足市场要求。
实施例三
本发明实施例提供了一种显示面板,包括对盒的阵列基板和彩膜基板。
阵列基板包括衬底和设置在衬底之上的阵列排布的多个子像素;参考图1所示,子像素包括沿第一方向排布的第一狭缝电极1和第二狭缝电极2;第一狭缝电极1包括多个平行间隔设置的第一狭缝11,第二狭缝电极2包括多个平行间隔设置的第二狭缝21,第一狭缝11的延伸方向与第二狭缝21的延伸方向不同。
彩膜基板包括黑矩阵,黑矩阵包括多个暗区遮光部;参考图2和图5所示,暗区遮光部6在衬底上的正投影,至少部分覆盖子像素中的第一区域在衬底上的正投影;第一区域为第一狭缝组和第二狭缝组之间的区域。
需要说明的是,为了清楚地体现第一狭缝电极和第二狭缝电极的结构,图1中未绘示暗区遮光部。
上述子像素一般设置为条状,上述第一方向可以是如图1所示的OB方向(即子像素的长边方向),也可以是如图1所示的OA方向(即子像素的短边方向),这里不做限定,图1以第一方向为OB方向为例进行绘示。
上述阵列排布的多个子像素中,可以包括R(红色)子像素、G(绿色)子像素、B(蓝色)子像素,当然还可以包括Y(黄色)子像素等其它颜色的子像素。
上述暗区遮光部在衬底上的正投影至少部分覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影是指:暗区遮光部在衬底上的正投影可以部分覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影;还可以全部覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影;另外,由于第一狭缝的延伸方向与第二狭缝的延伸方向不同,则第一狭缝电极和第二狭缝电极之间的区域形状不规则,则参考图2所示,暗区遮光部6在衬底上的正投影还可以部分覆盖紧邻第一区域的第一狭缝11和第二狭缝21在衬底上的正投影。
上述暗区遮光部在衬底上的正投影是指暗区遮光部沿垂直于衬底的方向在衬底上的投影;上述子像素的第一区域在衬底上的正投影是指子像素的第一区域沿垂直于衬底的方向在衬底上的投影。
上述第一狭缝电极和第二狭缝电极电连接,为了简化工艺,可以采用一次构图工艺制作。这里对于第一狭缝电极包括的第一狭缝的数量、第二狭缝电极包括的第二狭缝的数量均不作限定。
上述子像素还可以包括位于上述第一狭缝电极和第二狭缝电极下方的面状电极。若该面状电极与公共电极信号线电连接、第一狭缝电极和第二狭缝电极与像素电极信号线电连接,则该面状电极作为公共电极,第一狭缝电极和第二狭缝电极作为像素电极,此时形成的阵列基板为ADS型阵列基板,该显示面板为ADS型显示面板。若该面状电极与像素电极信号线电连接、第一狭缝电极和第二狭缝电极与公共电极信号线电连接,则该面状电极作为像素电极,第一狭缝电极和第二狭缝电极作为公共电极,此时形成的阵列基板为HADS型阵列基板,该显示面板为HADS型显示面板。这里对于上述第一狭缝电极和第二狭缝电极电连接的信号线类型不作限定,具体可以根据实际要求确定。
上述显示面板中,第一狭缝电极、第二狭缝电极、面状电极接通电压后,第一狭缝电极和第二狭缝电极在狭缝边缘产生电场,同时第一狭缝电极和第二狭缝电极分别与面状电极产生电场,从而形成多维电场,驱使液晶分子旋转,进而实现显示。
但是由于子像素中第一狭缝电极的第一狭缝的延伸方向与第二狭缝电极的第二狭缝的延伸方向不同,则第一狭缝电极和第二狭缝电极之间的区域(即交界区域)对应的液晶无法偏转至合适位置;则该区域的亮态亮度明显低于其它区域的亮态亮度,从而形成显示暗区。但该区域的暗态亮度与其它区域的暗态亮度一致。
基于此,上述彩膜基板的黑矩阵设置暗区遮光部,且暗区遮光部在衬底上的正投影至少部分覆盖子像素的第一区域在衬底上的正投影;从而至少将部分第一区域遮挡住,进而可以提高子像素的平均亮度,同时暗态平均亮度不变;而对比度的定义是亮态的平均亮度除以暗态的平均亮度,则上述显示面板的对比度得到较大提升,显示效果佳,从而满足市场要求。
现有MNT ADS产品的对比度(CR)平均值大概为1000,部分产品会出现略低于1000的情况,采用上述方案,可以将对比度提升3~6%,且无需变更材料与工艺条件,仅通过设计变更即可达成CR规格。同时,可兼容a-si(非晶硅)TFT,Oxide(氧化物)TFT,LTPS(低温多晶硅)TFT等工艺。
以31.5英寸的QHD ADS型显示面板为例,图6中a图为未设置暗区遮光部的子像素照片,图6中b图为设置暗区遮光部6的子像素照片,该暗区遮光部6遮挡第一狭缝电极和第二狭缝电极的交界处,其沿竖直方向的宽度为14μm;经过计算,透过率(Tr)从4.3%下降到4.1%,下降的相对比例约为5%;对比度(CR)从1064提升到1123,提升的相对比例约为6%。
需要说明的是,本实施例与实施例一的不同在于:暗区遮光部的设置位置不同。实施例一,暗区遮光部设置在阵列基板中。而本实施例,将暗区遮光部设置在彩膜基板的黑矩阵中,这样可以在原有工艺的基础上,仅通过变更黑矩阵的设计图案即可,无需变更材料和工艺条件,更有利于推广。
为了便于制作,可选的,参考图2所示,暗区遮光部6沿第一方向(图2的OB方向)的宽度h均一。此时,暗区遮光部采用横条贯穿,以遮挡子像素中的显示暗区(又称发光弱区),从而提高整个子像素的平均亮度。
可选的,参考图2所示,暗区遮光部6沿第一方向(图2的OB方向)的宽度h,小于或等于阵列基板和彩膜基板的对位偏差与第一区域沿第一方向(图2的OB方向)的最大宽度h1之和。此时,通过软件模拟,暗区遮光部沿第一方向的宽度范围通常为10~26μm。这样可以保证在提高对比度(CR)的同时,尽可能降低对于透过率(Tr)的影响。需要说明的是,上述阵列基板和彩膜基板的对位偏差越大,第一区域沿第一方向的最大宽度越大,则暗区遮光部沿第一方向的宽度也需要设计的更大。
可选的,参考图3所示,子像素中,第一狭缝11的延伸方向与第二方向(图3的OA方向)之间的夹角为第一夹角α,第二狭缝21的延伸方向与第二方向(图3的OA方向)之间的夹角为第二夹角β;第二方向与第一方向垂直;第一区域沿第一方向(图3的OB方向)的最大宽度h1,分别与第一夹角α和第二夹角β呈正相关关系。
上述第二方向可以是如图3所示的OB方向,此时,第一方向可以是如图3所示的OA方向;或者,上述第二方向还可以是如图3所示的OA方向,此时,第一方向可以是如图3所示的OB方向;这里不做限定,本发明实施例的附图均以第二方向为OA方向、第一方向为OB方向为例进行绘示。
上述第一区域沿第一方向的最大宽度分别与第一夹角和第二夹角呈正相关关系。即第一夹角越大,第一区域沿第一方向的最大宽度越大,此时,暗区遮光部沿第一方向的宽度也要相应增大。同理,第二夹角越大,第一区域沿第一方向的最大宽度越大,此时,暗区遮光部沿第一方向的宽度也要相应增大。示例的,若第一夹角或者第二夹角由5°增加到11°,则暗区遮光部沿第一方向的宽度需要增加8μm,相对增加量为1.3μm/°(即每增加一度,该暗区遮光部沿第一方向的宽度大约需要增加1.3μm)。
需要说明的是,第一狭缝的宽度以及相邻第一狭缝之间的距离、第二狭缝的宽度以及相邻第二狭缝之间的距离均会影响到显示暗区的面积,从而影响暗区遮光部沿第一方向的宽度设计。通常,第一狭缝的宽度越宽、相邻第一狭缝之间的距离越大,第二狭缝的宽度越宽、相邻第二狭缝之间的距离越大,则暗区遮光部沿第一方向的宽度需要设计的越宽。
参考图2所示,阵列基板还包括多条沿第一方向排布的栅线3;栅线位于沿第一方向的邻两排子像素之间;黑矩阵还包括栅线遮光部(图3未示出),栅线遮光部在衬底上的正投影覆盖栅线3在衬底上的正投影;暗区遮光部6沿第一方向的宽度h,占栅线遮光部沿第一方向的宽度的比例小于或等于二分之一。需要说明的是,栅线遮光部沿第一方向的宽度大于等于栅线沿第一方向的宽度h2。这样可以保证在提高对比度(CR)的同时,尽可能降低对于透过率(Tr)的影响。
可选的,参考图4所示,暗区遮光部6在衬底上的正投影还覆盖子像素中的第二区域在衬底上的正投影,第二区域包括各第一狭缝的两端所在区域、以及各第二狭缝的两端所在区域。
进一步可选的,第二区域还包括各第一狭缝和各第二狭缝的同一端与紧邻的子像素的边缘之间的区域。
上述第二区域也属于显示暗区,通过暗区遮光部遮挡该区域,从而更进一步提高亮态的平均亮度,进而更进一步提高对比度。示例的,在各第一狭缝和各第二狭缝的两端各设置1.9μm宽度的暗区遮光部,实测对比度提升1%,透过率下降3%。
图4中以暗区遮光部在衬底上的正投影还覆盖各第一狭缝的两端所在区域、各第二狭缝的两端所在区域、以及各第一狭缝和各第二狭缝的同一端与紧邻的子像素的边缘之间的区域为例进行绘示。
为了避免漏光,提高显示效果,参考图3所示,阵列基板还包括多条沿第二方向(图3中OA方向)排布的数据线4和薄膜晶体管5;数据线位于沿第二方向的相邻两排子像素之间;薄膜晶体管与第一狭缝电极和第二狭缝电极电连接;黑矩阵(BM)还覆盖数据线和薄膜晶体管。当然,黑矩阵还可以覆盖其它区域,这里不再列举。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (13)
1.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底以及设置在所述衬底之上的阵列排布的多个子像素;所述子像素包括沿第一方向排布的第一狭缝电极和第二狭缝电极;所述第一狭缝电极包括多个平行间隔设置的第一狭缝,所述第二狭缝电极包括多个平行间隔设置的第二狭缝,所述第一狭缝的延伸方向与所述第二狭缝的延伸方向不同;
所述子像素还包括位于所述第一狭缝电极和所述第二狭缝电极之上的暗区遮光部;所述暗区遮光部在所述衬底上的正投影至少部分覆盖所述子像素的第一区域在所述衬底上的正投影,所述第一区域为所述第一狭缝电极和所述第二狭缝电极之间的区域。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述暗区遮光部沿所述第一方向的宽度均一。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述暗区遮光部沿所述第一方向的宽度小于或等于所述第一区域沿所述第一方向的最大宽度。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述子像素中,所述第一狭缝的延伸方向与第二方向之间的夹角为第一夹角,所述第二狭缝的延伸方向与所述第二方向之间的夹角为第二夹角;所述第二方向与所述第一方向垂直;
所述第一区域沿所述第一方向的最大宽度,分别与所述第一夹角和所述第二夹角呈正相关关系。
5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述暗区遮光部在所述衬底上的正投影还覆盖所述子像素中的第二区域在所述衬底上的正投影,所述第二区域包括各所述第一狭缝的两端所在区域、以及各所述第二狭缝的两端所在区域。
6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述第二区域还包括各所述第一狭缝和各所述第二狭缝的同一端与紧邻的所述子像素的边缘之间的区域。
7.一种显示面板,其特征在于,包括对盒的彩膜基板和权利要求1-6任一项所述的阵列基板、以及位于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层。
8.一种显示面板,其特征在于,包括对盒的阵列基板和彩膜基板;
所述阵列基板包括衬底和设置在所述衬底之上的阵列排布的多个子像素;所述子像素包括沿第一方向排布的第一狭缝电极和第二狭缝电极;所述第一狭缝电极包括多个平行间隔设置的第一狭缝,所述第二狭缝电极包括多个平行间隔设置的第二狭缝,所述第一狭缝的延伸方向与所述第二狭缝的延伸方向不同;
所述彩膜基板包括黑矩阵,所述黑矩阵包括多个暗区遮光部;所述暗区遮光部在所述衬底上的正投影,至少部分覆盖所述子像素中的第一区域在所述衬底上的正投影;所述第一区域为所述第一狭缝组和所述第二狭缝组之间的区域。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述暗区遮光部沿所述第一方向的宽度,小于或等于所述阵列基板和所述彩膜基板的对位偏差与所述第一区域沿所述第一方向的最大宽度之和。
10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,
所述子像素中,所述第一狭缝的延伸方向与第二方向之间的夹角为第一夹角,所述第二狭缝的延伸方向与所述第二方向之间的夹角为第二夹角;所述第二方向与所述第一方向垂直;
所述第一区域沿所述第一方向的最大宽度,分别与所述第一夹角和所述第二夹角呈正相关关系。
11.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板还包括多条沿所述第一方向排布的栅线;所述栅线位于沿所述第一方向的相邻两排所述子像素之间;所述黑矩阵还包括栅线遮光部,所述栅线遮光部在所述衬底上的正投影覆盖所述栅线在所述衬底上的正投影;
所述暗区遮光部沿所述第一方向的宽度,占所述栅线遮光部沿所述第一方向的宽度的比例小于或等于二分之一。
12.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述暗区遮光部在所述衬底上的正投影还覆盖所述子像素中的第二区域在所述衬底上的正投影,所述第二区域包括各所述第一狭缝的两端所在区域、以及各所述第二狭缝的两端所在区域。
13.根据权利要求12所述的显示面板,其特征在于,所述第二区域还包括各所述第一狭缝和各所述第二狭缝的同一端与紧邻的所述子像素的边缘之间的区域。
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