CN111580199A - 一种高抗刮扩散膜制造方法 - Google Patents
一种高抗刮扩散膜制造方法 Download PDFInfo
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Abstract
本发明公开了一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:先制备第一扩散层涂布液、第二扩散层涂布液、抗刮层涂布液,然后将第一扩散层涂布液涂布在基材层上,得到第一扩散层,第一扩散层表面通过第一涂布辊表面凹凸不平的花纹形成凸起与凹槽,接着将第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层上得到第二扩散层并通过烘箱加热,再将抗刮层涂布液涂布在基材层的下表面得到抗刮层,最后进行熟化,得到一种高抗刮扩散膜。本发明通过设置抗刮层增加抗刮性能解决了摩擦易导致薄膜受到损坏的问题,通过设置凹槽为第二扩散粒子提供回弹空间解决了薄膜受到外力作用时易产生脱落或者刮伤的问题。
Description
技术领域
本发明涉及一种膜的制造方法,尤其涉及一种高抗刮扩散膜制造方法。
背景技术
光学扩散膜在裁切的过程中会受到传送带摩擦、在包装过程中容易人为刮擦、在运输过程中容易薄膜之间摩擦,各种摩擦导致薄膜受到损坏,从而使得薄膜在客户端的合格率降低,因此扩散膜需要具有较强的抗刮伤性。传统的光学扩散膜表层为平面涂布,大部分扩散粒子是露出扩散涂层的,且现有的扩散涂层中大多使用单一粒径或者窄分散粒径的扩散粒子,粒子比较凸出,易使得薄膜在受到外力作用时,产生脱落或者刮伤。上述问题会降低膜的品质,亟待得到解决。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的摩擦易导致薄膜受到损坏、扩散粒子比较凸出在受到外力作用时易产生脱落或者刮伤等缺陷,提供了一种新的高抗刮扩散膜制造方法。
为了解决上述技术问题,本发明通过以下技术方案实现:
一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子,聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子的质量比为1:3~1:2,第一扩散粒子的粒径为5~10um,高速分散机转速为2000~3000rpm/min,经高速分散机处理10~20min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子的粒径为25~30um,高速分散机转速为2000~3000rpm/min,经高速分散机处理40~60min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为2000~3000rpm/min,经高速分散机处理5~10min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为5~10cps;
d.取一基材层,通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层上,得到第一扩散层,第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起与凹槽,接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层上得到第二扩散层,然后通过120℃的烘箱加热2~5min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层的下表面,得到抗刮层,并在120℃的烘箱中加热3~5min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在50~60℃的条件下熟化12~24h,得到一种高抗刮扩散膜。
步骤a中的聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子的质量比为1:3~1:2时,聚丙烯酸树脂可以使第一扩散粒子均匀的分布其中,同时起到快速固化的效果。步骤b中的第二扩散层涂布液中的各成分选用上述比例使第二扩散粒子可以均匀的悬浮在双组分羟基丙烯酸树脂A中,同时比例为3:1的乙酸乙酯A与乙酸丁酯A有着较快的挥发速度,可以使涂布后第二扩散层快速干燥。步骤c中的抗刮层涂布液中的各成分选用上述比例使抗粘连粒子可以均匀的悬浮在双组分羟基丙烯酸树脂B中,粘度保持在5~10cps,可以保证涂布抗刮层时膜面的液体快速流平,减少竖条道、横条道的产生。步骤d中的基材层具有良好的抗形变能力和承载能力,涂布形成的第一扩散层可以修正光线成均匀面光源以达到光学扩散的效果,减少了眩光、增大了可视角度,第一扩散层的凸起可以起到聚光的作用,提升了膜的辉度,第一扩散层的凹槽为第二扩散粒子提供了容纳空间,并增大了第二扩散粒子的回弹空间。步骤e中生成的第二扩散层能够使光线散射,使光线整体亮度更均匀,用烘箱加热,可以将乙酸乙酯A与乙酸丁酯A快速挥发,温度控制在120℃,高于乙酸乙酯A与乙酸丁酯A的沸点的同时不至于过高使已涂布的各层产生形变。步骤f中生成的抗刮层起抗刮作用,用烘箱加热可以将乙酸乙酯B与乙酸丁酯B快速挥发,温度控制在120℃,高于乙酸乙酯B与乙酸丁酯B的沸点的同时不至于过高使已涂布的各层产生形变,因为抗刮层涂布液中的乙酸乙酯B与乙酸丁酯B的比例较第二扩散层涂布液中乙酸乙酯A与乙酸丁酯A的比例有所改变,所以烘箱加热时间适当改变,保证挥发速度。步骤g中的熟化操作可将残留的溶剂挥发完全。
本发明通过设置抗刮层增加抗刮性能解决了摩擦易导致薄膜受到损坏的问题,通过设置凹槽为第二扩散粒子提供回弹空间解决了薄膜受到外力作用时易产生脱落或者刮伤的问题。
作为优选,上述所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,所述步骤e具体为:
e1.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层上,得到第二扩散层;
e2.通过第一吸附辊在第二扩散层表面形成第一圆型凸起;
e3.将e2所得产物在120℃的烘箱中加热2~5min。
设置的第一圆型凸起增加了膜的表面粗糙度,能有效增加抗刮性能,并能起到一定的聚光效果,提升亮度。
作为优选,上述所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层的下表面,得到抗刮层;
f2.通过第二吸附辊在抗刮层表面形成第二圆型凸起;
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热3~5min后冷却收卷。
抗刮层表面形成的第二圆型凸起增加了扩散膜的表面粗糙度,能有效增加抗刮性能,此层主要为防粘连层,此种结构增加光源雾化性能,使得光线均匀化。
作为优选,上述所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,所述凸起为圆型、方型中的一种。
圆型凸起能增加聚光作用,当遇到强力破坏损伤在第一扩散层被破坏的情况下,第二扩散层依旧具有回复性能,起到抗刮抗压效果。方型凸起能使得光线雾化更加均匀,并减少光线的干涉。
作为优选,上述所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,所述凹槽为圆型、方型中的一种。
圆型凹槽在上层受力时,第二扩散粒子的回弹空间增加,受力时力可以分散,更加抗压抗刮。方型凹槽起到固定第二扩散粒子的作用,使得第二扩散粒子不发生偏移,光线雾化效果更佳。
作为优选,上述所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,所述第二扩散粒子的材质为PMMA或PS。
PMMA中文名为聚甲基丙烯酸甲酯,PS中文名为聚苯乙烯,使用上述材质的第二扩散粒子,颗粒均匀,透光率与雾度效果佳,具有高抗刮性能,硬度指标高。
作为优选,上述所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,所述第一扩散粒子的材质为PBMA。
PBMA中文名为聚甲基丙烯酸丁酯,PBMA粒子具有回复性能,作为第一扩散粒子时具有缓冲的功能,起到抗压抗刮作用,并且PBMA粒子的颗粒均匀,透光率与雾度效果佳。
作为优选,上述所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,所述基材层的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
使用上述材质的基材,其具有较高的透光率与较低的光学雾度,保证了性能的优越,同时上述材料具有耐高温、便于生产等优点。
作为优选,上述所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,所述第一扩散层的折射率为1.45~1.5,所述第二扩散层的折射率为1.55~1.6。
第二扩散层的折射率高于1.5,使第二扩散层中的折射光路减少,散射损失光线降低,使高抗刮扩散膜的亮度提升。
作为优选,上述所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
选用耐冲击型聚苯乙烯作为抗粘连粒子有弹性好、扩散性能好、分散性好、不易黏连等优点。
附图说明
图1为本发明实施例1至实施例3的结构示意图;
图2为本发明实施例4至实施例6的结构示意图;
图3为本发明实施例7至实施例9的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图1-3和具体实施方式对本发明作进一步详细描述,但它们不是对本发明的限制:
实施例1
如图1所示,一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子21,聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子21的质量比为1:3,第一扩散粒子21的粒径为5um,高速分散机转速为2000rpm/min,经高速分散机处理10min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子11的粒径为25um,高速分散机转速为2000rpm/min,经高速分散机处理40min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为2000rpm/min,经高速分散机处理5min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为5cps;
d.取一基材层3,通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层3上,得到第一扩散层2,第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层2表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起22与凹槽23,接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上得到第二扩散层1,然后通过120℃的烘箱加热2min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4,并在120℃的烘箱中加热3min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在50℃的条件下熟化12h,得到一种高抗刮扩散膜。
作为优选,所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4;
f2.通过第二吸附辊在抗刮层4表面形成第二圆型凸起41;
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热3min后冷却收卷。
作为优选,所述凸起22为圆型。
作为优选,所述凹槽23为圆型。
作为优选,所述第二扩散粒子11的材质为PMMA或PS。
作为优选,所述第一扩散粒子21的材质为PBMA。
作为优选,所述基材层3的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
作为优选,所述第一扩散层2的折射率为1.45,所述第二扩散层1的折射率为1.55。
作为优选,所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
实施例2
如图1所示,一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子21,聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子21的质量比为1:2.4,第一扩散粒子21的粒径为7.5um,高速分散机转速为2500rpm/min,经高速分散机处理15min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子11的粒径为27.5um,高速分散机转速为2500rpm/min,经高速分散机处理50min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为2500rpm/min,经高速分散机处理7.5min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为7.5cps;
d.取一基材层3,通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层3上,得到第一扩散层2,第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层2表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起22与凹槽23,接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上得到第二扩散层1,然后通过120℃的烘箱加热3.5min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4,并在120℃的烘箱中加热4min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在55℃的条件下熟化18h,得到一种高抗刮扩散膜。
作为优选,所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4;
f2.通过第二吸附辊在抗刮层4表面形成第二圆型凸起41;
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热4min后冷却收卷。
作为优选,所述凸起22为圆型。
作为优选,所述凹槽23为圆型。
作为优选,所述第二扩散粒子11的材质为PMMA或PS。
作为优选,所述第一扩散粒子21的材质为PBMA。
作为优选,所述基材层3的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
作为优选,所述第一扩散层2的折射率为1.475,所述第二扩散层1的折射率为1.575。
作为优选,所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
实施例3
如图1所示,一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子21,聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子21的质量比为1:2,第一扩散粒子21的粒径为10um,高速分散机转速为3000rpm/min,经高速分散机处理20min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子11的粒径为30um,高速分散机转速为3000rpm/min,经高速分散机处理60min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为3000rpm/min,经高速分散机处理10min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为10cps;
d.取一基材层3,通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层3上,得到第一扩散层2,第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层2表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起22与凹槽23,接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上得到第二扩散层1,然后通过120℃的烘箱加热5min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4,并在120℃的烘箱中加热5min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在60℃的条件下熟化24h,得到一种高抗刮扩散膜。
作为优选,所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4;
f2.通过第二吸附辊在抗刮层4表面形成第二圆型凸起41;
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热5min后冷却收卷。
作为优选,所述凸起22为圆型。
作为优选,所述凹槽23为圆型。
作为优选,所述第二扩散粒子11的材质为PMMA或PS。
作为优选,所述第一扩散粒子21的材质为PBMA。
作为优选,所述基材层3的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
作为优选,所述第一扩散层2的折射率为1.5,所述第二扩散层1的折射率为1.6。
作为优选,所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
实施例4
如图2所示,一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子21,聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子21的质量比为1:3,第一扩散粒子21的粒径为5um,高速分散机转速为2000rpm/min,经高速分散机处理10min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子11的粒径为25um,高速分散机转速为2000rpm/min,经高速分散机处理40min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为2000rpm/min,经高速分散机处理5min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为5cps;
d.取一基材层3,通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层3上,得到第一扩散层2,第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层2表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起22与凹槽23,接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上得到第二扩散层1,然后通过120℃的烘箱加热2min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4,并在120℃的烘箱中加热3min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在50℃的条件下熟化12h,得到一种高抗刮扩散膜。
作为优选,所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4;
f2.通过第二吸附辊在抗刮层4表面形成第二圆型凸起41;
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热3min后冷却收卷。
作为优选,所述凸起22为方型。
作为优选,所述凹槽23为方型。
作为优选,所述第二扩散粒子11的材质为PMMA或PS。
作为优选,所述第一扩散粒子21的材质为PBMA。
作为优选,所述基材层3的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
作为优选,所述第一扩散层2的折射率为1.45,所述第二扩散层1的折射率为1.55。
作为优选,所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
实施例5
如图2所示,一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子21,聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子21的质量比为1:2.4,第一扩散粒子21的粒径为7.5um,高速分散机转速为2500rpm/min,经高速分散机处理15min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子11的粒径为27.5um,高速分散机转速为2500rpm/min,经高速分散机处理50min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为2500rpm/min,经高速分散机处理7.5min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为7.5cps;
d.取一基材层3,通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层3上,得到第一扩散层2,第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层2表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起22与凹槽23,接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上得到第二扩散层1,然后通过120℃的烘箱中加热3.5min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4,并在120℃的烘箱中加热4min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在55℃的条件下熟化18h,得到一种高抗刮扩散膜。
作为优选,所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4;
f2.通过第二吸附辊在抗刮层4表面形成第二圆型凸起41;
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热4min后冷却收卷。
作为优选,所述凸起22为方型。
作为优选,所述凹槽23为方型。
作为优选,所述第二扩散粒子11的材质为PMMA或PS。
作为优选,所述第一扩散粒子21的材质为PBMA。
作为优选,所述基材层3的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
作为优选,所述第一扩散层2的折射率为1.475,所述第二扩散层1的折射率为1.575。
作为优选,所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
实施例6
如图2所示,一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子21,聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子21的质量比为1:2,第一扩散粒子21的粒径为10um,高速分散机转速为3000rpm/min,经高速分散机处理20min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子11的粒径为30um,高速分散机转速为3000rpm/min,经高速分散机处理60min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为3000rpm/min,经高速分散机处理10min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为10cps;
d.取一基材层3,通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层3上,得到第一扩散层2,第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层2表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起22与凹槽23,接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上得到第二扩散层1,然后通过120℃的烘箱中加热5min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4,并在120℃的烘箱中加热5min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在60℃的条件下熟化24h,得到一种高抗刮扩散膜。
作为优选,所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4;
f2.通过第二吸附辊在抗刮层4表面形成第二圆型凸起41;
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热5min后冷却收卷。
作为优选,所述凸起22为方型。
作为优选,所述凹槽23为方型。
作为优选,所述第二扩散粒子11的材质为PMMA或PS。
作为优选,所述第一扩散粒子21的材质为PBMA。
作为优选,所述基材层3的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
作为优选,所述第一扩散层2的折射率为1.5,所述第二扩散层1的折射率为1.6。
作为优选,所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
实施例7
如图3所示,一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子21,聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子21的质量比为1:3,第一扩散粒子21的粒径为5um,高速分散机转速为2000rpm/min,经高速分散机处理10min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子11的粒径为25um,高速分散机转速为2000rpm/min,经高速分散机处理40min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为2000rpm/min,经高速分散机处理5min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为5cps;
d.取一基材层3,通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层3上,得到第一扩散层2,第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层2表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起22与凹槽23,接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上得到第二扩散层1,然后通过120℃的烘箱加热2min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4,并在120℃的烘箱中加热3min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在50℃的条件下熟化12h,得到一种高抗刮扩散膜。
作为优选,所述步骤e具体为:
e1.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上,得到第二扩散层1;
e2.通过第一吸附辊在第二扩散层1表面形成第一圆型凸起12;
e3.将e2所得产物在120℃的烘箱中加热2min。
作为优选,所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4;
f2.通过第二吸附辊在抗刮层4表面形成第二圆型凸起41;
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热3min后冷却收卷。
作为优选,所述凸起22为方型。
作为优选,所述凹槽23为方型。
作为优选,所述第二扩散粒子11的材质为PMMA或PS。
作为优选,所述第一扩散粒子21的材质为PBMA。
作为优选,所述基材层3的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
作为优选,所述第一扩散层2的折射率为1.45,所述第二扩散层1的折射率为1.55。
作为优选,所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
实施例8
如图3所示,一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子21,聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子21的质量比为1:2.4,第一扩散粒子21的粒径为7.5um,高速分散机转速为2500rpm/min,经高速分散机处理15min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子11的粒径为27.5um,高速分散机转速为2500rpm/min,经高速分散机处理50min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为2500rpm/min,经高速分散机处理7.5min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为7.5cps;
d.取一基材层3,通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层3上,得到第一扩散层2,第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层2表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起22与凹槽23,接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上得到第二扩散层1,然后通过120℃的烘箱加热3.5min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4,并在120℃的烘箱中加热4min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在55℃的条件下熟化18h,得到一种高抗刮扩散膜。
作为优选,所述步骤e具体为:
e1.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上,得到第二扩散层1;
e2.通过第一吸附辊在第二扩散层1表面形成第一圆型凸起12;
e3.将e2所得产物在120℃的烘箱中加热3.5min。
作为优选,所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4;
f2.通过第二吸附辊在抗刮层4表面形成第二圆型凸起41;
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热4min后冷却收卷。
作为优选,所述凸起22为方型。
作为优选,所述凹槽23为方型。
作为优选,所述第二扩散粒子11的材质为PMMA或PS。
作为优选,所述第一扩散粒子21的材质为PBMA。
作为优选,所述基材层3的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
作为优选,所述第一扩散层2的折射率为1.475,所述第二扩散层1的折射率为1.575。
作为优选,所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
实施例9
如图3所示,一种高抗刮扩散膜制造方法,包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子21,聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子21的质量比为1:2,第一扩散粒子21的粒径为10um,高速分散机转速为3000rpm/min,经高速分散机处理20min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子11、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子11的粒径为30um,高速分散机转速为3000rpm/min,经高速分散机处理60min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为3000rpm/min,经高速分散机处理10min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为10cps;
d.取一基材层3,通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层3上,得到第一扩散层2,第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层2表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起22与凹槽23,接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上得到第二扩散层1,然后通过120℃的烘箱加热5min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4,并在120℃的烘箱中加热5min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在60℃的条件下熟化24h,得到一种高抗刮扩散膜。
作为优选,所述步骤e具体为:
e1.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层2上,得到第二扩散层1;
e2.通过第一吸附辊在第二扩散层1表面形成第一圆型凸起12;
e3.将e2所得产物在120℃的烘箱中加热5min。
作为优选,所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层3的下表面,得到抗刮层4;
f2.通过第二吸附辊在抗刮层4表面形成第二圆型凸起41;
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热5min后冷却收卷。
作为优选,所述凸起22为方型。
作为优选,所述凹槽23为方型。
作为优选,所述第二扩散粒子11的材质为PMMA或PS。
作为优选,所述第一扩散粒子21的材质为PBMA。
作为优选,所述基材层3的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
作为优选,所述第一扩散层2的折射率为1.5,所述第二扩散层1的折射率为1.6。
作为优选,所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
总之,以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明申请专利的范围所作的均等变化与修饰,皆应属本发明的涵盖范围。
Claims (10)
1.一种高抗刮扩散膜制造方法,其特征在于:包括以下步骤:
a.通过高速分散机向聚丙烯酸树脂中加入第一扩散粒子(21),聚丙烯酸树脂与第一扩散粒子(21)的质量比为1:3~1:2,第一扩散粒子(21)的粒径为5~10um,高速分散机转速为2000~3000rpm/min,经高速分散机处理10~20min后得到第一扩散层涂布液;
b.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂A中加入第二扩散粒子(11)、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A,双组分羟基丙烯酸树脂A、第二扩散粒子(11)、乙酸乙酯A、乙酸丁酯A的质量比为1:2:3:1,第二扩散粒子(11)的粒径为25~30um,高速分散机转速为2000~3000rpm/min,经高速分散机处理40~60min后得到第二扩散层涂布液;
c.通过高速分散机向双组分羟基丙烯酸树脂B中加入抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B,双组分羟基丙烯酸树脂B、抗粘连粒子、乙酸乙酯B、乙酸丁酯B的质量比为1:0.1:2:1,高速分散机转速为2000~3000rpm/min,经高速分散机处理5~10min后得到抗刮层涂布液,所述抗刮层涂布液的粘度为5~10cps;
d.取一基材层(3),通过第一涂布辊将步骤a所得的第一扩散层涂布液涂布在基材层(3)上,得到第一扩散层(2),第一涂布辊设有凹凸不平的花纹,第一扩散层(2)表面通过所述凹凸不平的花纹形成凸起(22)与凹槽(23),接着将得到的产物进行UV固化;
e.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层(2)上得到第二扩散层(1),然后通过120℃的烘箱加热2~5min;
f.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层(3)的下表面,得到抗刮层(4),并在120℃的烘箱中加热3~5min后冷却收卷;
g.将步骤f的产物在50~60℃的条件下熟化12~24h,得到一种高抗刮扩散膜。
2.根据权利要求1所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,其特征在于:所述步骤e具体为:
e1.通过第二涂布辊将步骤b所得的第二扩散层涂布液涂布在第一扩散层(2)上,得到第二扩散层(1);
e2.通过第一吸附辊在第二扩散层(1)表面形成第一圆型凸起(12);
e3.将e2所得产物在120℃的烘箱中加热2~5min。
3.根据权利要求1所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,其特征在于:所述步骤f具体为:
f1.将步骤c所得的抗刮层涂布液涂布在基材层(3)的下表面,得到抗刮层(4);
f2.通过第二吸附辊在抗刮层(4)表面形成第二圆型凸起(41);
f3.将f2所得产物在120℃的烘箱中加热3~5min后冷却收卷。
4.根据权利要求1所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,其特征在于:所述凸起(22)为圆型、方型中的一种。
5.根据权利要求1所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,其特征在于:所述凹槽(23)为圆型、方型中的一种。
6.根据权利要求1所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,其特征在于:所述第二扩散粒子(11)的材质为PMMA或PS。
7.根据权利要求1所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,其特征在于:所述第一扩散粒子(21)的材质为PBMA。
8.根据权利要求1所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,其特征在于:所述基材层(3)的材质为聚碳酸酯或聚对苯二甲酸二乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
9.根据权利要求1所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,其特征在于:所述第一扩散层(2)的折射率为1.45~1.5,所述第二扩散层(1)的折射率为1.55~1.6。
10.根据权利要求1所述的一种高抗刮扩散膜制造方法,其特征在于:所述抗粘连粒子的材质为耐冲击型聚苯乙烯。
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