CN111573684A - 一种二维硅酸铁、硅酸钴纳米片的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种二维硅酸铁、硅酸钴纳米片的制备方法,包括以氨水、硫酸亚铁或硫酸钴、正硅酸乙脂为原料,室温下制备得到硅酸铁或硅酸钴纳米片的步骤。本发明的硅酸铁、硅酸钴纳米片的制备方法,反应温度低,工艺简单,生产效率高,适于大量生产。制备的二维硅酸铁、硅酸钴纳米片材料,其纯度高,稳定性高。在能源、生命、环境等领域具有广泛的应用前景。
Description
技术领域
本发明提供一种二维硅酸铁、硅酸钴纳米片的制备方法,属于无机材料制备技术领域。
背景技术
二维纳米片材料具有机械柔韧性高、比表面积大、活性位点丰富等独特的物化性质,已广泛应用于药物输运、成像、生物传感、能量存储与转换等诸多领域。但是目前二维纳米片材料的制备大多采用自上而下的剥离方法,工艺复杂,周期长,产量低。如何以低成本、简单工艺大量制备二维纳米片材料是目前面临的一个挑战。
金属硅酸盐材料在自然界中储量丰富,环境友好,工业化应用广泛。例如硅酸铁作为吸附剂从废水中选择性吸附染料分子;硅酸钴作为催化剂用于降解有机分子污染物等。但是目前制备的硅酸铁、硅酸钴材料多是颗粒或聚集形态,活性位点少,性能较低,极大地限制了其应用和推广。
现有技术中还未有关于二维硅酸铁、硅酸钴纳米片制备的报道。为了利用二维纳米片材料的独特性能,本发明提供了一种高效制备二维硅酸铁、硅酸钴纳米片的方法,对于二维硅酸盐材料的进一步应用具有重要的意义。
发明内容
本发明的目的是提供一种二维硅酸铁、硅酸钴纳米片的制备方法,为实现上述目的,本发明所采用的技术方案步骤如下:
一种二维硅酸铁、硅酸钴纳米片的制备方法,其特征在于,包含以氨水、硫酸亚铁或硫酸钴、正硅酸乙脂为原料,室温下,向去离子水中加入质量浓度为28%的氨水,随后将硫酸亚铁或硫酸钴、正硅酸乙脂依次加入氨水溶液中,在搅拌作用下,保持4小时,离心、洗涤产物,烘干,即得硅酸铁或硅酸钴纳米片粉体。
所述的二维硅酸铁、硅酸钴纳米片的制备方法,其特征在于,氢氧化铵、硫酸亚铁或硫酸钴、正硅酸乙脂的摩尔比为0.05:2:0.002-0.008。
本发明的有益效果:
(1)本发明的二维硅酸铁、硅酸钴纳米片的制备方法,工艺简单,反应温度低,生产效率高;
(2)本发明制备的二维硅酸铁、硅酸钴纳米片材料,纯度高。
附图说明
图1是实施例1制得的二维硅酸铁纳米片的透射电子显微镜照片;
图2是实施例1制得的二维硅酸铁纳米片的元素分布图;
图3是实施例1制得的二维硅酸钴纳米片的透射电子显微镜照片;
图4是实施例1制得的二维硅酸钴纳米片的元素分布图。
具体实施方式
结合实施例对本发明作进一步说明,应该说明得是,下述说明仅是为了解释本发明,并不对其内容进行限定。
实施例1
一种二维硅酸铁纳米片,其制备方法包括如下步骤:
取6mL质量浓度为28%的氨水加入到160mL去离子水中,在搅拌作用下,将150mg硫酸亚铁和400mL正硅酸乙脂分别缓慢加入到上述氨水溶液中,混合均匀,室温下持续搅拌4小时,离心,用去离子水清洗3次,在60℃烘干,获得棕黄色粉末。从透射电子显微镜照片可以看出(如图1所示),产物为二维纳米片。从元素分布图可以看出(如图2所示),硅、氧、铁元素均匀分布在二维纳米片结构中。
一种二维硅酸钴纳米片,其制备方法包括如下步骤:
取6mL质量浓度为28%的氨水加入到160mL去离子水中,在搅拌作用下,将152mg硫酸钴和400mL正硅酸乙脂分别缓慢加入到上述氨水溶液中,混合均匀,室温下持续搅拌4小时,离心,用去离子水清洗3次,在60℃烘干,获得淡黄色粉末。从透射电子显微镜照片可以看出(如图3所示),产物为二维纳米片。从元素分布图可以看出(如图4所示),硅、氧、钴元素均匀分布在二维纳米片结构中。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明方法的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (2)
1.一种二维硅酸铁、硅酸钴纳米片的制备方法,其特征在于,包含以氨水、硫酸亚铁或硫酸钴、正硅酸乙脂为原料,室温下,向去离子水中加入质量浓度为28%的氨水,随后将硫酸亚铁或硫酸钴、正硅酸乙脂依次加入氨水溶液中,在搅拌作用下,保持4小时,离心、洗涤产物,烘干,即得硅酸铁或硅酸钴纳米片粉体。
2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,氢氧化铵、硫酸亚铁或硫酸钴、正硅酸乙脂的摩尔比为0.05:2:0.002-0.008。
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