CN111566829B - 保护盖、其用途和制造保护盖的方法 - Google Patents
保护盖、其用途和制造保护盖的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111566829B CN111566829B CN201880085543.4A CN201880085543A CN111566829B CN 111566829 B CN111566829 B CN 111566829B CN 201880085543 A CN201880085543 A CN 201880085543A CN 111566829 B CN111566829 B CN 111566829B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- inorganic material
- layer
- protective cover
- glass
- material layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title claims abstract description 228
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 688
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 333
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 116
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 101
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 404
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 404
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 179
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 95
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 47
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 37
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 35
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 34
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 34
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 29
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 29
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 28
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 27
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 24
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 18
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000002386 leaching Methods 0.000 claims description 16
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 14
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 14
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 13
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 13
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 13
- 241000282326 Felis catus Species 0.000 claims description 12
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 12
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 12
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 10
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 10
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 10
- 230000004083 survival effect Effects 0.000 claims description 10
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 claims description 8
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 8
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 claims description 7
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 claims description 6
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 claims description 6
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 6
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 6
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 claims description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 5
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 5
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 5
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 claims description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 4
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 claims description 4
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 claims description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 4
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 3
- 239000005358 alkali aluminosilicate glass Substances 0.000 claims description 3
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 3
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 claims description 3
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004713 Cyclic olefin copolymer Substances 0.000 claims description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 claims description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims description 2
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 claims description 2
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 2
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 claims description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 3
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 claims 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229920005644 polyethylene terephthalate glycol copolymer Polymers 0.000 claims 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 57
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 45
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 34
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 28
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 22
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 18
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 17
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 16
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 15
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 13
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 13
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 8
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 8
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 8
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 7
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 7
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 5
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 5
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 5
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 5
- 239000013047 polymeric layer Substances 0.000 description 5
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 3
- 239000003570 air Substances 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 3
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 238000013077 scoring method Methods 0.000 description 3
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 3
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 3
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 3
- 238000002042 time-of-flight secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 244000137852 Petrea volubilis Species 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002998 adhesive polymer Substances 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000002529 flux (metallurgy) Substances 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 2
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007499 fusion processing Methods 0.000 description 2
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical class C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 2
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 2
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005011 time of flight secondary ion mass spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 2
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006018 Li-aluminosilicate Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJVVFBFDXDTEG-UHFFFAOYSA-N Norphytane Natural products CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C XOJVVFBFDXDTEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- DLHONNLASJQAHX-UHFFFAOYSA-N aluminum;potassium;oxygen(2-);silicon(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] DLHONNLASJQAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 1
- 239000004599 antimicrobial Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000002354 daily effect Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006334 epoxy coating Polymers 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 208000014674 injury Diseases 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910000734 martensite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 201000007909 oculocutaneous albinism Diseases 0.000 description 1
- 229910052652 orthoclase Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 1
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- FSLGCYNKXXIWGJ-UHFFFAOYSA-N silicon(1+) Chemical compound [Si+] FSLGCYNKXXIWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- 229910052853 topaz Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011031 topaz Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 229940006486 zinc cation Drugs 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B19/00—Layered products comprising a layer of natural mineral fibres or particles, e.g. asbestos, mica
- B32B19/04—Layered products comprising a layer of natural mineral fibres or particles, e.g. asbestos, mica next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B19/00—Layered products comprising a layer of natural mineral fibres or particles, e.g. asbestos, mica
- B32B19/04—Layered products comprising a layer of natural mineral fibres or particles, e.g. asbestos, mica next to another layer of the same or of a different material
- B32B19/041—Layered products comprising a layer of natural mineral fibres or particles, e.g. asbestos, mica next to another layer of the same or of a different material of metal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B19/00—Layered products comprising a layer of natural mineral fibres or particles, e.g. asbestos, mica
- B32B19/04—Layered products comprising a layer of natural mineral fibres or particles, e.g. asbestos, mica next to another layer of the same or of a different material
- B32B19/045—Layered products comprising a layer of natural mineral fibres or particles, e.g. asbestos, mica next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/281—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/283—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysiloxanes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/285—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyethers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/286—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysulphones; polysulfides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
- B32B27/302—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising aromatic vinyl (co)polymers, e.g. styrenic (co)polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
- B32B27/304—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl halide (co)polymers, e.g. PVC, PVDC, PVF, PVDF
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
- B32B27/306—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl acetate or vinyl alcohol (co)polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
- B32B27/308—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising acrylic (co)polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
- B32B27/325—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising polycycloolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
- B32B27/327—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising polyolefins obtained by a metallocene or single-site catalyst
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/34—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
- B32B27/365—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters comprising polycarbonates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/40—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyurethanes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form
- B32B3/02—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions
- B32B3/04—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions characterised by at least one layer folded at the edge, e.g. over another layer ; characterised by at least one layer enveloping or enclosing a material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form
- B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
- B32B3/30—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by a layer formed with recesses or projections, e.g. hollows, grooves, protuberances, ribs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/06—Interconnection of layers permitting easy separation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/005—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B9/041—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B9/045—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3405—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of organic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/841—Self-supporting sealing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/20—Inorganic coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2270/00—Resin or rubber layer containing a blend of at least two different polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/30—Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/412—Transparent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/418—Refractive
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/536—Hardness
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/538—Roughness
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/54—Yield strength; Tensile strength
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/546—Flexural strength; Flexion stiffness
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/584—Scratch resistance
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/714—Inert, i.e. inert to chemical degradation, corrosion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/714—Inert, i.e. inert to chemical degradation, corrosion
- B32B2307/7145—Rot proof, resistant to bacteria, mildew, mould, fungi
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/728—Hydrophilic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/732—Dimensional properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/748—Releasability
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2571/00—Protective equipment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/311—Flexible OLED
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Abstract
本发明涉及一种保护盖，该保护盖包括至少一个透明无机层和至少一个透明粘合剂层。透明无机层可以包括玻璃或玻璃陶瓷。在优选实施例中，无机层由玻璃或玻璃陶瓷组成。在实施例中，保护盖还包括设置在无机层和粘合剂层之间的聚合物层。
Description
技术领域
本申请涉及保护盖、制造该保护盖的方法以及使用该保护盖的方法。本发明的保护盖可以布置在电子设备的显示屏上，或者该保护盖可以是显示屏的组成部分，或者该保护盖本身可以构成电子设备的显示屏。电子设备可以是具有LCD或OLED显示屏的设备。该电子设备可以是智能电话、平板电脑、笔记本电脑、智能手环或任何其他手持式和/或便携式电子设备。
背景技术
例如用于移动设备的新一代电子显示屏将是可折叠的或可卷曲的。这些显示屏的表面将由诸如PI(聚酰亚胺)或超薄玻璃之类的薄聚合物制成。这些设备还需要能够在典型的产品使用寿命范围内被折叠或卷曲例如超过100,000次而不会造成任何损坏。耐刮擦性和耐破碎性对于设备至关重要。耐冲击性(例如，落笔或其他尖锐的冲击)也很关键，并且不应导致显示屏或触摸传感器的表面或电子功能的损坏。
市场上对弯曲、可弯曲的和可折叠的电子设备(例如，智能电话和平板电脑)或其他具有显示屏的电子设备的需求不断增长。例如在US2017/0294495A1中描述了这样的设备，其通过引用整体并入本文。许多制造商使用聚合物显示屏覆盖材料，例如聚酰亚胺、PET或其他聚酯、聚碳酸酯、丙烯酸聚合物或其他聚合物。当以足够小的厚度使用时，聚合物显示屏覆盖材料具有固有弹性的、可弯曲的甚至可折叠的优点。另一方面，这些材料不太耐划痕、光辐射、清洁剂、温度和整体磨损。
有许多无机材料耐刮擦和辐射，并且容易经受使用清洁剂。然而，这些材料中的大多数可用作弯曲表面的盖，但不能用于可弯曲的甚至可折叠的设备。此外，许多这些材料非常脆。特别是，玻璃已经用作显示屏的覆盖材料很多年了。
期望移动电话制造商在不远的将来会提供真正可折叠的移动电话，例如电话的显示屏几乎完全覆盖电话的一侧并且是可折叠的，并且其弯曲轴线可以垂直于显示屏的纵向轴线取向，将显示屏分成基本相等的部分。换句话说，这样的电子设备像书一样打开和关闭。
诸如WO2017/123899 A1的现有技术公开内容依赖于可折叠的盖组件，该可折叠的盖组件包括可折叠的玻璃层和聚合物层作为外层，即，背向电子设备的表面被聚合物层覆盖，以使得盖组件能够承受落笔。诸如WO2017/136507 A1的其他公开内容依赖于在盖玻璃的外表面上具有凹痕的玻璃外层。
具有保护盖将是有用的，该保护盖使显示屏具有耐无机材料性的有益特性，同时保持显示设备的可弯曲或甚至可折叠的特性，并且不会显著损害设备的任何触摸屏功能，该设备可以是例如电容性触摸传感器组件、电阻性触摸传感器组件、声学触摸传感器组件、基于力的触摸传感器组件或基于光的触摸传感器组件。
发明内容
本发明涉及一种保护盖，其通过提供一种具有无机材料层作为其外表面的物品而克服了现有技术的缺点。本发明的保护盖包括至少一个透明的无机材料层和至少一个透明的粘合剂层。保护盖的厚度可以小于500μm、小于250μm或小于150μm。
无机材料层可用于覆盖可弯曲和/或可折叠的电子设备的显示屏、可作为可弯曲和/或可折叠的电子设备的显示屏的组成部分、或可用于构成可弯曲/可折叠的电子设备的显示屏。本发明人已经确定了多种措施，这些措施使得无机材料足够坚固以承受在其保护的电子设备的使用过程中施加在保护盖上的应变和应力。为了解决上述现有技术的问题，可以将可移除的可弯曲的玻璃状保护膜(保护盖)施加到设备的表面上，或者作为设备的表面的组成部分，或者构成设备的表面。玻璃膜能够满足设备的折叠要求，并保护原始表面免受冲击和刮擦。
在一个实施例中，本发明的保护盖可以被认为是一种玻璃膜，该玻璃膜以非永久性(可移除)的方式利用粘合剂层粘结到设备的原始聚合物或玻璃表面上。粘合剂层可以由单层或多层粘合剂(例如，有机硅、PSA等)组成。因此，在实施例中，粘合剂层可以形成保护盖的外层之一。
保护盖的可能的弯曲半径可以小于50mm、小于20mm、小于15mm、小于10mm或小于7mm。
粘合剂层和/或任选的另外的聚合物层也可以用于碎片保护。破碎时，玻璃碎片基本上不应从保护盖的表面释放出，而应粘在该表面上，以免对设备使用者的任何伤害或对设备周围的任何其他人员或材料的伤害，例如设备的任何其他部件。在实施例中，在表面破碎或外观缺陷的情况下，保护盖可以被移除并由新的盖代替。
聚合物盖具有高划痕和化学品敏感性的缺点。对于消费者来说，聚合物的触觉体验也比玻璃表面差。
粘合剂层应支持容易且无气泡地施加到保护盖上，并且在需要更换膜的情况下支持容易地移除。
透明的无机材料层可以包括玻璃或玻璃陶瓷。在优选实施例中，无机材料层由玻璃或玻璃陶瓷组成。在实施例中，保护盖还包括设置在无机材料层和粘合剂层之间的聚合物层。
在优选实施例中，无机材料层是外层，即，无机材料层与周围的大气(例如空气)接触。另一方面，可以确定粘合剂层提供了保护盖与电子设备的显示屏(例如聚酰亚胺显示屏)的适当粘附，或者其可以提供无机材料层与保护盖的任何其他层(例如另外的无机材料层)的粘附。可以选择粘合剂层的尺寸和类型，以提供良好的粘附强度，而且还提供了再次从受保护的显示屏上移除的能力，例如通过剥除保护盖。
聚合物层可以布置在无机材料层和粘合剂层之间。聚合物层可以提高保护盖的机械稳定性。通过将破碎的无机材料层的颗粒保持在一起来固定这些颗粒，聚合物层也可以为保护盖的使用者提供安全性。在无机材料破碎的情况下，聚合物层还可以通过将无机材料的颗粒保持固定于聚合物层来保护显示屏。
保护盖可以是可向内折叠的和/或可向外折叠的，即，保护盖可被折叠成使得无机层在折叠的保护盖的内部或折叠的保护盖的外部。
无机材料层的无机材料可以被增韧或不增韧、化学增韧或不化学增韧或部分增韧。
以下是本发明的一些说明性和优选的实施例，其中，从左到右的字符序列示出了在被保护的设备的方向上，保护盖中从上到下的层的序列。“l1”表示至少一个无机材料层，“A”表示粘合剂层，“P”表示聚合物层，并且“l2”表示第二无机材料层。说明性实施例A至G可以包括示出的层，或者它们可以由这些层组成。
| 类型 | 第一层 | 第二层 | 第三层 | 第四层 |
| A | l1 | A | ||
| B | l1 | P | A | |
| C | l1 | P | A | l2 |
| D | l1 | P | l2 | |
| E | l1 | A | l2 | |
| F | l1 | P | l2 | A |
| G | l1 | A | l2 | A |
| H | l1 | A | P | A |
在实施例中，第一无机材料层、粘合剂层、聚合物层和/或任何其他无机材料或保护盖的所有层都是透明的。任何层之间的折射率nd之差可以被限制为0.3或0.1。保护盖的上述层顺序中的不同层可以彼此相邻，和/或彼此直接接触，即，在它们之间没有任何另外的层。在实施例中，至少一个、一些或所有层是共同延伸的，即具有相同的宽度和长度，使得每一层基本上完全覆盖其相邻层。当使用时，第一无机材料层l1是外层，即背向电子设备和/或面向其使用者。在实施例中，可以使用一个以上的粘合剂层，例如，可以在聚合物层的每一侧上使用粘合剂层，以将聚合物层附接到显示屏和/或附接到诸如无机材料层的相邻的层。聚合物层可以是聚乙烯层。
厚度(t或d)：厚度(例如层的厚度)是要测量的层的厚度的算术平均值。
压应力(CS)：在玻璃的表面层上进行离子交换后，产生玻璃网络的诱导的压缩。这种压缩不会因玻璃的变形而释放，并保持为应力。CS从玻璃物品的表面处的最大值(表面CS)向玻璃物品的内部减小。可以使用诸如FSM6000(“Luceo有限公司”，日本/东京)之类的市售测试机通过波导机构或通过SLP1000(“ORIHARA”公司，日本)来测量CS，它们通过散射光机制来测量CS。
层的深度(DoL)：离子交换层的厚度，即存在CS的区域。可以使用市售的测试机例如FSM6000(“Luceo有限公司”，日本/东京)，通过波导机构来测量DoL。
中心张力(CT)：当在玻璃板的一侧或两侧诱导CS时，根据牛顿定律的第三原理来为了平衡应力，必须在玻璃的中心区域中诱导张应力，称为中心张力。可以通过测量的CS和DoL来计算CT。
平均粗糙度(Ra)：表面纹理的度量。它是通过实际表面与其理想形式的垂直偏差来量化的。通常，振幅参数基于粗糙轮廓与平均线的垂直偏差来表征表面。Ra是这些垂直偏差的绝对值的算术平均值。
破碎力：破碎力是在物品破碎(即：产生裂纹)之前物体可以施加的力(单位为N)。破碎力由钢棒砂纸压制测试(steel rod sandpaper pressing test)来确定，该测试在下面更详细地描述。
破碎高度：破碎高度是指在物品或层破碎(即：产生裂纹)之前，具有一定重量的物体可以从该高度落到该物品或层上的高度(单位为mm)。破碎高度通过砂纸落球测试确定，这将在下面更详细地描述。
破碎弯曲半径(BBR)：破碎弯曲半径(单位为mm)是指物品(例如层)在扭结或损坏或破坏之前达到最大偏转的弯曲位置处的弧的最小半径(r)。它是在物品弯曲位置的内曲率处测量的。较小的半径意味着物品的更大的柔性和偏转。弯曲半径是取决于物品的厚度、杨氏模量和材料强度的参数。例如，超薄玻璃或玻璃陶瓷的厚度可能很小，杨氏模量低而强度高。所有这三个因素都有助于降低弯曲半径和提高柔性。用于确定BBR的测试将在下面详细介绍。透明：如果在波长为400nm和/或700nm或在380至800nm的光谱范围内的50nm波长范围中，在2mm的厚度下，电磁辐射的内部透射率大于25％、大于50％、大于70％、大于80％、大于90％、大于95％、大于99％，则物质、成分、物品或层被视为透明的。
在实施例中，本发明包括保护盖，其中无机材料层与粘合剂层和/或聚合物层和/或另外的无机材料层的折射率nd之差小于0.3、优选小于0.2或小于0.1。限制折射率之差，可以减少保护盖在显示屏上使用时的反射损失，从而降低功耗，延长移动设备的电池寿命。
在实施例中，无机材料层的热膨胀系数(CTE)(20至300℃)为1至20ppm/K，特别是小于18ppm/K，小于16ppm/K或小于14ppm/K。在实施例中，聚合物层的热膨胀系数(20至300℃)为至少1ppm/K，优选为4至30ppm/K。优选地，相邻层之间(例如无机材料层与聚合物层之间、和/或无机材料层与粘合剂层之间、和/或粘合剂层与另外的无机材料层之间、和/或聚合物层与另外的无机材料层之间)的CTE之差较低，特别是小于40ppm/K、小于30ppm/K、小于25ppm/K或甚至小于20ppm/K。相近的CTE可以防止上述层分层并延长产品寿命。
本发明的保护盖在破碎后可表现出小于无机材料的10％或小于5％或小于2％或小于1％的重量损失。通过比较破碎的保护盖和未破碎的保护盖的重量差来定义的重量损失可以通过精度为0.01g的精密天平进行测量。破碎后的粒度在0.01-10mm、优选小于5mm、小于3mm、小于2mm、小于1mm或小于0.5mm的范围内。可以使用显微镜测量粒度。该直径可以是马丁直径。
本发明的保护盖优选是可弯曲的和/或可折叠的。它可以具有弯曲轴线，该弯曲轴线可以垂直于无机材料层和/或保护盖的纵向轴线布置。弯曲轴线可以基本上垂直于纵向轴线，或者基本上平行于纵向轴线，这取决于保护盖被认为是如何被弯曲或折叠的。弯曲轴线在无机材料层的表面延伸，在弯曲过程中拉应力达到峰值。本发明的保护盖优选是可弯曲的和/或可折叠的，并且具有可垂直于无机材料层的纵向轴线布置的弯曲轴线，其中保护盖承受至少100,000次弯曲和/或折叠事件而不会破碎。本发明的保护盖优选是可弯曲的和/或可折叠的，并且具有可垂直于无机材料层的纵向轴线布置的弯曲轴线，其中该保护盖承受至少200,000次弯曲和/或折叠事件而不会破碎。弯曲和/或折叠事件可以通过将保护盖从未弯曲状态弯曲和/或折叠到弯曲状态然后再返回到未弯曲状态来实现，弯曲半径为50mm或更小、或20mm或更小、或10mm或更小、或5mm或更小、或2mm或更小。弯曲半径可以为至少1mm。
在优选实施例中，盖被布置在电子设备的显示屏上，或者形成这种显示屏的组成部分，或者构成显示屏。可以通过简单地将盖放在显示屏上并用手指弄平盖来实现将盖布置在显示屏上。
本发明还涉及一种使用保护盖来保护显示屏的方法，显示屏例如是工业显示屏或消费品显示屏、特别是智能电话显示屏、特别是聚合物智能电话显示屏、特别是聚酰亚胺显示屏、特别是可折叠显示屏、特别是OLED显示屏，该方法包括将保护盖施加到显示屏上的步骤。
在优选实施例中，粘合剂层、聚合物层和/或保护盖的任何其他层都可以补偿在被弯曲或折叠时无机材料层的恢复力。在优选实施例中，粘合剂层不受拉应力。
无机材料层
关于无机材料层描述的以下特征可以表征保护盖的所述至少一个无机材料层和/或任何另外的无机材料层。
无机材料层可以是玻璃层、玻璃陶瓷层、陶瓷层或晶体层。在优选实施例中，无机材料层是玻璃层或玻璃陶瓷层。无机材料层可被另外地涂覆以实现例如防反射、防刮擦、防指纹、防微生物、防眩光以及这些功能的组合；这样的涂层可以布置在背向要保护的显示屏的一侧上，即，背离粘合剂层的一侧。该保护盖可以包括一个以上的无机材料层。无机材料层可具有表面氮化以提高其表面电阻。
无机材料层的厚度可以小于700μm、小于500μm、小于300μm、小于250μm、小于200μm、小于150μm、小于100μm、小于75μm、小于70μm、小于50μm、小于30μm或小于15μm。玻璃越厚，其机械稳定性越高。玻璃越薄，其弯曲和折叠的能力就越高。
无机材料层可以具有从400至800MPa的维氏硬度HV0.2/25。增韧的无机层可以具有从450至1000MPa的维氏硬度HV0.2/25。未增韧的无机层的努氏硬度HK0.1/20可为从350至750MPa。增韧的无机层的努氏硬度HK0.1/20可为从400至800MPa。
在某些实施例中，可以是玻璃或玻璃陶瓷层的无机材料层可以具有小于0.2mm、小于0.175mm、小于0.145mm、小于0.1mm、小于0.1mm、小于0.07mm、或者甚至小于0.05mm的厚度。
落笔高度
在某些实施例中，特别是对于至少0.07mm的厚度，无机材料层具有大于6H的耐刮擦性和/或大于30mm的落笔高度。笔的重量约为5g，笔的尖端由半径为150μm的碳化钨制成。在某些实施例中，在未弯曲状态下无机材料层表现出至少50mm、至少60mm、至少70mm、至少80mm、至少90mm、至少100mm、或至少120mm或至少150mm的落笔高度。在无机材料未弯曲时，优选将无机材料、特别是保护盖中的无机材料的落笔高度设为大于40mm。
当无机材料的弯曲半径大于6mm时，特别是当无机材料的弯曲半径为最高10mm或最高8mm时，无机材料、特别是保护盖中的无机材料的落笔高度可以为至少20mm。当无机材料的弯曲半径大于4mm时，特别是当无机材料的弯曲半径为最高8mm或最高6mm时，落笔高度优选为至少15mm。当无机材料的弯曲半径大于2mm时，特别是当无机材料的弯曲半径为最高6mm或最高4mm时，落笔高度优选大于10mm。
期望的是，当无机材料的弯曲半径大于4mm时，特别是当无机材料的弯曲半径为最高8mm或最高6mm时，保护盖在弯曲状态下的落笔高度与在未弯曲状态下的落笔高度之比不小于30％、不小于25％或不小于20％。落笔测试的测量结果如图5和6所示。
在优选实施例中，保护盖可折叠至少100,000次、特别是至少200,000次而不会破碎。这可以适用于20mm或更小的弯曲半径。此外，它可以适用于可向内折叠和/或可向外折叠的显示屏和/或保护盖。
无机材料可以是包含碱金属氧化物的玻璃，从而可以对其进行化学增韧。对于增韧玻璃的无机材料，CS(压应力)可以在200至2000MPa的范围内，和/或DoL(层深度)可以在2μm＜DoL＜无机材料层的厚度的一半的范围内。
弯曲强度
可以使用2PB方法测量弯曲强度，并且无机材料层和/或保护盖的平均弯曲强度可以大于850MPa、优选地大于900MPa、仍更优选地大于950MPa、仍更优选超过1000MPa。通过弯曲半径来测量可折叠性，该弯曲半径可以小于20mm、小于10mm、小于7mm、小于5mm、或甚至小于4mm。在实施例中，弯曲半径可以是至少1mm、或至少2mm、或至少3mm。
无机材料的硬度可以如下：HV0.2/25＞400MPa和/或HK0.1/20＞350MPa。增韧后的值可以是HV0.2/25＞450MPa和/或HK0.1/20＞400MPa。以表面氮化增韧后的值可以是HV0.2/25＞500MPa和/或HK0.1/20＞450MPa。
杨氏模量可以大于50GPa、大于55GPa或大于60GPa。杨氏模量可以小于110GPa、小于105GPa或小于100GPa。
在优选实施例中，无机材料的透光率在400nm下大于85％和/或在700nm下大于88％。
碱浸出因子
本发明的无机材料可以具有至多20μmol/dm2、至多10μmol/dm2、至多5μmol/dm2、或甚至至多3μmol/dm2的碱浸出因子。为了确定碱浸出因子，首先将材料样品在80℃的去离子水中洗涤8分钟，然后在室温下用去离子水冲洗。然后，将样品在80℃的50毫升去离子水中浸泡(incubate)24小时。之后，通过感应耦合等离子体光学发射光谱法(ICP-OES)确定水中的碱金属离子的量。碱浸出因子被定义为水中碱金属离子的量(以μmol计)与材料样品的每表面积(以dm2计)的比值。
酸浸出因子
如果无机材料具有高的耐酸性也是有利的。因此，在进行化学增韧之前、之后和/或未进行化学增韧的情况下，材料的酸浸出因子可以为至多20μmol/dm2、至多10μmol/dm2、至多5μmol/dm2、或至多3μmol/dm2。
为了确定酸浸出因子，首先将材料样品在80℃的去离子水中洗涤8分钟，然后在室温下用去离子水冲洗。然后，将样品在100毫升浓度为0.01mol/l的硝酸中于100℃浸泡1小时。之后，通过感应耦合等离子体光学发射光谱法(ICP-OES)确定酸溶液中碱金属离子的量。酸浸出因子被定义为酸溶液中碱金属离子的量(以μmol计)与材料样品的每表面积(以dm2计)的比值。
无机材料层可以是厚度(t)小于0.4mm的化学增韧的玻璃层，其具有第一表面和第二表面以及从第一表面延伸到玻璃层中的第一深度(DoL)的压应力区域，该区域由压应力(CS)限定，其中在第一表面处的表面CS至少为100MPa。第一表面和第二表面位于玻璃层的相对侧。
破碎高度
无机材料层的破碎高度(以mm为单位)可以至少是该层的厚度(t以mm为单位)乘以50或60或70或80的数字。以砂纸落球测试来确定破碎高度。在该测试中，将该层的第二表面放置在钢板上，并对该层的第一表面施加载荷，直到其被从上面落下的4.5g丙烯酸球破坏为止，其中将P180型砂纸放置在该层的第一表面上，其中砂纸的磨料面与第一表面接触。下降的高度增加，直到层破碎。层未破碎的最后高度被认为是破碎高度。
在上述砂纸落球测试中，该层的破碎高度(以N为单位)可以≥50*t(t是以“mm”为单位的层的各个厚度的数字)。
令人惊讶地，发明人发现，层的破碎高度标准可以由提及的因子50和层的厚度来描述。如果在砂纸落球测试中确定了层的破碎高度，则该因子将有效。在该动态测试中，该层的第二表面放置在钢板上，并且该层的第一表面(在是玻璃层的情况下可能或可能不进行化学增韧)是向上取向的。将重量为4.5g的丙烯酸球从上方下落到该层上。逐步增加球的下落高度，直到该层破碎为止，其中每一步都有一次降落，并且合理地选择每一步之间的距离，例如2mm或5mm。根据ISO 6344，使用P180砂纸(例如“Buehler”公司制造的#180Buehler砂纸)在室温约20℃、相对湿度约50％在小样品(11mm×11mm)上进行测试。如果要测试较大尺寸的层，则将使用金刚石切割轮切割出较小的样品。小样品不再进行边缘处理。破碎高度(也称为“砂纸落球高度”)是在层破碎之前可以施加的最大高度。破碎是指该层出现可见的表面裂纹(产生裂纹)或破碎为两块或几块。用肉眼来确定破碎。
该测试被调整为特别适合于层，并且以非常简单的方式再现了上述问题，即当层降落或被撞击时层与尖锐的硬物之间的冲击接触。
破碎弯曲半径
此外，无机材料层和/或保护盖的破碎弯曲半径(以mm为单位)小于该层的厚度(t以mm为单位)乘以100,000，其中结果除以在无机材料层的表面测得的表面压应力(以MPa为单位)的数字。
本发明的无机材料层可以具有优化的应力分布。它在小的弯曲半径和高耐尖锐接触性(例如抗冲击性)之间取得平衡。令人惊讶地发现，该层将足够坚固以适应保护盖的应用，尤其是在日常使用中，尤其是在满足以下条件的情况下：
在由玻璃制成的无机材料层的情况下，其破碎弯曲半径(以mm为单位)可以＜100,000*t/CS，其中t是玻璃层的厚度(以“mm”为单位)，CS是测得的表面压应力的数字(以“MPa”为单位)。这意味着在后面的计算中，乘积除以数字，该数字对应于在玻璃层第一表面处分别测得的表面抗压强度(以MPa为单位)。
借助于这些标准，可以确定层在成为保护盖的一部分之前是否适当地坚固和柔软足以用于相应的应用。令人惊讶地发现，破碎高度与层厚度密切相关。因此，较薄的层对由于硬和尖锐的物品的撞击所引起的破碎特别敏感。
在本发明的有利实施例中，化学增韧的玻璃层(即无机材料层)的破碎弯曲半径(以mm为单位)小于玻璃层的厚度(t以mm为单位)乘以100,000或80,000，其中，结果除以在第一表面处测得的表面压应力(以MPa为单位)的数字(＜t*80,000/CS)。破碎弯曲半径(以mm为单位)优选可以小于无机材料层的厚度(t以mm为单位)乘以70,000，其中结果除以在表面处测得的表面压应力(以MPa为单位)的数字(＜t*70,000/CS)。在一些变型中，破碎弯曲半径(以mm为单位)可以小于无机材料层的厚度(t以mm为单位)乘以60,000，其中结果除以在第一表面处测得的表面压应力(以MPa为单位)的数字(＜t*60,000/CS)。发明人惊奇地发现，作为无机材料层的玻璃层的破碎弯曲半径标准可以用创造性的因子100,000、玻璃层的厚度和测量的表面CS来描述。如果通过如上所述的两点弯曲测试来确定无机材料层的破碎弯曲半径，则创造性的因子将是有效的。破碎弯曲半径是通过使用UTM(万能测试机)在室温约20℃并且相对湿度约50％下在小样品(20mm×70mm)上确定的。如果要测试较大尺寸的玻璃层，将使用金刚石切割轮切割出小样品。小样品不再进行边缘处理。将无机材料层被置于弯曲位置，并且其相对端位于两个平行板(钢板)之间。然后，板之间的距离连续减小，使得无机材料层的弯曲半径减小，直到破碎，其中加载速度为60mm/min。当无机材料层扭结、损坏或破碎成两块或几块时，记录板之间的距离，这取决于UTM软件的信号。从该距离计算出破碎时无机材料层的相应弯曲半径。-如果测试了边缘被处理过的玻璃层(其中玻璃层可以例如通过CNC研磨进行边缘处理，用酸(例如HCl、HNO3、H2SO4、NH4HF2或其混合物)蚀刻，然后可选地增韧)，则与边缘没有经过处理的相应无机材料层相比，弯曲半径将甚至更小，因为边缘处理提高强度，从而减小了弯曲半径。
调整该两点弯曲测试为并且特别适合于无机材料层，例如玻璃层，并且以非常简单的方式再现了上述问题，即玻璃层在对其施加载荷时的弯曲。在本发明的上下文中，发现了两点弯曲法比诸如三点弯曲测试和四点弯曲测试等的其他已知弯曲强度测试更有意义。
如上所述，无机材料层可以具有完全不同的尺寸。因此，在确定破碎高度和破碎弯曲半径的过程中，必须考虑以下因素：
在较大的层(例如玻璃卷或大玻璃板)的情况下，使用砂纸落球测试测量多个样品的破碎高度。为此，取N个值的随机样本。N应该足够高以获得统计上确保的平均值。优选测试至少20个、更优选至少30个样品。样本数量取决于要测试的层的相应大小。使用威布尔(Weibull)法对测量的值进行统计评估。确定威布尔分布的B10值(即其中10％的样品破碎的计算高度(以mm为单位))，并且被用来表示所要求的破碎高度。
然而，在小的层的情况下，例如小于25cm2的层(例如，单个小的保护盖玻璃)，破碎高度的单个测量值就足够了，并且被用来表示所要求的破碎高度。
在多个测量值在2到19个之间的情况下，所测得的破碎高度的平均值被用来表示所要求的破碎高度。
对于破碎弯曲半径，可以计算平均值。为此，取N个值的随机样本。样本数量取决于要评估的层的相应大小。优选地，N应该足够高以获得统计上确保的平均值。优选地测试至少20个、更优选至少30个样品。因此，对于破碎弯曲半径R1...RN，取N个值的随机样本，对于这些随机样本的值，计算平均值
和方差
取平均破碎弯曲半径被用来表示所要求的破碎弯曲半径。然而，在小的层的情况下，例如小于25cm2的层(例如，单个小的盖玻璃)，破碎弯曲半径的单个测量值就足够了，并且被用来表示所要求的破碎弯曲半径。
相应地计算出破碎高度的平均值和方差。
生存参数
本发明的一个目的是提供一种具有改善的抗弯曲性和抗折叠性的保护盖。换句话说，无机材料层和整个保护盖承受弯曲和折叠的可能性很高。即使在盖上并且尤其是在无机材料层上施加刮擦或冲击力的情况下，也应保持很高的承受弯曲和折叠的可能性。
在实施例中，本发明包括保护盖，该保护盖具有无机材料层，该无机材料层包括可以具有一定脆性的透明材料或由其构成。该无机材料层具有断裂韧性KIC、压应力CS、特征渗透深度xc和厚度d，其中该层符合以下等式：
其中，对于
其中对于
B＝0，
其中对于
其中m＝1米，
其中xc＞0μm，并且
其中生存参数
大于250MPa。
在优选实施例中，本发明提供了一组保护盖，或至少一个包括一组无机材料层的保护盖，其中一个或多个盖中的层数n至少为2、3、4、5、10、20、50或甚至至少100。
根据本说明书，如果材料的脆性S大于0.1μm-1/2、优选大于0.2μm-1/2、大于0.5μm-1/2、大于0.8μm-1/2、大于1μm-1/2、大于1.5μm-1/2、大于2μm-1/2，则认为该材料是脆性的。优选地，脆性S为至多20μm-1/2、至多18μm-1/2、至多15μm-1/2、至多12μm-1/2、至多10μm-1/2、至多9μm-1/2、或至多8μm-1/2。优选地，脆性S在0.1μm-1/2至20μm-1/2的范围内、优选在0.2μm-1/2至18μm-1/2的范围内、优选从0.5μm-1/2至15μm-1/2、特别是从0.8μm-1/2至12μm-1/2、或从1μm-1/2至10μm-1/2、优选1.5μm-1/2至9μm-1/2、更优选2μm-1/2至8μm-1/2。脆性S根据下式计算为维氏硬度H与断裂韧性KIC之比。
S＝H/KIC。
该比值被用作在“Lawn,B.R.；Marshall D.B.；Haedness,Toughness,andBrittleness:An Indentation Analysis；Journal of the American Ceramic Society(1979)”中的脆性的量度。技术人员知道如何通过实验确定该脆性。优选地，根据在“Sehgal,J.；Ito,S.；Brittleness of glass；Journal of Non-Crystalline Solids(1999)”中给出的解释来确定脆性。
透明的并且任选地也是脆的无机材料优选地选自玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷和晶体。优选的晶体选自蓝宝石、金刚石、铬、红宝石、黄玉、石英和正长石。蓝宝石是优选的晶体。优选地，透明的并且可选地也是脆的材料是玻璃或玻璃陶瓷，特别是玻璃。特别地，该材料可以是硼硅酸盐玻璃或铝硅酸盐玻璃。优选地，材料中Li2O+Na2O的比例大于1重量％、更优选大于3重量％、更优选大于5重量％。在特别优选实施例中，该材料包含Na2O，但是不含Li2O、Rb2O和Cs2O。
当在不采取进一步措施的情况下弯曲脆性材料时，在材料的凸表面上观察到拉应力，当拉应力超过阈值时会导致破碎。已经发现，可以制造可弯曲或甚至可折叠的物体，例如本发明的保护盖的无机材料层，当选择参数断裂韧性KIC、压应力CS、特征渗透深度xc和厚度d时，使得根据上面给出的方程，生存参数
大于250MPa。生存参数具有拉应力的大小，以MPa为单位。令人惊讶地发现，如果选择所述参数以使得生存参数大于250MPa、优选地至少300MPa、至少350MPa、至少400MPa、至少450MPa、至少500MPa、至少600MPa、至少700MPa或甚至至少800MPa，则例如透明或甚至脆性材料的无机材料层之类的物品特别可弯曲。优选地，生存参数为最高1,000,000MPa、最高100,000MPa、最高20,000MPa、最高10,000MPa、最高7500MPa、最高5000MPa、最高4000MPa、最高3000MPa、甚至最高2000MPa。优选地，所述生存参数在250MPa至1,000,000MPa、300MPa至100,000MPa、350MPa至20,000MPa、400MPa至10,000MPa、450MPa至7500MPa、500MPa至5000MPa、600MPa至4000MPa、700MPa至3000MPa、800MPa至2000MPa的范围内。
断裂韧性KIC优选为拉应力下的断裂韧性(模式I)。断裂韧性以MPa*√m为单位给出，并且优选根据ASTM C1421-15(第9页及以下)中给出的预裂束法(Precracked BeamMethod)来测量。断裂韧性KIC优选地由一个或多个参考物品确定。用于确定断裂韧性KIC的参考物体优选未经增韧，特别是未经化学增韧。优选地，断裂韧性大于0.4MPa*√m。优选地，断裂韧性为至少0.45MPa*√m、更优选至少0.5MPa*√m、优选至少0.6MPa*√m、至少0.7MPa*√m、至少0.8MPa*√m、至少0.9MPa*√m、或至少1MPa*√m、或至少1.1MPa*√m、或至少2MPa*√m。优选地，断裂韧性为最高100MPa*√m、最高75MPa*√m、最高50MPa*√m、最高10MPa*√m、特别是最高8MPa*√m、或者最高5MPa*√m。
化学增韧分布的形状对应于反误差函数。对于不同的离子种类、不同的温度和不同的材料，扩散系数D是不同的。以m2/s为单位来测量扩散系数D。根据扩散系数D和增韧时间t，可使用等式：
来计算特征渗透深度xc。增韧时间t是物品(例如无机材料层)保留在盐浴中的时间。扩散系数D可以用不同的方法来测量。优选地，在限定的增韧温度和时间之后，根据交换离子的深度分布来计算扩散系数D。例如，可以使用EDX(能量色散X射线光谱法)测量该深度分布。或者，可以使用ToF-SIMS(飞行时间二次离子质谱法)方法。在ToF-SIMS方法中，材料通过离子束从物品(例如无机材料层)的表面释放，并测量由此释放的离子的比例。通过从表面释放材料，离子束基本上会“钻孔”到物品(例如无机材料层)的深度中，从而可以确定离子分布的变化。其他合适的方法是技术人员已知的。
特征渗透深度具有长度的单位。优选地，其为至少2μm、至少3μm、至少0.843*4μm、优选地至少4μm、至少6μm、至少8μm或至少10μm。优选地，特征渗透深度为最大50μm、最大30μm、最大27μm、最大25μm、最大24μm、最大22μm或最大20μm。
在优选实施例中，相对于无机材料层的厚度d，特征渗透深度不应超过特定的值。优选地，特征渗透深度为最高d/2、最高d/3、最高d/3.5、最高d/4、最高d/5、最高d/6或最高d/7。但是，特征渗透深度应为至少d/40、至少d/30、至少d/27、至少d/25、至少d/20、至少d/15或至少d/10。
无机材料层的凸侧面上的拉应力与材料的杨氏模量大致成比例。因此，对于可弯曲的且优选可折叠的保护盖和无机材料层的寿命而言，优选杨氏模量不应太高。优选地，无机材料的杨氏模量为最高200GPa、优选最高150GPa、最高120GPa、或最高100GPa、或最高90GPa。优选地，无机材料的杨氏模量为至少40GPa、至少50GPa、至少60GPa、或至少70GPa、或至少80GPa、或至少90GPa、或至少100GPa。
如果拉应力被重新定位在物品的外部，则可以改善可弯曲的且可选地可折叠的保护盖和/或无机材料层的寿命。根据本发明，这可以通过在物品的承受拉应力的一侧上设置另外的材料来实现。该另外的材料可以覆盖物品的相应侧面的整个区域，或者其可以覆盖物品的相应侧面的部分区域。在优选实施例中，将金属或聚合物材料的条带布置在物品的至少一侧上，例如在无机材料层上和/或在保护盖上，特别是在承受拉应力的一侧上。金属具有较高的杨氏模量优势，而聚合物材料可以具有透明性的优势。该一条或多条金属或聚合物材料的条带可以靠近无机材料层的边缘布置和/或布置在保护盖上，例如在不超过层的宽度距相应边缘的30％、20％或10％的距离内，或距相应边缘至少10*d但不大于50*d、优选不大于20*d的距离内，其中“d”是无机材料层的厚度。优选地，这适用于边缘垂直于弯曲或折叠轴线延伸，特别是沿着无机材料层的长度方向、即沿纵向轴线的方向延伸。可以使用另外的材料的条带，其宽度小于无机材料层的宽度的30％、20％、10％、5％、3％或1％。该宽度可以是无机材料层和/或保护盖的宽度的至少0.1％、至少0.3％、或至少0.9％。
该另外的材料可以具有大于10GPa、优选至少20GPa、至少50GPa、至少75GPa或至少100GPa的杨氏模量。在优选实施例中，另外的材料具有最高1000GPa、优选地最高800GPa、最高700GPa或最高650GPa的杨氏模量。特别地，与无机材料层的无机材料的杨氏模量相比，该另外的材料的杨氏模量的值在1/10至10倍于无机材料的杨氏模量的值的范围内，优选在1/5至5倍的范围内、或在1/2至2倍的范围内。
该另外的材料的脆性S优选小于20μm-1/2、小于10μm-1/2、小于5μm-1/2、小于2μm-1/2、小于1μm-1/2、或小于0.5μm-1/2、小于0.25μm-1/2、小于0.1μm--1/2、小于0.05μm-1/2或小于0.005μm-1/2。优选地，该另外的材料的厚度在0.2*d至5*d的范围内、优选在0.5*d至2*d的范围内，其中d是无机材料层的厚度。优选地，该另外的材料的厚度为至少10μm、优选地至少50μm、至少100μm、至少200μm或至少500μm。特别地，该另外的材料的厚度不应超过5mm、4mm、3mm、2mm或1mm。优选地，该另外的材料选自聚合物(例如塑料)和金属材料(例如金属或金属合金)。优选的塑料是聚乙烯。
如上所述，拉应力优选地重新定位在物品之外，并进入该另一材料中。因此，如果该另外的材料具有相当高的偏移屈服点(或试验应力)，则是有利的。优选地，该另外的材料(特别是金属材料)的0.2％偏移屈服点至少为50N/mm2、更优选至少为75N/mm2、更优选至少为100N/mm2、更优选至少150N/mm2。0.2％的偏移屈服点是(单轴)机械张力，在该机械张力下，载荷释放后的持续伸长率为基于样品的初始长度的0.2％。可以从应力-应变曲线明确确定0.2％的偏移屈服点。
如果该另外的材料具有相当高的抗拉强度，则也是有利的。优选地，该另外的材料(特别是聚合物塑料)的抗拉强度为至少50N/mm2、更优选为至少60N/mm2、更优选为至少70N/mm2、更优选至少80N/mm2。拉伸强度优选根据以下标准之一来确定：EN ISO 6892-1、ISO6892、ASTM E 8、ASTM E21、DIN50154、ISO 527、ASTM D 638。
已经发现，无机材料层中的几何效应导致了该层的边缘处的压应力的减小。可以通过对边缘进行磨圆来产生这种效果。事实证明，有利的是，无机材料层的厚度d、特征渗透深度xc和圆角半径OVR具有以下关系：
d/3＞OVR＞xc/5。
优选地，圆角半径OVR小于d/3且大于xc/5。圆角半径是在各个无机材料片的横向裂纹处测量的。圆角半径是可以拟合到横向裂纹的边缘的最大可能圆的半径。该边缘是原始片的边缘处的横截面。优选地，通过使用一个或多个参考物品间接地测量单个物品的OVR，所述参考物品能够得出关于单个物品的OVR的结论。例如，可以通过确定特定批或批次的一个或多个参考物品的OVR来确定该相应批或批次的物品的OVR，前提是批或批次的单个物品之间没有差异或只有微小差异。微小差异优选为相应批或批次中的最大值与最小值之差为至多20％、更优选为至多15％、更优选为至多10％、更优选为至多5％、更优选为至多2％、更优选为至多1％。
强度参数OFP
压应力分布对弯曲物品的存活的有效性可以通过相应的无机材料层的强度测量来表示。进行两点弯曲测量，其中强度根据Matthewson和Kurkjian(J.Am.Ceram.Soc.，69[11]，Seiten 815-821(1986))来测量。优选地，通过使用一个或多个参考物品间接地测量单个物品的强度，所述参考物品能够得出关于单个物品的强度的结论。例如，可以通过确定特定批或批次的一个或多个参考物品的强度来确定该相应批或批次的物品的强度，前提是批或批次的单个物品之间没有差异或只有很小的差异。微小差异优选为相应批或批次中的最大值与最小值之差为至多20％、更优选为至多15％、更优选为至多10％、更优选为至多5％、更优选为至多2％、更优选为至多1％。
已发现，如果强度测量的平均值MW、标准偏差STABW、测量范围内的样本数N和强度参数OFP之间存在特定关系，则无机材料层特别耐破碎，该特定关系是根据以下公式计算的：
优选地，OFP为至少2、大于4、至少5、至少10或至少20。特别地，OFP为最高100、最高80、最高70或最高60。
裂纹起始载荷
裂纹起始载荷是在主体侵入时抵抗裂纹形成的抵抗力。裂纹起始载荷基本上适用于冲击到物品上的事件，例如冲击到无机材料层上的事件。较高的裂纹起始载荷是优选的。在空气的相对湿度为50％时，无机材料层的裂纹起始载荷优选为至少1.5N、至少3N、至少5N或至少10N。特别地，裂纹起始载荷可以为最高200N、最高150N、最高75N、最高65N、最高55N、最高45N或最高30N.
如Sehgal和Ito所述(J.Am.Ceram.Soc.，81[9]，第2485至2488页(1998))，用维氏压头测量裂纹起始载荷。
与无机材料层的耐冲击性相关的另一方面是临界压缩。临界压缩是材料在形成裂纹之前可以承受的压应力极限。该值与应变有关，没有单位。优选地，无机材料层的临界压缩为至少8％或至少10％。临界压缩可以使用气缸压缩来确定。可以将要研究的物品的样品放在两个圆柱体的端面之间，以便可以通过圆柱体对样品施加压力。可以使用通用测量设备(例如INSTRON 6025)来执行此方法。
在实施例中，无机材料层包括如下所述的玻璃或玻璃陶瓷。优选地，无机材料层由下述材料组成。
在实施例中，无机材料层是化学增韧玻璃层。在其他实施例中，无机材料层可以是未经化学增韧的玻璃层。或者，无机材料可以是已被部分化学增韧的材料。
无机材料层可以是化学增韧玻璃层，其具有小于0.4mm的厚度(t)、第一表面和第二表面以及从第一表面延伸到玻璃层中的第一深度(DoL)的压应力区域，该区域由压应力(CS)限定，其中第一表面处的表面CS至少为100MPa。第一表面和第二表面位于玻璃层的相对侧。
破碎力
无机材料层和/或保护盖可以具有的破碎力(以N为单位)至少为该层的厚度(t以mm为单位)乘以30的数字。在砂纸按压测试中确定破碎力。在该测试中，将该层的第二表面放置在钢板上，并对该层的第一表面施加载荷和按压，直到在其平坦的正面被直径为3mm的钢棒击穿，其中在钢棒的正面和该层的第一表面之间放置类型为P180的砂纸，其中砂纸的磨料面与第一表面接触。此外，根据本发明的层可具有的破碎弯曲半径(以mm为单位)小于该层的厚度(t以mm为单位)乘以100,000，其中结果除以在第一表面处测量的表面压应力(以MPa为单位)的数字。
无机材料层可以具有优化的应力分布。它在小的弯曲半径和高的耐尖锐接触性(尤其是耐压性)之间取得平衡。令人惊讶地发现，该层将足够坚固以适应电子设备日常使用中的应用，特别是如果满足以下条件：
在上述砂纸测试中，无机材料层和/或保护盖的破碎力(以N为单位)可以≥30*t、≥40*t、≥50*t或≥60*t(t是层的相应厚度的数字，单位为“mm”)和/或其破碎弯曲半径(以mm为单位)可以<100,000*t/CS，其中t是层的厚度(单位为“mm”)，CS为测得的表面压应力的数字(单位为“MPa”)。这意味着在后面的计算中，乘积除以一个数字，该数字对应于在该层的第一表面处相应测得的表面抗压强度(以MPa为单位)。
借助于这些标准，可以确定无机材料层在成为保护盖的一部分之前是否适当地牢固和柔软足以用于相应的应用。令人惊讶地发现，破碎力与层厚度密切相关。因此，较薄的层对由于与硬而尖锐的物体接触而引起的破碎特别敏感。
令人惊讶的是，发明人发现无机材料层的破碎力标准可以由所提到的因子30和层的厚度来描述。如果在使用万能测试机(UTM)记录的砂纸按压测试中确定了层的破碎力，则该因子将有效。在该测试中，将该层的第二表面放置在钢板上，对该层的第一表面(其可以被化学增韧)施加载荷并按压，直到其平坦的正面被直径为3mm的钢棒击碎为止，其中在钢棒的正面和该层的第一表面之间放置类型为P180的砂纸，其中砂纸的磨料面与第一表面接触。钢棒的纵向轴线垂直于层的第一表面取向。连续以1mm/min的加载速度沿对应于其纵向轴线的方向移动钢棒，直到击碎。根据ISO 6344，使用P180砂纸(例如，“Buehler”公司制造的#180砂纸)在室温约20℃、相对湿度约50％的小样品(11mm×11mm)上进行测试。如果要测试较大尺寸的无机材料层，则将使用金刚石切割轮切割出小样品。不再对样品进行边缘处理。样品被棒按压直至破碎(产生裂纹)。破碎力(也称为“砂纸压力”)是在层破碎之前可以施加的最大力。破碎是指该层表现出表面裂纹或破碎成两块或更多块。破碎由UTM软件的信号确定。
该测试被调整为特别适用于无机材料层，并且以非常简单的方式重现了上述问题，即在层(例如，FPS或触摸显示屏)与尖锐硬物之间的压力接触。优选地，在将无机材料层加工成本发明的保护盖之前对无机材料层进行本文所述的测试。
如上所述，无机材料层被用于日常应用的许多领域，例如，作为指纹传感器的保护盖，尤其是用于智能电话和平板电脑中。为了提高保护盖的强度，可以进行增韧(例如化学增韧)。在这种情况下，在现有技术中，通常假设需要高的压应力和高的DoL，以确保无机材料(例如玻璃)的柔性和强度。因此，这种已知的增韧玻璃层通常具有高的压应力(CS)和大于20μm的DoL，这导致玻璃内部的高中心张力(CT)。然而，发明人惊奇地发现，这种已知的增韧玻璃的耐尖锐接触性随着DoL的增加而迅速减小，并且当DoL(以μm为单位)和厚度(以μm为单位)之间的比值大约在0.1至0.2之间时达到最小值，如果没有额外的表面保护以防止尖锐接触的话。在某些实施例中，比值DoL/d小于0.2。因此，如果传统的增韧玻璃层受到高硬度物体的按压或撞击(例如，在按压FPS的保护盖玻璃时沙粒粘在手指上)，将导致裂纹扩展通过盖玻璃的强化层(即由压应力(CS)定义)，即使接触力很小，裂纹也到达玻璃的拉伸部分。由于在该玻璃区域中存在较高的中心拉应力，因此已知的玻璃物品自发地产生裂纹并且盖玻璃受损。
发明人惊奇地发现，在进一步加工和日常使用中，根据本发明使用的无机材料层在柔性和耐接触性方面更可靠。在某些实施例中，其原因可能在于根据本发明的层的改善和优化的应力分布。反之，如果无机材料层符合要求的破碎力和要求的破碎弯曲半径(指其各自的厚度和测量的表面CS)，则在使用(例如在保护盖中)时层的破碎风险较低。
如上所述，无机材料层可以具有完全不同的尺寸。因此，在确定破碎力和破碎弯曲半径的过程中，必须考虑以下因素：
在较大的层(例如，较大的玻璃板)的情况下，使用砂纸按压测试测量多个样品的破碎力。为此，取N个值的随机样本。N应该足够高以获得统计上确保的平均值。优选测试至少20个、更优选至少30个样品。样本数量取决于要测试的层的相应大小。使用威布尔法对测量值进行统计评估。确定威布尔分布的B10值(即，在其中10％的样品被破坏的情况下计算出的力(以N为单位))，并将其用于表示所要求的破碎力。
然而，在小的层的情况下(例如，单个小的保护盖玻璃)，破碎力的单个测量值就足够了，并且被用来表示破碎力。
在多个测量值在2至19个之间的的情况下，取平均所测得的破碎力来表示破碎力。
无机材料
在实施例中，所述至少一个无机材料层和/或任何其他无机材料层的无机材料是含碱玻璃，例如碱金属铝硅酸盐玻璃、碱金属硅酸盐玻璃、碱金属硼硅酸盐玻璃、碱金属铝硼硅酸盐玻璃、碱金属硼玻璃、碱金属锗酸盐玻璃、碱金属硼锗酸盐玻璃、碱金属钠钙玻璃及其组合。无机材料层是可弯曲的或甚至可折叠的。通常，保护盖的外层由于弯曲或折叠而受到拉应力、例如由于物品掉落到保护盖上而受到的冲击应力、以及由于硬物刮擦而受到的应力。
无机材料可以是硼硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、锂铝硅酸盐玻璃或玻璃陶瓷。
在优选实施例中，无机材料层的无机材料包括玻璃或由玻璃组成，其可以通过以下作为玻璃组合物I或II列出的以下组成特征中的一个或多个来表征。
玻璃组合物I
在本说明书中，我们涉及玻璃的阳离子成分。在这些成分中-如果没有其他说明-“硅”是指Si4+，“硼”是指B3+，“铝”是指Al3+，“锂”是指Li+，“钠”是指Na+，“钾”是指K+，“镁”是指Mg2+，“钙”是指Ca2+，“钡”是指Ba2+，“锌”是指Zn2+，“钛”是指Ti4+，“锆”是指Zr4+，“砷”是指As3+和As5+的总和，“锑”是指Sb3+和Sb5+的总和，“铁”是指Fe3+和Fe4+的总和，“铈”是指Ce3+和Ce4+的总和，“锡”是指Sn2+和Sn4+的总和，“硫”是指硫在其所有价态和氧化水平的总量。
所述玻璃具有某些优选的成分，将在下面概述。该玻璃通常包含阳离子和阴离子成分。玻璃中阳离子的成分将以阳离子百分比(cat.-％)给出，即表示相应的阳离子相对于成分中阳离子的总摩尔量的摩尔比。优选地，玻璃以cat.-％、基于玻璃中阳离子的总摩尔量包括以下成分：硅40至75cat.-％、硼0至23cat.-％、铝0至20cat.-％、锂0至18cat.-％、钠0至25cat.-％、钾0至15cat.-％、镁0至10cat.-％、钙0至9cat.-％、钡0至4cat.-％、锌0至7cat.-％、钛0至5cat.-％、锆0至3cat.-％。在优选实施例中，玻璃中的阳离子由上述列表中提及的阳离子组成，其含量为至少95％、更优选至少97％、最优选至少99％。在最优选实施例中，玻璃的阳离子成分主要由所述阳离子组成。
作为阴离子成分，玻璃优选包含选自氟(F-)、氧(O2-)、氯(Cl-)离子中的至少一种阴离子。最优选地，玻璃中存在的阴离子由氧组成，其含量为至少95％、更优选至少97％、最优选至少99％。在最优选实施例中，玻璃的阴离子成分基本上由氧组成。
本文所用的术语“不含X的”和“不含成分X的”优选地是指基本上不包含所述成分X的玻璃，即该成分可以存在于玻璃中至多作为杂质或污染物，但是不作为单独的成分被添加至玻璃组合物中。这意味着没有以必要量添加成分X。根据本发明的非必要量是小于100ppm(n/n)、优选小于50ppm、更优选小于10ppm的量。因此，“X”可以指任何成分，例如铅阳离子或砷阳离子。优选地，本文描述的玻璃基本上不包含本说明书中未提及的任何成分。
特别优选的玻璃组合物以cat.-％、基于玻璃中阳离子的总摩尔量包含以下成分：硅45至60cat.-％、铝14至20cat.-％、钠15至25cat.-％、钾1.5至8.5cat.-％、镁2至9cat.-％、锆0.1至1.3cat.-％、铈0.01至0.3cat.-％。在优选实施例中，玻璃中的阳离子由上述列表中提及的阳离子组成，其含量为至少95％、更优选至少97％、最优选至少99％。在最优选实施例中，玻璃的阳离子成分主要由上述阳离子组成。
优选地，玻璃包含比例为40至75cat.-％的硅，更优选比例为45至60cat.-％的硅。硅是玻璃基质中重要的网络形成剂，对玻璃的性能非常重要。特别地，硅阳离子对于玻璃的耐化学品性、硬度和耐刮擦性是重要的。在优选实施例中，玻璃包括至少41cat.-％的硅、更优选至少42cat.-％的硅、更优选至少43.5cat.-％的硅、最优选至少45cat.-％的硅。但是，过高的硅阳离子含量可能导致玻璃转变温度升高，从而使玻璃生产不经济。因此，特别优选硅阳离子的含量至多为75cat.-％、进一步优选至多70cat.-％、仍更优选至多65cat.-％、最优选至多60cat.-％。
除硅阳离子外，玻璃还可包含至少一种第二网络形成剂。玻璃可以包含硼阳离子作为另外的网络形成剂，比例为0至23cat.-％、更优选0至1cat.-％。通过其网络形成特性，硼阳离子可以支持玻璃的稳定性。在优选实施例中，玻璃包含至少0cat.-％的硼。然而，在玻璃中硼阳离子的含量过高的情况下，则粘度会大大降低，因此必须接受结晶稳定性的降低。因此，特别优选硼阳离子的含量为至多10cat.-％、进一步优选至多5cat.-％、仍更优选至多2cat.-％、最优选至多1cat.-％。在优选实施例中，玻璃不含硼阳离子。
在玻璃中，优选硅和硼阳离子的总量为40至95cat.-％、更优选是45到60cat.-％。在优选实施例中，玻璃中的硅和硼阳离子的总量为至少为41cat.-％、更优选至少42cat.-％、仍更优选至少43.5cat.-％、最优选至少45cat.-％。特别优选玻璃中的硅和硼阳离子的总量为至多75cat.-％、进一步优选至多70cat.-％、仍更优选至多65cat.-％、最优选至多60cat.-％。
已经发现，折射率的温度依赖性受玻璃中的网络形成剂铝、硅和硼的影响。因此，玻璃优选以阳离子百分比显示的铝和硼的总量相对于硅的量的比值为0至1。优选地，该比值为＞0至0.8、更优选为＞0.20至0.6，最优选为0.25至0.4。
在玻璃中，优选以0至20cat.-％、更优选14至20cat.-％的比例包含铝阳离子。添加铝阳离子改善了玻璃形成性能，并且通常支持耐化学品性的提高。在优选实施例中，玻璃包含至少1cat.-％的铝、更优选至少5cat.-％的铝、仍更优选至少10cat.-％的铝、最优选至少14cat.-％的铝。然而，铝阳离子的含量太高导致结晶趋势增加。因此，特别优选铝阳离子的含量为至多20cat.-％、进一步优选至多19cat.-％、仍更优选至多18cat.-％、最优选至多17cat.-％。
玻璃优选包含助熔剂以改善熔融性能，特别是包含碱金属阳离子和/或碱土金属阳离子。优选地，助熔剂的总量∑{∑R2+(R＝Mg、Ca、Sr、Ba)+∑R+(R′＝Li、Na、K)}为5至40cat.-％。在优选实施例中，玻璃中助熔剂的总量为至少5cat.-％、更优选至少7cat.-％、仍更优选至少12cat.-％、最优选至少15cat.-％。如果玻璃中的助熔剂含量过高，则耐化学品性会降低。特别优选的是，玻璃中的助熔剂的总量为至多38cat.-％、进一步优选至多35cat.-％、更优选至多33cat.-％、最优选至多30cat.-％。
碱金属阳离子改善了玻璃的熔融性，因此允许更经济的生产。同样，它们对于通过离子交换处理来化学强化玻璃可能是必需的。在玻璃的生产过程中，碱金属阳离子被用作助熔剂。玻璃中碱金属阳离子锂、钠和钾的总量可以为0至35cat.-％。在优选实施例中，碱金属阳离子的总量为至少5cat.-％、更优选至少7cat.-％、仍更优选至少10cat.-％、最优选至少15cat.-％。但是，如果碱金属阳离子的含量过高，则可能损害玻璃的耐候性，因此可能会严重限制其应用范围。碱金属阳离子的含量过高会导致化学稳定性下降，因为这些一价离子可能损害桥接的Si-O键，并且此外，与其他阳离子相比，它们在玻璃结构中的移动更容易。因此，特别优选碱金属阳离子的总量为至多35cat.-％、进一步优选至多30cat.-％、更优选至多27cat.-％、最优选至多25cat.-％。
本发明人惊奇地发现，当碱金属阳离子(Li，Na，K)的总量与硼和铝阳离子的总量的摩尔比保持在有利范围内时，可以进一步提高化学稳定性。优选地，玻璃中碱金属阳离子(Li、Na、K)的总量与硼和铝阳离子的总量的比值保持在0.1至2.5的范围内。更优选地，玻璃中碱金属阳离子(Li、Na、K)的总量相对于硼和铝阳离子的总量的含量为至少0.2、更优选至少0.3、更优选至少0.5、更优选至少0.8。优选地，玻璃中碱金属阳离子(Li、Na、K)的总量相对于硼和铝阳离子的总量的含量为至多2.5、更优选至多2.2、更优选至多2.0、更优选至多1.9、更优选至多1.7、更优选至多1.5。以此方式，可以获得具有非常高的化学稳定性的玻璃。
在玻璃中，优选以0至18cat.-％的比例包含锂阳离子。锂用作助熔剂并具有优异的离子交换强化性能。但是，锂在很大程度上影响了玻璃的化学稳定性，因此应限制其含量。锂阳离子的含量特别优选为至多18cat.-％、进一步优选至多10cat.-％、仍更优选至多3cat.-％、最优选至多1cat.-％。在优选实施例中，玻璃不含锂阳离子。
在玻璃中，优选以0至25cat.-％、优选15至25cat.-％的比例包含钠阳离子。钠是用于离子交换处理的良好成分。但是-与所有碱金属离子一样-该成分的含量不应太高，因为它降低化学稳定性。在优选实施例中，玻璃包含至少5cat.-％的钠、更优选至少10cat.-％的钠、更优选至少12cat.-％的钠、并且最优选至少15cat.-％的钠。特别优选地，钠阳离子的含量至多为24cat.-％、进一步优选至多23cat.-％、仍更优选至多22cat.-％、最优选至多21cat.-％。
在玻璃中，优选以0至15cat.-％、更优选1.5至8.5cat.-％的比例包含钾阳离子。与其他碱金属离子相比，钾对化学稳定性的负面影响较小。但是，钾不适用于离子交换处理。另外，优选限制钾的含量，因为其包含发射β射线的同位素。在优选实施例中，玻璃包含至少1cat.-％的钾、更优选至少2cat.-％的钾、更优选至少3cat.-％的钾、最优选至少3.5cat.-％的钾。特别优选的是钾阳离子的含量为至多15cat.-％、进一步优选至多10cat.-％、仍更优选至多5cat.-％。
已经发现，通过在玻璃中同时使用钠和钾并保持以cat.-％计的钠与钾的比例在至多15、更优选至多10、更优选至多9、优选至多8、最优选小于6的范围内，可以降低基材玻璃的浸出趋势。保持该比例较低(即钠相对于钾的量不超过一定量)使玻璃具有良好的熔融性以及出色的耐化学品和水解性能。具体地，这种玻璃将具有根据ISO 719：1989的HGB1。然而，为了将熔体中的粘度调节至期望的值，钠与钾的比例应大于0.5、优选大于1并且最优选至少2。
碱土金属阳离子可以改善玻璃的熔融性，因此允许经济的生产。在玻璃的生产过程中，它们可用作助熔剂。玻璃中碱土金属阳离子镁、钡和钙的总量优选为0至15cat.-％、更优选2至9cat.-％。碱土金属离子影响玻璃的耐化学品性，而在离子交换处理方面几乎没有积极作用。因此，在本发明中，玻璃优选不包含任何碱土金属离子。特别优选玻璃中的碱土金属阳离子的总量为至多13cat.-％、进一步优选至多12cat.-％、仍更优选至多10cat.-％、最优选至多9cat.-％。而且，可以使用碱土金属阳离子和锌阳离子来调节玻璃的粘度，特别是对粘度-温度曲线的微调。此外，碱土金属阳离子和锌阳离子-与碱金属阳离子一样-可用作助熔剂。玻璃可以不含选自镁阳离子、钙阳离子、锶阳离子、钡阳离子和锌阳离子的至少一种阳离子。优选地，玻璃不含锌阳离子、钙阳离子、锶阳离子和钡阳离子。
在玻璃中，优选以0至7cat.-％的比例包含锌阳离子。特别优选锌阳离子的含量为至多6cat.-％、更优选至多5cat.-％。在优选实施例中，玻璃不含锌。在玻璃中，优选以0至9cat.-％的比例包含钙阳离子。特别优选钙阳离子的含量为至多8cat.-％、进一步优选至多3cat.-％。在优选实施例中，玻璃不含钙。在玻璃中，优选以0至4cat.-％的比例包含钡阳离子。特别优选钡阳离子的含量为至多4cat.-％、进一步优选至多3cat.-％、仍更优选至多2cat.-％、最优选至多1cat.-％。在优选实施例中，玻璃不含钡。在优选实施例中，玻璃不含锶。
在玻璃中，优选以0至10cat.-％、更优选2至9cat.-％的比例包含镁阳离子。镁阳离子可以作为另外的助熔剂包含在玻璃中，也可以有针对性地调节熔点。通过添加网络改性剂镁，可以降低玻璃的熔点。在优选实施例中，玻璃包括至少1cat.-％的镁、更优选至少2cat.-％的镁、更优选至少3cat.-％的镁。但是，镁阳离子的含量过高可能导致玻璃的熔点降低。特别优选的是锌阳离子的含量为至多8cat.-％、进一步优选至多6cat.-％。
在玻璃中，优选以0至5cat.-％的比例包含钛阳离子。可以将钛阳离子添加到玻璃中以改善其光学性能。特别地，借助于钛的添加，可以有针对性地调节玻璃的折射率。因此，折射率随着玻璃中钛阳离子含量的增加而增加。钛阳离子的添加还具有另一个优点：通过这种方法，玻璃的透射光谱的UV边缘可以偏移到更高的波长，其中当添加更多的钛时，该偏移更高。然而，太高含量的钛阳离子可能导致玻璃的不希望的结晶。钛阳离子可提高玻璃的折射率。尤其是与锆阳离子一起，钛阳离子可能降低在蓝色光谱范围内的透射率，因此可能会使UV边缘偏移到更长的波长中。因此，特别优选钛的含量为至多5cat.-％、进一步优选至多1cat.-％。在优选实施例中，玻璃不含钛。
在玻璃中，优选以0至3cat.-％、更优选0.1至1.3cat.-％的比例包含锆阳离子。锆阳离子可用于调节玻璃的折射率。在优选实施例中，玻璃包含至少0.1cat.-％的锆、更优选至少0.2cat.-％的锆、更优选至少0.5cat.-％的锆。但是，锆阳离子的含量过高会降低熔融性，特别是导致玻璃的结晶更强。特别优选锆的含量为至多1.3cat.-％、进一步优选至多1.0cat.-％、更优选地至多0.8cat.-％。
在玻璃中，优选以0.01至0.3cat.-％的比例包含铈阳离子。在优选实施例中，玻璃包含至少0.01cat.-％的铈、更优选至少0.02cat.-％的铈、更优选至少0.05cat.-％的铈。铈的含量优选至多为0.3cat.-％、进一步优选至多0.2cat.-％、仍更优选至多0.1cat.-％。
玻璃组合物II
可以构成无机材料的另一种优选的玻璃组合物以cat.-％、基于玻璃中阳离子的总摩尔量包含以下成分：硅48至60cat.-％、硼10.5至15.5cat.-％、铝2至8.5cat.-％、钠8至14cat.-％、钾5.5至13.5cat.-％、锌2至6cat.-％、钛1至5cat.-％。在优选实施例中，玻璃中的阳离子由前述列表中提及的阳离子组成，其含量为至少95％、更优选至少97％、最优选至少99％。在最优选实施例中，玻璃的阳离子成分主要由上述阳离子组成。
优选地，玻璃包含比例为40至75cat.-％的硅。硅是玻璃基质中重要的网络形成剂，其对玻璃性能至关重要。硅对玻璃的耐化学品性、硬度和耐刮擦性尤其重要。在优选实施例中，玻璃包括至少43cat.-％的硅、更优选地至少45cat.-％的硅、仍更优选至少47.5cat.-％的硅、最优选至少48cat.-％的硅。但是，硅阳离子的含量过高会导致玻璃化转变温度升高，从而使玻璃生产不经济。因此，特别优选硅阳离子的含量为至多75cat.-％、进一步优选至多70cat.-％、仍更优选至多65cat.-％、最优选至多60cat.-％。
除硅阳离子之外，玻璃还可以包含至少一种第二网络形成剂。玻璃可以包含硼阳离子作为另外的网络形成剂，其比例为0至23cat.-％。通过其网络形成特性，硼阳离子可以支持玻璃的稳定性。在优选实施例中，玻璃包含至少0cat.-％的硼、更优选至少5cat.-％的硼、仍更优选至少7.5cat.-％的硼、最优选至少10.5cat.-％的硼。但是，如果玻璃中的硼阳离子含量过高，则粘度可能会大大降低，因此必须要接受结晶稳定性的降低。因此，特别优选硼阳离子的含量为至多23cat.-％、进一步优选至多20cat.-％、仍更优选至多18cat.-％、最优选至多15.5cat.-％。
在玻璃中，硅和硼阳离子的总量可为40至95cat.-％。在优选实施例中，玻璃中的硅和硼阳离子的cat.-％总量为至少45cat.-％、更优选至少48cat.-％、仍更优选至少50cat.-％、最优选至少60cat.-％。特别优选玻璃中的硅和硼阳离子的cat.-％总量为至多95cat.-％、进一步优选至多85cat.-％、仍更优选至多75.0cat.-％、最优选至多72cat.-％。
已经发现，折射率的温度依赖性受玻璃中的网络形成剂铝、硅和硼的影响。因此，玻璃中以阳离子百分比计的铝和硼的总量相对于硅的量的比例为0至1。优选地，该比例为＞0至0.8、更优选为＞0.20至0.6、最优选为0.25至0.4。
在玻璃中，可以0至20cat.-％的比例包含铝阳离子。铝阳离子的添加导致玻璃形成性能的改善，并且通常支持耐化学品性的提高。在实施例中，玻璃包括至少0cat.-％的铝、更优选至少1cat.-％的铝、仍更优选至少2cat.-％的铝、最优选至少3cat.-％的铝。然而，铝阳离子的含量太高导致结晶趋势增加。因此，特别优选铝阳离子的含量为至多20cat.-％、进一步优选至多15cat.-％、仍更优选至多10cat.-％、最优选至多8cat.-％。
玻璃可以包含助熔剂以改善熔融性能，特别是包含碱金属阳离子和/或碱土金属阳离子。优选地，助熔剂的总量∑{∑R2+(R＝Mg、Ca、Sr、Ba)+∑R+(R′＝Li、Na、K)}为5至40cat.-％。在优选实施例中，玻璃中助熔剂的总量为至少5cat.-％、更优选至少7cat.-％、仍更优选至少12cat.-％、最优选至少15cat.-％。如果玻璃中的助熔剂含量过高，则耐化学品性会降低。特别优选的是，玻璃中的助熔剂的总量为35cat.-％以下、进一步优选至多30cat.-％、更优选至多25cat.-％、最优选至多23cat.-％。
碱金属阳离子改善了玻璃的熔融性，因此允许更经济的生产。另外，它们对于通过离子交换处理进行玻璃的化学强化是必要的。在玻璃的生产过程中，碱金属阳离子用作助熔剂。玻璃中碱金属阳离子锂、钠和钾的总量可以为0至35cat.-％。在优选实施例中，碱金属阳离子的总量为至少5cat.-％、更优选至少7cat.-％、仍更优选至少10cat.-％、最优选至少15cat.-％。但是，如果碱金属阳离子的含量过高，则可能损害玻璃的耐候性，因此可能限制其应用范围。碱金属阳离子的含量过高会导致化学稳定性下降，因为这些一价离子可能会损害桥接的Si-O键，并且与其他阳离子相比，它们在玻璃结构中的移动更容易。因此，特别优选碱金属阳离子的总量为至多35cat.-％、进一步优选至多30cat.-％、更优选至多25cat.-％、最优选至多23cat.-％。
本发明人惊奇地发现，当碱金属阳离子(Li、Na、K)的总量与硼和铝阳离子的总量的摩尔比保持在有利范围内时，可以进一步提高化学稳定性。优选地，玻璃中碱金属阳离子(Li、Na、K)的总量与硼和铝阳离子的总量的比值保持在0.1至2的范围内。更优选地，玻璃中碱金属阳离子(Li、Na、K)的总量与硼和铝阳离子的总量的比值至少为0.2、更优选至少为0.3、更优选至少为0.5、更优选至少为0.8。优选地，玻璃中碱金属阳离子(Li、Na、K)的总量与硼和铝阳离子的总量的比值为至多1.9、更优选为至多1.8、更优选为至多1.7、进一步优选至多1.5、更优选至多1.3、更优选至多1.2。以此方式，可以获得具有非常高的化学稳定性的玻璃。
在玻璃中，可以包含比例为0至18cat.-％的锂阳离子。锂用作助熔剂并具有优异的用于离子交换强化的性能。但是，锂在很大程度上影响玻璃的化学稳定性，因此应限制其含量。锂阳离子的含量特别优选为至多18cat.-％、进一步优选至多10cat.-％、仍更优选至多3cat.-％、最优选至多1cat.-％。在实施例中，玻璃不含锂阳离子。
在玻璃中，可以包含比例为0至25cat.-％的钠阳离子。钠是用于离子交换处理的良好成分。但是-与所有碱金属离子一样-该成分的含量不应太高，因为它会降低化学稳定性。在优选实施例中，玻璃包含至少3cat.-％的钠、更优选至少5cat.-％的钠、更优选至少8cat.-％的钠、并且最优选至少9cat.-％的钠。特别优选钠阳离子的含量为至多23cat.-％、进一步优选至多22cat.-％、更优选至多20cat.-％、最优选至多15cat.-％。
在玻璃中，可以包含比例为0至15cat.-％的钾阳离子。与其他碱金属离子相比，钾对化学稳定性的负面影响较小。但是，钾不适用于离子交换处理。另外，优选限制钾的含量，因为其包含发射β射线的同位素。在优选实施例中，玻璃包含至少1cat.-％的钾、更优选至少2cat.-％的钾、更优选至少3cat.-％的钾、最优选至少5.5cat.-％的钾。特别优选钾阳离子的含量为至多15cat.-％、进一步优选至多13cat.-％、仍更优选至多12cat.-％。
已经发现，通过在玻璃中同时使用钠和钾并保持以cat.-％计的钠与钾的比例在至多5、更优选至多4.5、更优选至多3.5、优选至多2.0、最优选小于1.6的范围内可以降低玻璃的浸出趋势。保持该比值较低(即钠相对于钾的量不超过一定量)提供了具有良好熔融性和出色的耐化学品性和耐水解性的玻璃。具体地，这种玻璃可以具有根据ISO 719：1989的HGB1。然而，为了将熔体中的粘度调节至期望的值，钠与钾的比值应当大于0.5、优选地大于0.7、并且优选地大于0.7、最优选至少0.8。
碱土金属阳离子改善了玻璃的熔融性，因此允许更经济的生产。在玻璃的生产过程中，它们充当助熔剂。玻璃中碱土金属阳离子镁、钡和钙的总量可以为0至15cat.-％。碱土金属离子会影响玻璃的耐化学品性，在离子交换处理方面几乎没有积极作用。因此，在本发明中，玻璃可以不含碱土金属离子。特别优选的是玻璃中的碱土金属阳离子的总量为至多13cat.-％、进一步优选至多10cat.-％、仍更优选至多5cat.-％、最优选至多1cat.-％。此外，碱土金属阳离子和锌阳离子可用于调节玻璃的粘度，特别是用于粘度-温度曲线的微调。此外，碱土金属阳离子和锌阳离子-与碱金属阳离子一样-可用作助熔剂。玻璃可以不含选自镁阳离子、钙阳离子、锶阳离子、钡阳离子和锌阳离子的至少一种阳离子。优选地，玻璃不含镁阳离子、钙阳离子、锶阳离子和钡阳离子。
在玻璃中，可以包含比例为0至10cat.-％的镁阳离子。特别优选镁阳离子的含量为至多8cat.-％、更优选至多6cat.-％。在优选实施例中，玻璃不含镁。在玻璃中，钙阳离子的含量可以为0至9cat.-％。特别优选钙阳离子的含量为至多8cat.-％、进一步优选至多3cat.-％。在优选实施例中，玻璃不含钙。在玻璃中，可以包含比例为0至4cat.-％的钡阳离子。特别优选钡阳离子的含量为至多4cat.-％、进一步优选至多3cat.-％、仍更优选至多2cat.-％、最优选至多1cat.-％。在优选实施例中，玻璃不含钡。在优选实施例中，玻璃不含锶。
在玻璃中，可以包含比例为0至7cat.-％的锌阳离子。锌阳离子可以作为另外的助熔剂包含在玻璃中，也可以有针对性地调整熔点。通过添加网络改性剂锌，可以降低玻璃的熔点。在优选实施例中，玻璃包含至少1cat.-％的锌、更优选至少2cat.-％的锌、更优选至少3cat.-％的锌。但是，锌阳离子含量过高可能会导致玻璃熔点降低。
特别优选锌阳离子的含量为至多6cat.-％、进一步优选至多5cat.-％。
在玻璃中，可以包含比例为0至5cat.-％的钛阳离子。钛阳离子可以添加到玻璃中以改善其光学性能。特别地，借助于钛的添加，可以有针对性地调节玻璃的折射率。因此，折射率随着玻璃中钛阳离子含量的增加而增加。钛阳离子的添加还具有另一优点：通过该措施，玻璃的透射光谱的UV边缘被偏移至较高的波长，其中当添加更多的钛时，该偏移较高。在优选实施例中，玻璃包含至少0.1cat.-％的钛、更优选至少0.5cat.-％的钛、更优选至少1cat.-％的钛、最优选至少2cat.-％的钛。然而，钛阳离子的含量太高可导致玻璃不希望的结晶。钛阳离子可增加玻璃的折射率。尤其是与锆阳离子一起，钛阳离子会降低在蓝色光谱范围内的透射率，因此可能会使UV边缘偏移到更长的波长中。因此，特别优选钛的含量为至多5cat.-％、进一步优选至多4cat.-％。
本发明人惊奇地发现，当将锌阳离子与钛阳离子的摩尔比保持在有利范围内时，可以进一步提高耐水解性、耐酸性和耐碱性。玻璃中锌阳离子与钛阳离子的摩尔比优选为至多5、更优选为至多4、更优选为至多3。更优选，玻璃中锌阳离子与钛阳离子的摩尔比在0.1到3.0之间的范围内。更优选地，玻璃中锌阳离子与钛阳离子的摩尔比为至少0.5、更优选为至少0.8、更优选为至少1.0、更优选为至少1.2。玻璃中的锌阳离子与钛阳离子的摩尔比优选为至多2.5、更优选为至多2.2、更优选为至多2.0、进一步优选为至多1.7、进一步优选为至多1.6。
在玻璃中，可以包含比例为0至3cat.-％的锆阳离子。锆阳离子可用于调节玻璃的折射率。但是，锆阳离子的含量过高会降低熔融性，特别是导致玻璃的结晶性变强。特别优选锆的含量为至多2cat.-％、进一步优选至多1cat.-％、仍更优选至多0.5cat.-％。在优选实施例中，玻璃不含锆。
形状和大小
无机材料层的厚度优选小于或等于400μm、优选小于或等于330μm、还优选小于或等于250μm、进一步优选小于或等于210μm、优选小于或等于180μm、还优选小于或等于150μm、更优选小于或等于130μm、更优选小于或等于100μm、更优选小于或等于80μm、更优选小于或等于70μm、进一步优选小于或等于50μm、进一步优选小于或等于30μm、甚至优选小于或等于10μm。厚度可以为至少5μm。这样的特别薄的层对于如上所述的各种应用是期望的。特别地，薄的厚度在层上赋予柔性。
根据有利的实施方式，无机材料层(例如玻璃层)可以是平坦的层和/或柔性的层和/或可变形的层。“平坦”层可以例如是基本上平面的或平面的层。然而，在本发明的意义上，“平坦”还包括在二维或三维上可变形或已变形的物品。优选无机材料层具有基本均匀的厚度。无机材料层可具有不大于10μm、或小于5μm或小于1μm的总厚度变化(TTV)。在优选实施例中，至少第一无机材料层满足该TTV要求。在实施例中，至少一个另外的无机材料层不满足该实施例，但是其中包括厚度减小的区域。这在另外的无机材料层中提供了增加的柔性，同时在第一无机材料层中具有优异的表面特性。
如前所述，无机材料层优选非常薄。无机材料、特别是具有一定脆性的材料具有在应力作用下破碎的趋势。为了降低无机材料层破碎的趋势，本发明提供了可以应用于无机材料层的措施。通常，无机材料层具有在相对侧上的两个平行的主表面和连接两个主表面的边缘部分。为了降低破碎的可能性，边缘部分的至少一部分包括凸曲率，使得至少一个主表面合并到边缘部分的一部分中。边缘部分的一部分可以具有带弧长的曲率，该弧长为无机材料层的厚度的至少1/30、至少1/20或至少1/10。边缘部分的一部分可以在凸曲率的区域中包括凹槽形式的凹痕。凹槽的长度可以大于它们的宽度和/或深度。借助于边缘部分上的多个凹槽，在边缘部分的表面上存在或形成的任何裂纹都相互影响，从而使得裂纹尖端处的张力强度减小，从而提高了层的整体稳定性。因此，在无机材料层的边缘部分上形成如上所述的曲率将提高保护盖在弯曲或折叠期间的稳定性。
凹槽的深度可以是至少10nm并且至多5μm、优选地至多2μm或至多1μm。可以通过使用具有相应磨料粒度的磨料工具来制造凹槽。边缘部分具有凸曲率的部分可以被赋予曲率半径，该曲率半径是拟合于曲率的弧的起点、中间和终点的圆的半径。根据优选实施例，该半径是无机材料层的厚度的至少1/40、至少1/30或至少1/20。为了无机材料层的稳定性，甚至更大的半径是有用的。因此，拟合的圆的半径可以是无机材料层的厚度的至少1/10或1/5、甚至一半。在其他实施例中，拟合的圆的半径可以大于无机材料层的厚度。
在某些实施例中，边缘部分的一部分可以与无机材料层的主表面的区域相邻。在边缘部分的一部分和主表面的区域彼此相邻的情况下，曲率半径可以较小。在实施例中，边缘部分的一部分的切线与主表面相邻的区域的切线之间的角度可以最高45°、最高20°或最高10°。通过这种较小的半径和形成边缘线，相邻表面的斜率变化非常快。
为了减少裂纹在无机材料层中的扩展，优选地，凹槽以不同的方向取向，例如彼此倾斜和/或垂直。凹槽可以彼此交叉。
粘合剂层
本发明的保护盖包括无机材料层和粘合剂层。粘合剂层可以用于将保护盖固定到电子设备的显示屏上，或者促进保护盖粘附到显示屏的其他部分和/或粘附到保护盖的其他层上，例如另外的无机材料层或一个或多个聚合物层上。在可移动的保护盖的情况下，在使用之前，粘合剂层可以被覆盖片覆盖。在将保护盖安装到电子设备的显示屏上之前，可以撕下覆盖片。覆盖片可以由诸如塑料的聚合物材料制成。
粘合剂层可以直接位于无机材料层上。在某些实施例中，可以在粘合剂层和无机材料层之间设置另外的一个或多个层，例如在下面描述的聚合物层和/或在聚合物层和无机层之间的另外的粘合剂层，例如OCA(光学透明的粘合剂)层和/或有机硅层。换句话说，在实施例中，保护盖包括以下顺序的层：无机材料层、另外的粘合剂层、聚合物层、粘合剂层。粘合剂层可以包括单层或多层粘合剂或由其组成。
保护盖在电子设备的显示屏例如聚酰亚胺显示屏上的粘合强度优选在0.01N/25mm至0.3N/25mm、优选在0.03N/25mm至0.29N/25mm、更优选在0.05N/25mm至0.26N/25mm的范围内。
可以通过粘合剂层将保护盖固定至电子设备的显示屏，其中粘合剂层直接地或利用至少一个中间聚合物层将无机材料层固定至电子设备的显示屏。必要时，可以在无机材料和/或显示屏上使用粘合促进剂或粘结剂，以确保无机材料与显示屏、或无机材料与保护盖的其他层(例如聚合物层和/或另外的无机材料层)粘结。适用于该目的的粘合促进剂是例如有机硅或OCA、取代的硅烷或六甲基二硅氮烷，但也可以使用环氧化物涂层。
当选择粘合促进剂以及用于可选的聚合物层的粘合剂和聚合物时，必须确保它们不会过多地降低光的透射。此外，它们优选应具有与玻璃相似的折射率。由于玻璃在整个使用寿命中都会弯曲，因此固定在其上的聚合物具有非常低的开裂和应力变白的趋势非常重要。
粘合剂层可以包括诸如粘合剂聚合物等的粘合剂或由其组成。粘合剂优选选自OCA、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、聚苯乙烯、有机硅和环氧化物。它们可以是压敏型、反应型或热熔型的。压敏型的优点是，在损坏的情况下可以很容易地更换保护盖，而其他类型提供了更可靠的粘结。在实施例中，粘合剂层提供保护盖的各层之间的粘合和/或保护盖的结构稳定性。本文公开的许多聚合物能够提供这些和其他功能，例如本文公开的那些作为聚合物层的聚合物。
粘合剂层的厚度优选小于无机材料层的厚度。在保护盖中存在聚合物层的情况下，粘合剂层优选也比聚合物层薄。粘合剂层的厚度优选在小于100μm、小于80μm、小于60μm、小于40μm或小于20μm或甚至小于10μm的范围内。可以将粘合剂层涂覆、印刷或层压到无机材料层或聚合物层上。粘合剂层可以基本上完全覆盖无机材料层或聚合物层，即粘合剂层可以覆盖无机材料层或聚合物层的表面的程度至少为50％、至少60％、至少70％、至少80％、至少90％、至少95％或至少99％。
聚合物层
本发明的保护盖可以包括在无机材料层和粘合剂层之间的聚合物层。在实施例中，保护盖完全按照如此顺序包括无机材料层、聚合物层和粘合剂层，而其间没有任何其他层。在实施例中，在无机材料层和聚合物层之间可以存在另外的层，该另外的层包含促进聚合物层的聚合物与无机材料层的无机材料之间的粘结的粘结剂。
通常，聚合物层的聚合物应与无机材料和粘合剂层具有良好的相容性。在优选实施例中，聚合物层的聚合物的水滴接触角与无机材料的水滴接触角相差小于30°、小于20°、小于10°。接触角可以通过使用商用接触角测试机来测量。
聚合物中间层主要用于两个目的。一方面，它为相对较脆的无机层提供机械增强。另一方面，在无机层破碎的情况下，通过固定碎片和颗粒，其将用作安全装置。因此，需要对无机材料有非常好的粘附性，即高的剥离力，以及良好的抗撕裂传播性和耐穿刺性。然而，粘合剂层应允许保护盖再次从电子设备的显示屏上剥离，例如，在无机材料破碎的情况下。聚合物层的聚合物优选选自聚苯乙烯(PS)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、乙二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PETG)、聚(乙烯乙酸乙烯酯)(EVA)、聚碳酸酯(PC)、聚酰亚胺(PI)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、热塑性聚氨酯(TPU)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，更优选聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、热塑性聚氨酯(TPU)、乙二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PETG)、聚(乙烯-乙酸乙烯酯)(EVA)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、环氧树脂或它们的组合。
可以将聚合物层层压到无机材料层上。在另一个实施例中，可以将聚合物层涂覆到无机材料层上。聚合物层可以基本上完全覆盖无机材料层，即，聚合物层覆盖无机材料层的表面的程度为至少50％、至少60％、至少70％、至少80％、至少90％、至少95％或至少99％，任选地在其间具有一层或多层附加层。
根据有利的实施例，聚合物层的厚度为至少1μm、优选为至少5μm、进一步优选为至少10μm、更优选为至少20μm、最优选为至少40μm，以达到所需的抗性。聚合物层的厚度的上限可以是250μm、200μm、150μm或100μm。
聚合物层可以被层压到无机材料层上，或者其可以被印刷或涂覆。层压可以通过不同的已知方法进行。
作为上述聚合物的附加或替代，用于聚合物层的聚合物材料可以选自例如有机硅聚合物、溶胶-凝胶聚合物、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚酰亚胺(PI)、无机二氧化硅/聚合物混合物、环烯烃共聚物、聚烯烃、有机硅树脂、聚乙烯(PE)、聚丙烯、聚丙烯聚氯乙烯、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、热塑性聚氨酯树脂(TPU)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺(PA)、聚缩醛、聚苯醚、聚苯硫醚、氟化聚合物、氯化聚合物、乙烯-四氟乙烯(ETFE)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚氯乙烯(PVC)、聚偏二氯乙烯(PVDC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、由聚四氟乙烯制成的三元共聚物、由六氟丙烯制成的三元共聚物和偏二氟乙烯(THV)或由聚氨酯制成的三元共聚物或其混合物。可以通过任何已知的方法将聚合物层施加到无机材料层上。
根据一个实施例，将聚合物层涂覆在无机材料层上。保护层的涂层可以通过任何已知的涂覆方法来施加，例如化学气相沉积法(CVD)、浸涂、旋涂、喷墨、流延、丝网印刷、喷涂和喷射。然而，本发明不限于那些程序。合适的涂覆材料也是本领域已知的。例如，它们可以包含硬质塑料反应树脂，即，选自酚醛塑料、酚醛树脂、氨基塑料、脲醛树脂、三聚氰胺甲醛树脂、环氧化物树脂、不饱和聚酯树脂、乙烯基酯树脂、酚丙烯酸酯树脂、邻苯二甲酸二烯丙基树脂、有机硅树脂、交联聚氨酯树脂、聚甲基丙烯酸酯反应树脂和聚丙烯酸酯反应树脂的聚合物。
另外的无机材料层
保护盖可以包括至少一个另外的无机材料层，例如第二无机材料层。该另外的层可以赋予保护盖更大的机械强度。在实施例中，该层由根据上述玻璃组合物I或II的玻璃组成。
在一个实施例中，另外的无机材料层由含碱玻璃组成，例如碱金属铝硅酸盐玻璃、碱金属硅酸盐玻璃、碱金属硼硅酸盐玻璃、碱金属铝硼硅酸盐玻璃、碱金属硼玻璃、碱金属锗酸盐玻璃、碱金属硼锗酸盐玻璃、碱石灰玻璃及其组合。另外的无机材料层是可弯曲的或甚至可折叠的。通常，保护盖的外层由于弯曲或折叠或冲击应力而承受拉应力。
另外的无机材料层的厚度可以小于700μm、小于500μm、小于300μm、小于250μm、小于200μm、小于150μm、小于100μm、小于75μm、小于70μm、小于50μm、小于30μm或小于15μm。层越厚，机械稳定性越高。层越薄，弯曲和折叠的能力就越高。
另外的无机材料层的维氏硬度HV0.2/25可以为400至800MPa。增韧的另外的无机材料层的维氏硬度HV0.2/25可以为450至1000MPa。未增韧的另外的无机材料层的努氏硬度HK0.1/20可为350至750MPa。增韧的另外的无机材料层的努氏硬度HK0.1/20可为400至800MPa。
在某些实施例中，另外的无机材料层的厚度可以小于0.175mm、小于0.145mm、小于0.1mm、小于0.07mm或甚至小于0.05mm。
对于另外的无机材料层的材料，可以期望与所述第一无机材料层相同的性质，例如抗弯强度、碱浸出因子和酸浸出因子。
在实施例中，保护盖包括设置在第一和第二无机材料层之间的粘合剂层和/或聚合物层。
在实施例中，保护盖包括第一无机材料层和第二无机材料，其中聚合物层设置在两个无机材料层之间。粘合剂层可以进一步设置在聚合物层和每个无机材料层之间。设置在第一无机材料层和聚合物层之间的粘合剂层可以是OCA层。设置在第二无机材料层和聚合物层之间的粘合剂层可以是有机硅层。
第一无机材料层可以非常薄，例如10至150μm、或25至100μm、或30至70μm或约50μm。该第一无机材料层可以被化学增韧。由于其非常小的厚度，该层可以具有非常高的柔性，包括弯曲和/或折叠的能力。
第二无机材料层可以比第一无机材料层厚。其厚度可以在50μm至300μm、或75μm至200μm、或90μm至150μm的范围内。第二无机层具有足够的柔性，但是也为保护盖提供了机械强度。在实施例中，第二无机材料层是可向内折叠的保护盖的一部分，即，当折叠盖时，第二无机材料层在保护盖的被拉伸的一侧上。较厚的玻璃对压缩非常敏感，而对拉伸则不太敏感。因此，可以利用第二无机材料层的机械强度，并受益于第一无机材料层的极低厚度。
在实施例中，可以使用一个或多个粘合剂层和/或聚合物层来层压第一和第二无机材料层。第一无机材料层可以具有大约50μm的厚度，并且第二无机材料层可以具有大约100μm的厚度。在另一个实施例中，保护盖恰好具有一个无机材料层，该无机材料层可以比具有不止一个无机材料层的保护盖中的第一无机材料层厚。在该实施例中，无机材料层可以具有大于100μm或大于120μm的厚度。
粘合剂层可以包括聚合物或由聚合物组成，例如以上提到的用于粘合剂层和/或用于聚合物层的聚合物之一。聚合物层可以包括聚合物或由聚合物组成，例如上述用于聚合物层的聚合物之一。粘合剂层和/或聚合物层可以非常薄，例如小于100μm、或者小于70μm、或者小于50μm、或者小于30μm、或者小于15μm或者甚至小于5μm。该层可用于将第一无机材料层牢固地附接到第二无机材料层。粘合剂层中的聚合物可以为该层提供足够的柔性，以使保护盖能够弯曲和折叠。第二粘合剂层可以设置在第二无机材料层的另一侧上，以便于将保护盖附接到显示屏和/或电子设备。
为了提高第一和/或第二无机材料层弯曲和折叠的能力，该层可以包括一个或多个厚度减小的区域。一个或多个厚度减小的区域可以布置在弯曲轴线处或附近。弯曲轴线在无机材料层的表面延伸，在弯曲过程中此处的拉应力达到峰值。弯曲轴线可以位于保护盖的内部，例如在无机材料层的表面上沿宽度方向延伸。在实施例中，厚度减小的区域可以具有细长的形状，即，其长度远大于该区域的宽度，例如无机材料中的一个或多个凹槽、间隙或沟槽。厚度减小的区域可以切割或磨成材料。厚度减小的区域可以在基本上平行于弯曲轴线和/或基本上垂直于保护盖的纵向轴线的方向上取向。厚度减小的区域可以存在于面向显示屏和/或电子设备的一侧，以便提供对向内可折叠地保护盖的弯曲性和/或折叠性的最佳效果。在实施例中，厚度减小的区域可以布置在无机材料层的背向第一无机材料层与周围空气的界面的一侧上。
第一无机材料层和/或第二无机材料层可以具有多个厚度减小的区域，这些区域以基本上平行于相应层的弯曲轴线的凹槽、沟槽或间隙取向的形式。多个可以包括至少2个、至少4个、至少6个、至少10个、至少15个或至少20个厚度减小的区域。在实施例中，凹槽、间隙或沟槽具有非常小的宽度，例如最大宽度小于1mm、或者小于100μm、或者小于10μm、或者小于1μm、或者小于0.4μm、或小于0.2μm。保护盖的使用者几乎看不见非常薄的厚度减小的区域。厚度减小的区域(例如凹槽、间隙或沟槽)可以在相应的无机材料层的宽度的至少40％的部分上延伸，或者在该层的至少60％、或至少80％或至少90％的部分上延伸。在实施例中，一个或多个或所有间隙、沟槽或凹槽在相应层的整个宽度上延伸。在间隙的情况下，这将导致第一和/或第二无机材料层的分段，其中不同的段形成被间隙隔开的细长的无机材料条。这可以提供优异的柔性和弯曲性。聚合物和/或粘合剂层可以将条保持在适当的位置。
本发明包括恰好具有一个无机材料层的保护盖的实施例。在这些实施例中，在一个无机材料层中可以存在如本文所述的一个或多个厚度减小的区域。在仅具有一个无机材料层的实施例中，该层可以比具有一个以上无机材料层的保护盖中的层厚，例如大于100μm或大于120μm。
在实施例中，第一和/或第二无机材料层可以包括厚度减小的区域，其中，该厚度减小的区域特征在于第二无机材料的厚度沿弯曲轴线的方向连续减小，其中在弯曲轴线的方向上可以实现最小的厚度。因此，在需要弯曲的弯曲轴线处，弯曲性最高。最高厚度可以在第二无机材料层的最远离弯曲轴线的部分处。
例如，可以通过抛光、刻痕、切割(例如激光切割)、研磨和/或蚀刻来实现厚度减小。任选地，在进行任何研磨和/或切割之后，可以蚀刻所得的凹槽、沟槽、裂纹和/或凹痕。蚀刻适合使任何裂纹或尖锐边缘光滑，从而使该层不易损坏。
在另一个实施例中，保护盖可以包括具有相对较大厚度的单个无机层，该厚度例如为100μm至300μm、或150μm至250μm、或175μm至225μm。如上所述，通过并入厚度减小的区域，第一无机层可以具有改善的弯曲性。厚度减小和弯曲性改善的区域可以包括具有小于100μm、例如小于70μm、例如小于50μm或小于30μm的厚度的区域。这些区域可以在无机材料层的与弯曲轴线的区域相对应的中心部分上延伸。该区域可以例如覆盖无机材料层和/或保护盖的1％至10％。
通常，厚度减小的区域可能导致无机材料层的破碎。如果无机材料层或破碎后获得的无机材料层的各部分通过粘合剂层和/或聚合物层牢固地附接在一起，使得它们在破碎后仍留在原处，则这可能是预期的效果。导致无机材料层在第一次弯曲时破碎的实施例的优点在于，保护盖将具有几乎无限的柔性。在这种情况下，具有厚度减小的非常薄且笔直的区域是有用的，在此处无机材料层可能会破碎，从而在破碎后在材料中仅产生非常薄的且笔直的间隙，从而不会产生看起来破碎的盖。例如，这可以通过刻痕来实现。
在凹槽或沟槽的情况下，可以通过刻痕在无机材料层中形成厚度减小的区域。在US2017/0217817 A1中描述了对厚度减小的区域进行刻痕的有利方式，该美国专利通过引用结合在本文中，如同在此被完整阐述。附加地或替代地，可以使用在US2016/0185647 A1中描述的刻痕方法来进行刻痕，该文献通过引用被结合于本文中，如同在此被完整阐述。附加地或可替代地，可以使用在US2016/0152506 A1中描述的刻痕方法来进行刻痕，该文献通过引用被结合于本文中，如同在此被完整阐述。刻痕方法对于产生厚度减小的区域特别有用，该厚度减小的区域在第一次弯曲时导致无机材料层的破碎。在实施例中，可能需要在首次弯曲保护盖之前沿刻痕线引起破碎。在这种情况下，可以通过在刻痕线中添加诸如酒精的液体并加热以引起无机材料沿着刻痕线破碎来迫使刻痕线破碎。这种方法导致用肉眼基本上看不见的非常细小的间隙。
在实施例中，厚度减小的区域是无机材料中的间隙。这些间隙可通过对无机材料进行刻痕、然后沿着刻痕线在无机材料中形成间隙(例如使用如上所述的液体)来形成。另外，如上所述，可以使用激光切割来形成间隙。
厚度减小的区域可以部分或完全填充有相似折射率nd的材料，例如具有与无机材料的折射率相差不超过0.3或不超过0.2或不超过0.1的折射率的材料。将折射率保持在该范围内改善了保护盖的光学外观。合适的材料可以选自上述用于聚合物和/或粘合剂层的材料。
生产保护盖
本发明还提供了一种根据本发明的保护盖的制造方法，包括以下步骤：
-提供无机材料层，以及
-在无机材料层上附接粘合剂层。
将粘合剂层附接到无机材料层可以包括用粘合剂层涂覆无机材料层。在保护盖包括聚合物层的情况下，粘合剂层可以附接至聚合物层，或涂覆至聚合物层。在保护盖包括任何另外的无机材料层的情况下，粘合剂层可以附接至另外的无机材料层，或者涂覆至另外的无机材料层。可以将聚合物层涂覆到第一和/或任何另外的无机材料层上，或者可以将其层压到无机材料层上。聚合物层可以直接或间接地附接或涂覆到无机材料层上。中间层(例如另外的粘合剂层，例如OCA层)可以附接或涂覆到无机层和/或聚合物层上。可以使用任何已知的涂覆方法进行涂覆，例如化学气相沉积法(CVD)、浸涂、旋涂、喷墨、流延、丝网印刷、喷涂和喷射。
一种优选的方法包括以下步骤：基于本文给出的期望参数，例如根据以上讨论的砂纸按压测试和/或砂纸落球测试测量的那些参数，通过选择无机材料层来提供一个或多个无机材料层。
优选地，本发明的保护盖中的一个或多个无机材料层可以是玻璃层，例如超薄玻璃(UTG)层。这种层可以通过由较厚的玻璃抛光而产生。然而，这种方法不经济并且导致不良的表面质量，该表面质量例如通过Ra粗糙度来量化。
对于批量生产，优选直接热成型生产，例如下拉或溢流熔融法。重拉方法也是有利的。这些提及的方法是经济的，并且玻璃表面质量高，并且可以生产厚度为5μm(甚至更少)至500μm的玻璃。例如，下拉/溢流熔融法使原始或火抛光的表面的粗糙度Ra小于5nm、小于2nm或小于1nm。厚度也可以被精确地控制在5μm和500μm的范围内。薄的厚度使玻璃具有柔性。特殊的浮法可以生产具有原始表面的玻璃，既经济又适合批量生产，但是浮法生产的玻璃的锡面与另一面不同。两面之差会在化学增韧后导致玻璃翘曲，并且由于两面具有不同的表面能，因此会影响任何印刷或涂覆过程。玻璃层的另一种变体可以通过从厚玻璃锭、条、块等中锯出玻璃物品来生产。
可选的强化(也称为增韧)可以通过将玻璃浸入具有钾离子的熔融盐浴中或用含有钾离子或其他碱金属离子的糊剂覆盖玻璃并将其加热至高温经过一定时间来完成。在玻璃层中，盐浴或糊剂中具有较大离子半径的碱金属离子与具有较小半径的碱金属离子交换，并且由于离子交换而形成表面压应力。
可以用作无机材料层的化学增韧的玻璃层是通过对化学可增韧的玻璃层进行化学增韧而获得的。可以通过将玻璃层浸入含有一价离子并与玻璃内部的碱金属离子交换的盐浴中来进行增韧过程。盐浴中的一价离子半径大于玻璃内部的碱离子半径。离子交换后，由于较大的离子挤入玻璃网络，因此对玻璃产生了压应力(CS)。离子交换后，玻璃的强度和柔性出乎意料地显著提高。另外，化学增韧引起的CS提高了增韧玻璃层的弯曲性能，并且可以提高玻璃的耐刮擦性。
用于化学增韧的最常用的盐浴是含Na+或含K+的熔融盐或其混合物。常用的盐是NaNO3、KNO3、NaCl、KCl、K2SO4、Na2SO4、Na2CO3和K2CO3。诸如NaOH、KOH和其他钠盐或钾盐之类的添加剂可用于在化学增韧期间更好地控制离子交换的速度、CS和DoL。含Ag+或含Cu2+的盐浴可用于向玻璃添加抗微生物功能。
化学增韧不限于单个步骤。它可以包含在具有不同浓度的碱金属离子的一个或多个盐浴中的多个步骤，以达到更好的增韧性能。因此，化学增韧玻璃层可以在一个步骤中或在几个步骤(例如两个步骤)的过程中被增韧。
化学增韧玻璃层可以仅具有一个表面(第一表面)，在该表面处存在从第一表面延伸到玻璃层中的第一深度的压应力区域，其中该区域由压应力限定。在这种情况下，玻璃层仅包括一个增韧面，在本发明的保护盖的情况下，该增韧面可以是背向粘合剂层的面。优选地，玻璃层可以包括从第二表面延伸到玻璃层中的第二深度(DoL)的第二压应力区域，该区域由压应力限定，其中第二表面处的表面压应力(CS)为至少100MPa。第二表面与第一表面相对。因此，该优选的玻璃层在两面都被增韧。
压应力(CS)主要取决于玻璃的组成。较高含量的Al2O3有助于获得较高的压应力。为了达到平衡的玻璃热成形能力和化学增韧性能，表面压应力优选低于1200MPa。增韧后，玻璃应具有足够高的压应力以实现高强度。因此，优选在第一表面和/或第二表面处的表面压应力等于或大于100MPa、优选地等于或大于200MPa、更优选地等于或大于300MPa、还优选地等于或大于400MPa、进一步优选等于或大于500MPa。在特别优选实施例中，表面压应力等于或大于600MPa、进一步优选地等于或大于700MPa、更优选地等于或大于800MPa。当然，在第一表面上的CS和在第二表面上的CS可以基本相同或可以不同。
通常，DoL取决于玻璃组成，但是随着增韧时间和增韧温度的增加，其可以几乎无限地增加。确定的DoL对于确保增韧玻璃的稳定强度很重要，但是过高的DoL会增加无机材料层在压应力下的自破碎率和强度性能。
因此，根据本发明的变型，可以将DoL控制为非常低(低DoL变体)。为了达到规定的低DoL，降低了增韧温度和/或增韧时间。根据本发明，较低的增韧温度可能是优选的，因为DoL对温度更敏感，并且在批量生产期间容易设定较长的增韧时间。然而，减少增韧时间也是可能的，从而降低玻璃层的DoL。
本发明人已经发现，如果玻璃层的DoL(以μm为单位)在0.5μm至150*t/CSμm(t以μm为单位，CS＝在第一表面处测量的表面压应力(以MPa为单位)的数字)的范围内，则对于玻璃层的应力分布将是有利的。优选地，玻璃层的DoL(以μm为单位)在0.5μm至120*t/CSμm的范围内、优选地在1μm至120*t/CSμm的范围内(t以μm为单位，CS＝在第一表面处测量的表面压应力(以MPa为单位)的数字)，进一步优选DoL(以μm为单位)在0.5μm至90*t/CSμm的范围内、优选1μm至90*t/CSμm(t以μm为单位，CS＝在第一表面处测量的表面压应力(以MPa为单位)的数字)。一些有利的实施例的DoL(以μm为单位)可以在0.5μm至60*t/CSμm的范围内、优选地在1μm至60*t/CSμm的范围内(t以μm为单位，CS＝在第一表面处测量的表面压应力(以MPa为单位)的数字)。其他有利的实施例的DoL(以μm为单位)可以在0.5μm至45*t/CSμm的范围内、优选地在1μm至45*t/CSμm的范围内(t以μm为单位，CS＝在第一表面处测量的表面压应力(以MPa为单位)的数字)。其他有利的实施例的DoL可以在0.5μm至27*t/CSμm的范围内(以μm为单位)、优选地在1μm至27*t/CSμm的范围内(t以μm为单位，CS＝在第一表面处测量的表面压应力(以MPa为单位)的数字)。在上面给出的计算中，“x*t/CS”表示x乘以玻璃层的厚度，再除以所测量的表面CS的数字，其中x可以是150、120、90、60、45或27。
DoL的有利值分别取决于各个玻璃层的玻璃组成、厚度和施加的CS。通常，根据上述有利实施例的玻璃层具有相当低的DoL。通过降低DoL，CT会降低。如果尖锐的物体在这样的实施例上施加高压力，则引起的缺陷将恰好在玻璃表面上。由于CT显著降低，所引起的缺陷无法克服玻璃层的内部强度，因此玻璃层不会破碎成两块或几块。这种具有低DoL的玻璃层具有改善的耐尖锐抗压性(sharp press resistance)。
根据本发明的另一个变体，玻璃层的DoL可能非常高(高DoL变体)。如果玻璃层的DoL(以μm为单位)在27*t/CSμm至0.5*tμm(t以μm为单位，CS＝在第一表面处测得的表面压应力(以MPa为单位)的数字)的范围内、更优选地DoL(以μm为单位)在45*t/CSμm至0.45*tμm(t以μm为单位，CS＝在第一表面处测得的表面压应力(以MPa为单位)的数字)的范围内、更优选地DoL(以μm为单位)在60*t/CSμm至0.4*tμm(t以μm为单位，CS＝在第一表面处测得的表面压应力(以MPa为单位)的数字)的范围内、更优选地DoL(以μm为单位)在90*t/CSμm至0.35*tμm(t以μm为单位，CS＝在第一表面处测量的表面压应力(以MPa为单位)的数字)的范围内，则可能是有利的。在上面给出的计算中，“y*t/CS”表示y乘以玻璃层的厚度，再除以所测量的表面CS的数字，其中y可以为27、45、60或90。“z*t”是指z乘以玻璃层的厚度，其中z可以是0.5、0.45、0.4或0.35。为了获得平衡的应力分布，这种玻璃层可以包括涂覆层和/或层压层。即使玻璃层的DoL很高，涂覆层和/或层压层也可以抵抗由尖锐物体在玻璃表面上引起的划痕缺陷。因此，本发明人已经发现，除了降低DoL之外，可以应用替代方法，以在玻璃层的一个或两个表面上沉积涂层/或层压聚合物层，以提高耐尖锐接触性。当然，具有低DoL的玻璃层也可以包括涂覆层和/或层压层。
根据本发明的有利实施例，增韧玻璃层的CT小于或等于200MPa、更优选小于或等于150MPa、更优选小于或等于120MPa、更优选小于或等于100MPa。一些有利的实施例可以具有小于或等于65MPa的CT。其他有利的实施例可以具有小于或等于45MPa的CT。一些变型甚至可能具有小于或等于25MPa的CT。这些CT值对于属于低DoL变体的玻璃层特别有利。
由于低的DoL，这些玻璃层的内部CT有所降低。CT降低会严重影响增韧玻璃层的耐压性。即使尖锐和坚硬的物体损坏了CT值非常低的玻璃层的增韧表面，该层也不会破碎，因为低CT值无法克服玻璃结构的内部强度。
替代地，对于属于高DoL变体的玻璃层，如果它们的中心拉应力(CT)大于或等于27MPa、进一步优选地大于或等于45MPa、进一步优选地大于或等于65MPa、进一步优选大于或等于100MPa，则可能是有利的。
如上所述，CS、DoL和CT取决于玻璃组成(玻璃类型)、玻璃厚度和增韧条件。
附图说明
图1示出了可用作本发明的保护盖中的无机层的超薄玻璃(UTG)。
图2示出了根据本发明的优选实施例的保护盖。
图3示出了没有任何其他层的无机层的弯曲行为。
图4示出了具有粘合剂层的无机层的弯曲行为。
图5示出了用于对未弯曲的保护盖进行落笔测试的测试设置。
图6示出了用于对弯曲的保护盖进行落笔测试的测试设置。
图7示出了具有厚度减小的区域的无机材料层的示例。
图8示出了具有厚度减小的区域的无机材料层的示例。
具体实施方式
图1示出了可以用作无机层2的超薄玻璃层，包括中性面5。根据定义，中性面是保护盖内的在弯曲后具有和弯曲前相同长度的平面。在优选实施例中，中性面位于无机层、聚合物层和/或粘合剂层内。在优选实施例中，相对于无机层的中间平面，中性面位于粘合剂层的方向上。该图中的无机层2显示为未弯曲状态。
图2示出了根据本发明的优选实施例的保护盖1。保护盖1具有可以是玻璃层的无机层2。可以使用光学透明粘合剂(OCA)层8将可选的聚合物层4(例如聚乙烯层)粘接到无机层2上。可以使用适合于将保护盖1可拆卸地附接到电子设备(例如智能手机上)的有机硅形成另一个粘合剂层3。在优选实施例中，OCA层8、聚合物层4和粘合剂层3的总厚度总计约0.1mm、优选为75μm至125μm。
图3示出了弯曲的无机层2。该层的厚度为t。外表面是拉伸表面6，其由于拉应力而伸长。内表面是压缩表面7，其由于压缩而缩短。中性面5朝着压缩表面7移动。
图4示出了与图3相似的情况，其中，当在无机层2上存在粘合剂层3时，中性面的移动甚至更多。中性面不应移出无机材料层2的压缩表面7，因为如果这样做，会在无机层2上施加压缩力，这可能产生负面影响，例如在盖玻璃和显示屏上产生外力。因此，通过计算如图3和4所示的曲线面积，拉伸表面6的应变可以小于4％。
图5示出了用于未弯曲的保护盖的落笔设置。保护盖包括无机层2和粘合剂层3。粘合剂层3通过中间层(即，以OCA层8的形式的另外的粘合剂层和聚合物层4)间接附接到无机层2上。粘合剂层3附接在钢板11上。进行圆珠落笔。为了简化结果，将0.5mm厚的钢板11替换为柔性智能电话。圆珠笔的重量约为5克。由碳化钨制成的笔12的圆珠的半径为0.35mm。落笔从10mm的高度开始。增加高度，直到保护盖破碎。落笔后无机层2破碎前的最大高度是落笔高度。测试了30个保护盖，并记录了平均落笔高度。
图6示出了用于已弯折或弯曲的保护盖的落笔。保护盖包括无机层2和粘合剂层3。粘合剂层3固定在无机层2上。粘合剂层3附接到钢板11上。进行圆珠落笔。为了简化结果，将0.5mm厚的钢板11替换为柔性智能电话。圆珠笔的重量约为5克。由碳化钨制成的笔12的圆珠的半径为0.35mm。弯曲半径为4mm。落笔高度为5mm。增加高度，直到保护盖破碎。落笔后无机层2破碎前的最大高度是落笔高度。测试了30个保护盖，并记录了平均落笔高度。
图7示出了无机材料层2，其可以在本发明的实施例中用作另外的无机材料层，例如第二无机材料层或第一无机材料层。附图的以下描述不限于所示的具体实施例，而是可以应用于具有一个或多个厚度减小的区域的本发明的所有实施例。无机材料层2也可以用作仅具有一个无机材料层的保护盖中的唯一无机材料层。无机材料层2具有多个厚度减小的区域13，其为凹槽或沟槽的形式。这些区域为无机材料层提供了柔性。厚度减小的区域可以设置在面向电子设备和/或粘合剂层的一侧，以便在层/空气界面处保持无机材料层的光滑表面。厚度减小的区域可以可选地填充有弹性材料，例如聚合物材料，例如环氧树脂-或上述用于聚合物层的任何其他材料，以保持无机材料层的抗冲击性和/或保持良好的光学外观。填充材料可具有与无机材料相似的折射率nd，例如与无机材料的折射率相差不大于0.3、或不大于0.2或不大于0.1的折射率。将折射率保持在该范围内将改善保护盖的光学外观。粘合剂层可以覆盖厚度减小的区域，以促进无机材料层与任何其他层或显示屏或电子设备的附接。厚度减小的区域可提供出色的柔性和/或弯曲性。
在替代实施例中，凹槽或沟槽在厚度方向上一直贯穿第一和/或第二无机材料层，从而在相应的层中形成间隙。
图8示出了具有厚度减小的区域13的第一或第二无机材料层2的另一示例。该图的以下描述不限于所示的具体实施例，而是可以应用于具有一个或多个厚度减小的区域的本发明的所有实施例。无机材料层2也可以用作仅具有一个无机材料层的保护盖中的唯一的无机材料层。最小厚度可以基本上是弯曲轴线所在的位置。在这种情况下，可以通过蚀刻制备厚度减小的区域。蚀刻部分可以具有矩形形状或其他凹形形状。如图所示，厚度减小的区域可以是弧形的。与厚度减小的矩形区域相比，厚度减小的弧形区域不易破碎。在实施例中，厚度减小的弧形区域具有沿着垂直于无机材料层的弯曲轴线的切割平面的横截面形状，其具有近似半圆形的形状，其中“半圆”包括的圆形段为相应圆的圆周的10％或20％或30％或40％至约60％。在实施例中，“半圆”涉及的圆形段为相应圆的圆周的约50％。在其他实施例中，厚度减小的弧形区域具有沿着垂直于无机材料层的弯曲轴线的切割平面的横截面形状，其具有近似半椭圆的形状，其中“半椭圆”包括的片段为相应椭圆的圆周的10％或20％或30％或40％至约60％。在实施例中，“半椭圆”涉及的片段为相应椭圆的圆周的约50％。椭圆具有长半轴和半短轴。在实施例中，短半轴在无机材料层的厚度方向上取向，并且长半轴平行于无机材料层的表面取向。在替代实施例中，长半轴在无机材料层的厚度方向上取向，而短半轴与无机材料层的表面平行。长半轴的长度可以至少为1.1*mi、或至少1.3*mi、或至少1.5*mi、或至少1.8*mi、甚至至少2*mi或至少3*mi，其中mi是椭圆的短半轴的长度。
厚度减小的区域可以进行边缘处理。厚度减小的区域的边缘是厚度减小的区域与无机材料层的表面相遇的地方。边缘处理可以包括蚀刻，从而获得圆形的边缘。这些圆形的边缘提高了无机材料的稳定性，并且在弯曲期间边缘接触无机材料层的相对侧的情况下可以避免破碎。
厚度减小的区域可以在平行于弯曲轴线的相应无机材料层的整个宽度上延伸，从而提供优异的柔性和/或弯曲性。厚度减小的区域可以在垂直于弯曲轴线并且平行于无机材料层的表面的方向上具有至少π*r的延伸，其中r是无机材料层在没有厚度减小的区域的情况下(例如在蚀刻厚度减小的区域之前)的破碎弯曲半径。
无机材料层具有最大厚度减少，其中其具有最小的厚度，以及具有半最大厚度减小，其中无机材料层的厚度相对于在同一无机材料层中存在的最大厚度减小而减小了50％的程度。在实施例中，在一个厚度减小的区域内最大厚度减小的区域和半最大厚度减小的区域之间的最小距离至少为π*r/2，其中r是无机材料层在没有厚度减小的区域的情况下的破碎弯曲半径。这样的物品将具有优异的弯曲性和/或折叠性，因为厚度减小的区域考虑了无机材料层的弯曲行为。在本发明的实施例中，最大厚度减小是无机材料层发生弯曲的地方，即在弯曲轴线处。在具有一个以上无机材料层的实施例中，最大厚度减小可总计为该层的原始厚度的100％，即，其可在无机材料层中形成间隙。
通常，最大厚度减小可为相应层的原始厚度的最高90％、或最高80％、或最高60％。通常，最大厚度减小可以是相应层的原始厚度的至少10％、或至少30％或至少40％。
优选地，最大厚度减小是在弯曲期间出现最大拉应力的地方。厚度减小的区域将优选地布置在无机材料层的压缩表面上，而拉应力出现在相对侧(拉伸表面)上。在发生弯曲的地方，拉伸表面上的拉应力最高。拉应力随着距弯曲轴线距离的增加而减小。优选地，对于厚度减小的情况下也是如此。在优选实施例中，在无机材料层的拉伸表面上的给定位置处的相对局部拉应力(相对于最大拉应力的百分比)对应于该位置处的相对厚度减小(相对于最大厚度减小的百分比)。例如，在弯曲过程中，在拉伸表面最接近弯曲轴线的地方，即在无机材料层优选具有最低厚度(最大厚度减小)的地方，弯曲期间的拉应力可以是最高的。在优选实施例中，拉伸表面上的拉应力为最大拉应力的约50％(即45％至55％)，其中无机材料层具有半最大厚度减小。
优选地，以百分比计的相对局部厚度减小与在弯曲期间在无机材料层的拉伸表面上的给定位置处的以百分比计的相对局部拉应力基本上相同，其中，弯曲包括使保护层弯曲直到破碎弯曲半径。在本文中，“基本上相同”是指相对局部拉应力(以％计)与相对局部厚度减小(以％计)的比值为0.8：1至1.2：1、更优选为0.9：1至1.1：1、特别是0.95∶1至1.05∶1。优选地，相对局部厚度减小与弯曲期间在无机材料层的拉伸表面上的每个位置处的相对局部拉应力基本上相同，其中弯曲包括将保护盖弯曲至破碎弯曲半径。
附图标记列表
1 保护盖
2 无机材料层
3 粘合剂层
4 聚合物层
5 中性面
6 拉伸表面
7 压缩表面
8 光学透明粘合剂
11 钢板
12 笔
13 厚度减小的区域
示例
示例1
根据本发明的优选实施例，在保护盖上进行落笔测试。如上文参考图5所述进行测试。
保护盖膜包括0.07mm的超薄铝硅酸盐玻璃作为无机材料层、OCA粘合剂层、PE的聚合物层和有机硅的粘合剂层。聚合物层、粘合剂层和有机硅层的总厚度为0.125mm。有机硅面粘在无机材料层上。OCA粘合剂层用于与柔性智能手机进行层压。保护盖膜的平均CS和DoL分别为650MPa和10μm。进行圆珠落笔。测试了30个保护盖，平均落笔高度约为50mm。另外，进行弯曲测试。测试了30个保护盖，弯曲半径为5mm。在室温且湿度为30％的情况下，所有保护层都可以通过100,000次，弯曲速度为60次/分钟。
示例2
根据本发明的优选实施例，在弯曲的保护盖上进行落笔测试。如上文参考图6所述进行测试。
保护盖膜包括0.07mm的超薄铝硅酸盐玻璃作为无机材料层、OCA粘合剂层、PE的聚合物层和有机硅的粘合剂层。聚合物层、粘合剂层和有机硅层的总厚度为0.125mm。有机硅面粘在无机材料层上。OCA粘合剂层用于与柔性智能手机进行层压。保护盖膜的平均CS和DoL分别为700MPa和8μm。进行圆珠落笔。弯曲半径为4mm。测试了30个保护盖，平均落笔高度约为60mm。
示例3
根据本发明的优选实施例，在保护盖上进行落笔测试。如上文参考图8所述进行测试。
保护盖膜包括0.21mm超薄铝硅酸盐玻璃作为无机材料层、OCA粘合剂层、PE的聚合物层和有机硅的粘合剂层。超薄玻璃的中央部分被HF酸蚀刻，移除的厚度为0.13mm。聚合物层、粘合剂层和有机硅层的总厚度为0.125mm。有机硅面粘在无机材料层上。OCA粘合剂层适用于与柔性智能手机进行层压。保护盖膜的平均CS和DoL分别为800MPa和10μm。因此，保护盖膜可以在蚀刻部分处以5mm的弯曲半径弯曲。在较厚的部分上进行圆珠落笔。测试了30个保护盖，平均落笔高度约为60mm。
Claims (59)
1.一种用于能弯曲和/或能折叠装置的保护盖，其包括
具有第一表面和第二表面的至少一个透明无机材料层；和
至少一个透明粘合剂层；
其中，所述无机材料层的热膨胀系数为1至10ppm/K；
其中，在所述第一表面和/或所述第二表面处，存在等于或大于600MPa的表面压应力；
所述无机材料层的厚度小于100μm；
其中，所述粘合剂层的厚度小于100μm；
所述无机材料层包括玻璃或玻璃陶瓷，其锂离子的含量为至多1cat.-％；
其中，所述保护盖是能弯曲的和/或能折叠的，并且具有垂直或平行于所述无机材料层的纵向轴线布置的弯曲轴线；以及
所述保护盖在破碎之后表现出小于10％的重量损失。
2.根据权利要求1所述的保护盖，其包括设置在所述透明无机材料层与所述粘合剂层之间的至少一个聚合物层。
3.根据权利要求2所述的保护盖，其中，所述聚合物层的热膨胀系数为1至15ppm/K。
4.根据权利要求2所述的保护盖，其中，所述无机材料层与所述聚合物层之间的和/或所述无机材料层与所述粘合剂层之间的热膨胀系数CTE之差小于15ppm/K。
5.根据权利要求2所述的保护盖，其中，所述聚合物层的厚度小于250μm。
6.根据权利要求1所述的保护盖，其中，所述无机材料层与所述粘合剂层的折射率nd之差小于0.3。
7.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述粘合剂层包括选自由OCA、丙烯酸酯、聚苯乙烯、有机硅、环氧化物及其混合物组成的组的粘合剂。
8.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述粘合剂层包括选自由OCA、甲基丙烯酸酯、聚苯乙烯、有机硅、环氧化物及其混合物组成的组的粘合剂。
9.根据权利要求2所述的保护盖，其中，所述聚合物层包括选自由以下各项组成的组的至少一种聚合物：有机硅聚合物、溶胶-凝胶聚合物、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚酰亚胺(PI)、无机二氧化硅/聚合物混合物、环烯烃共聚物、聚烯烃、有机硅树脂、苯乙烯-丙烯腈共聚物、热塑性聚氨酯树脂(TPU)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺(PA)、聚缩醛、聚苯醚、聚苯硫醚、氟化聚合物、氯化聚合物以及其混合物。
10.根据权利要求2所述的保护盖，其中，所述聚合物层包括选自由以下各项组成的组的至少一种聚合物：乙二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PETG)、聚(乙烯-乙酸乙烯酯)(EVA)、聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚乙烯(PE)、聚丙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、乙烯-四氟乙烯(ETFE)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚丙烯聚氯乙烯、聚氯乙烯(PVC)、聚偏二氯乙烯(PVDC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、由四氟乙烯制成的三元共聚物、由六氟丙烯制成的三元共聚物和由偏二氟乙烯(THV)或聚氨酯制成的三元共聚物以及其混合物。
11.根据权利要求2所述的保护盖，其中，所述聚合物层的聚合物的水滴接触角与所述无机材料的水滴接触角相差小于30°。
12.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述保护盖在2mm的厚度，在380至800nm的光谱范围内的50nm波长范围内的电磁辐射内部透射率大于25％。
13.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，所述保护盖在破碎之后表现出0.1至10mm范围内的粒径。
14.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，所述保护盖是可弯曲的和/或可折叠的，并且具有垂直于所述无机材料层的纵向轴线布置的弯曲轴线，其中，所述保护盖承受至少100,000次弯曲和/或折叠事件而不会破碎。
15.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，所述保护盖是可弯曲的和/或可折叠的，并且具有垂直于所述无机材料层的纵向轴线布置的弯曲轴线，其中，所述保护盖承受至少200,000次弯曲和/或折叠事件而不会破碎。
16.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层具有400至800MPa的维氏硬度。
17.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层具有大于6H的耐刮擦性。
18.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层在未弯曲状态下的落笔高度大于30mm。
19.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，当所述无机材料的弯曲半径大于4mm时，所述无机材料层在弯曲状态下的落笔高度与在未弯曲状态下的落笔高度之比不少于30％。
20.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层和/或所述保护盖的平均弯曲强度大于850MPa。
21.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层的无机材料具有至多20μmol/dm2的碱浸出因子。
22.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层的无机材料具有至多20μmol/dm2的酸浸出因子。
23.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，以mm为单位的所述无机材料层的破碎高度至少是以mm为单位的所述无机材料层的厚度乘以50的数字。
24.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，以mm为单位的所述无机材料层和/或所述保护盖的破碎弯曲半径小于以mm为单位的所述无机材料层的厚度乘以100,000并除以在表面测得的以MPa为单位的表面压应力的数字。
25.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层具有断裂韧性KIC、压应力CS、特征渗透深度xc和厚度d，其中，所述无机材料层符合以下等式：
其中，对于
其中，对于
B＝0，
其中，对于
B＝0，
其中，m＝1米，
其中，xc＞0μm，并且
其中，生存参数
大于250MPa。
26.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层的裂纹起始载荷为至少1.5N。
27.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层和/或所述保护盖的以N为单位的破碎力至少为所述无机材料层的以mm为单位的厚度乘以30的数字。
28.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层的无机材料选自包括、碱金属硅酸盐玻璃、碱金属硼玻璃、碱金属锗酸盐玻璃、碱金属钠钙玻璃及其组合的含碱玻璃。
29.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层的无机材料选自包括碱金属铝硅酸盐玻璃、碱金属硼硅酸盐玻璃、碱金属硼锗酸盐玻璃及其组合的含碱玻璃。
30.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层的无机材料为碱金属硼铝硅酸盐玻璃。
31.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层的无机材料是玻璃，该玻璃以cat.-％为单位、基于玻璃中阳离子的总摩尔量包括以下成分：硅40至75cat.-％、硼0至23cat.-％、铝0至20cat.-％、锂0至1cat.-％、钠0至25cat.-％、钾0至15cat.-％、镁0至10cat.-％、钙0至9cat.-％、钡0至4cat.-％、锌0至7cat.-％、钛0至5cat.-％、锆0至3cat.-％。
32.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层的无机材料是玻璃，该玻璃以cat.-％为单位、基于玻璃中阳离子的总摩尔量包括以下成分：硅48至60cat.-％、硼10.5至15.5cat.-％、铝2至8.5cat.-％、钠8至14cat.-％、钾5.5至13.5cat.-％、锌2至6cat.-％、钛1至5cat.-％。
33.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层具有在相对侧上的两个平行的主表面以及连接所述两个平行的主表面的边缘部分，其中，所述边缘部分的至少一部分包括凸曲率，使得至少一个主表面合并到所述边缘部分的所述部分中；其中，所述边缘部分的所述部分具有曲率，所述曲率的弧长为所述无机材料层的厚度的至少1/30。
34.根据权利要求33所述的保护盖，其中，所述边缘部分的所述部分包括在所述凸曲率的区域中的凹槽形式的凹口。
35.根据权利要求34所述的保护盖，其中，所述凹槽的深度为至少10nm且至多5μm。
36.根据权利要求1至6中的任一项所述的保护盖，其中，所述保护盖布置在电子设备的显示屏上；或者其中，所述保护盖是显示屏的组成部分；或者其中，所述保护盖构成电子设备的显示屏。
37.根据权利要求36所述的保护盖，其中，所述保护盖在电子设备的显示屏上的粘合强度如此使得所述保护盖能够被再次从所述显示屏上移除。
38.根据权利要求37所述的保护盖，其中，粘合强度在0.01N/25mm至0.3N/25mm的范围内。
39.根据权利要求37所述的保护盖，其中，所述显示屏是聚酰亚胺显示屏。
40.根据权利要求37所述的保护盖，其中，所述电子设备是智能电话、平板电脑、笔记本电脑、智能手环或任何其他手持式和/或便携式电子设备。
41.根据权利要求1至6中任一项所述的保护盖，包括设置在所述无机材料层和第二无机材料层之间的粘合剂层。
42.根据权利要求1至6中任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层的TTV不大于10μm。
43.根据权利要求1至6中任一项所述的保护盖，其中，所述无机材料层具有至少一个厚度减小的区域。
44.根据权利要求43所述的保护盖，其中，所述厚度减小的区域为凹槽、间隙或沟槽的形式。
45.根据权利要求43所述的保护盖，其中，所述厚度减小的区域基本上平行于所述保护盖的弯曲轴线延伸。
46.根据权利要求41所述的保护盖，其中，所述无机材料层的厚度为10至100μm。
47.根据权利要求41所述的保护盖，其中，所述第二无机材料层的厚度为100至300μm。
48.一种使用根据权利要求1至47中的任一项所述的保护盖的方法，其作为显示屏、作为显示屏的组成部分和/或用于保护显示屏，所述方法包括将所述保护盖施加到所述显示屏上的步骤。
49.根据权利要求48所述的方法，其中，所述显示屏为智能电话显示屏。
50.根据权利要求49所述的方法，其中，所述显示屏为聚合物智能电话显示屏。
51.根据权利要求48所述的方法，其中，所述显示屏为聚酰亚胺显示屏。
52.根据权利要求48所述的方法，其中，所述显示屏为可折叠显示屏。
53.根据权利要求48所述的方法，其中，所述显示屏为OLED显示屏。
54.一种用于制造前述权利要求1至47中的任一项所述的保护盖的方法，所述方法包括以下步骤：
-提供无机材料层；
-在所述无机材料层上直接或间接地附接粘合剂层。
55.根据权利要求54所述的方法，其中，提供所述无机材料层包括确定所述无机材料层的以下参数中的一个或多个：落笔高度、碱浸出因子、酸浸出因子、破碎高度、破碎弯曲半径、生存参数、强度参数、裂纹起始载荷、弯曲强度。
56.根据权利要求54或55所述的方法，其中，提供所述无机材料包括根据选自下拉、溢流熔融和再拉伸的方法来制造玻璃或玻璃陶瓷的无机材料层。
57.根据权利要求54或55中的任一项所述的方法，其中，所述方法还包括将聚合物层附接到所述无机材料层上。
58.根据权利要求57所述的方法，其中，将所述聚合物层附接到所述无机材料层上包括将所述聚合物涂覆或层压到所述无机材料层上。
59.根据权利要求54或55中的任一项所述的方法，其中，将粘合剂层附接在所述无机材料层上包括将所述粘合剂层直接涂覆或层压到所述无机材料层上，或者通过将所述粘合剂层涂覆或层压到聚合物层上来将所述粘合剂层间接附接到无机材料上。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNPCT/CN2017/000708 | 2017-11-06 | ||
| CN2017000708 | 2017-11-06 | ||
| PCT/CN2018/085283 WO2019085422A1 (en) | 2017-11-06 | 2018-05-02 | Protective cover, its use and method of making a protective cover |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111566829A CN111566829A (zh) | 2020-08-21 |
| CN111566829B true CN111566829B (zh) | 2022-09-27 |
Family
ID=66332430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201880085543.4A Active CN111566829B (zh) | 2017-11-06 | 2018-05-02 | 保护盖、其用途和制造保护盖的方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20200262746A1 (zh) |
| CN (1) | CN111566829B (zh) |
| WO (1) | WO2019085422A1 (zh) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3863980B1 (en) * | 2018-10-10 | 2024-05-15 | Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. | Ultrathin glass ceramic article and method for producing an ultrathin glass ceramic article |
| DE102019121146A1 (de) | 2019-08-05 | 2021-02-11 | Schott Ag | Heißgeformter chemisch vorspannbarer Glasartikel mit geringem Kristallanteil, insbesondere scheibenförmiger chemisch vorspannbarer Glasartikel, sowie Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung |
| DE102019121147A1 (de) | 2019-08-05 | 2021-02-11 | Schott Ag | Scheibenförmiger, chemisch vorgespannter Glasartikel und Verfahren zu dessen Herstellung |
| CN114269702A (zh) | 2019-08-05 | 2022-04-01 | 肖特股份有限公司 | 化学钢化的或可化学钢化的片状玻璃制品及其制造方法 |
| DE102019215683A1 (de) * | 2019-10-11 | 2021-04-15 | Continental Automotive Gmbh | Deckscheibe und Display mit einer Deckscheibe |
| CN111534240B (zh) * | 2020-04-21 | 2021-06-01 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 曲面屏保护膜及曲面盖板 |
| WO2022036665A1 (en) * | 2020-08-21 | 2022-02-24 | Schott Glass Technologies (Suzhou) Co., Ltd. | Bendable element |
| CN112365804B (zh) * | 2020-11-26 | 2022-11-22 | 武汉天马微电子有限公司 | 显示组件和显示装置 |
| TWI756981B (zh) * | 2020-12-11 | 2022-03-01 | 大陸商寶宸（廈門）光學科技有限公司 | 保護蓋板、觸控面板及觸控面板之製造方法 |
| KR20220091633A (ko) * | 2020-12-23 | 2022-07-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 윈도우 부재, 표시 장치 및 표시 장치 제조 방법 |
| KR20220092722A (ko) * | 2020-12-24 | 2022-07-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 윈도우, 그 윈도우의 제조 방법, 및 그 윈도우를 포함하는 표시 장치 |
| US11493794B2 (en) * | 2021-01-11 | 2022-11-08 | Tpk Advanced Solutions Inc. | Electronic device and method of manufacturing 1HE same |
| US11647645B2 (en) * | 2021-01-13 | 2023-05-09 | Tpk Advanced Solutions Inc. | Cover plate used in electronic device, electronic device, and method of manufacturing cover plate |
| DE202021103861U1 (de) | 2021-07-20 | 2021-10-04 | Schott Ag | Scheibenförmiger, chemisch vorgespannter oder chemisch vorspannbarer Glasartikel |
| CN114388208B (zh) * | 2022-01-28 | 2023-12-15 | 株洲中车奇宏散热技术有限公司 | 一种蛇形电阻弯制方法及撬棒电阻 |
| DE102022125350A1 (de) | 2022-09-30 | 2024-04-04 | Chenfeng Optronics Corporation | Glas und Verfahren zum Herstellen desselben |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105102386A (zh) * | 2013-03-15 | 2015-11-25 | 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 | 化学钢化的柔性超薄玻璃 |
| CN106061658A (zh) * | 2013-12-09 | 2016-10-26 | 3M创新有限公司 | 透明导电多层组件 |
| WO2017123899A1 (en) * | 2016-01-15 | 2017-07-20 | Corning Incorporated | Foldable electronic device assemblies and cover elements for the same |
| CN107109142A (zh) * | 2014-08-11 | 2017-08-29 | 汉高知识产权控股有限责任公司 | 光学透明的热熔性粘合剂及其用途 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19616633C1 (de) * | 1996-04-26 | 1997-05-07 | Schott Glaswerke | Chemisch vorspannbare Aluminosilicatgläser und deren Verwendung |
| US7179535B2 (en) * | 2003-12-17 | 2007-02-20 | Solutia Incorporated | Polymer sheets and multiple layer glass panels having adjustable tint |
| US7990481B2 (en) * | 2006-10-30 | 2011-08-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display device having particular touch sensor protrusion facing sensing electrode |
| JP2009135044A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Tdk Corp | 透明導電材料及び透明導電体 |
| EP2334613A1 (en) * | 2008-08-21 | 2011-06-22 | Corning Inc. | Durable glass housings/enclosures for electronic devices |
| TWI394663B (zh) * | 2010-02-06 | 2013-05-01 | Ushine Photonics Corp | 具反射光調整層之透明導電疊層體 |
| US9725359B2 (en) * | 2011-03-16 | 2017-08-08 | Apple Inc. | Electronic device having selectively strengthened glass |
| US9783452B2 (en) * | 2011-07-01 | 2017-10-10 | Corning Incorporated | Ion-exchanged glass of high surface compression and shallow depth of layer with high resistance to radial crack formation from vickers indentation |
| CN104461145A (zh) * | 2014-12-11 | 2015-03-25 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种触摸屏及其制造方法 |
| US9947882B2 (en) * | 2015-09-25 | 2018-04-17 | Apple Inc. | Electronic devices with robust flexible displays |
| KR102563743B1 (ko) * | 2016-11-11 | 2023-08-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 보호 커버 및 이를 포함하는 표시 장치 |
-
2018
- 2018-05-02 WO PCT/CN2018/085283 patent/WO2019085422A1/en active Application Filing
- 2018-05-02 CN CN201880085543.4A patent/CN111566829B/zh active Active
-
2020
- 2020-05-06 US US16/868,172 patent/US20200262746A1/en active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105102386A (zh) * | 2013-03-15 | 2015-11-25 | 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 | 化学钢化的柔性超薄玻璃 |
| CN106061658A (zh) * | 2013-12-09 | 2016-10-26 | 3M创新有限公司 | 透明导电多层组件 |
| CN107109142A (zh) * | 2014-08-11 | 2017-08-29 | 汉高知识产权控股有限责任公司 | 光学透明的热熔性粘合剂及其用途 |
| WO2017123899A1 (en) * | 2016-01-15 | 2017-07-20 | Corning Incorporated | Foldable electronic device assemblies and cover elements for the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20200262746A1 (en) | 2020-08-20 |
| CN111566829A (zh) | 2020-08-21 |
| WO2019085422A1 (en) | 2019-05-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111566829B (zh) | 保护盖、其用途和制造保护盖的方法 | |
| US20210070650A1 (en) | Ultrathin glass with high impact resistance | |
| TWI758263B (zh) | 顯示螢幕保護器 | |
| CN111601780B (zh) | 具有特定倒角形状和高强度的超薄玻璃 | |
| CN106495507B (zh) | 夹层玻璃 | |
| CN109070548B (zh) | 夹层玻璃和用于夹层玻璃的制造方法 | |
| US11465930B2 (en) | Flexible ultrathin glass with high contact resistance | |
| CN113253879B (zh) | 罩盖构件、具有该罩盖构件的便携信息终端及显示装置 | |
| CN103097319A (zh) | 玻璃片 | |
| JP6991230B2 (ja) | 接触耐性の高いフレキシブル超薄ガラス | |
| WO2020227924A1 (en) | Thin glass substrate with high bending strength and method for producing same | |
| CN112939452A (zh) | 具有高表面压应力的超薄柔性玻璃盖板及其制备方法、平板玻璃 | |
| US20230271880A1 (en) | Glass-based articles with sections of different thicknesses | |
| CN113003945A (zh) | 玻璃制品和包括玻璃制品的显示装置 | |
| CN112979158A (zh) | 玻璃制品 | |
| US20220055348A1 (en) | Bendable element | |
| CN113526878A (zh) | 玻璃制品及包括该玻璃制品的显示装置 | |
| JP2022509839A (ja) | 薄型の多層積層体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |