CN111547756A - 一种含有机物的氯化钙废液的处理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种含有机物的氯化钙废液的处理方法，包括如下步骤：S1，向含有机物的氯化钙废液中加入硫酸钠进行沉淀反应生成硫酸钙和氯化钠，废液中的氯化钙与硫酸钠的物质的量比为1.05～1.1：1；S2，沉淀反应后向废液中加入过量碳酸钠，静止澄清，固液分离，得到沉降固体和不含固体的水溶液；S3，沉降固体经洗涤，压滤，得到硫酸钙产品；向不含固体的水溶液中加入盐酸，调节pH至6.8～7.2，然后蒸发结晶得到含有机物的固体盐，采用自蔓延热解焚烧工艺去除固体盐中的有机物，得到氯化钠产品。其能够有效去除废液中的有机物，实现产物的资源化利用，降低处理难度，可靠性好。
Description
技术领域
本发明涉及废液处理技术领域，具体涉及含有机物的氯化钙废液的处理方法。
背景技术
氯化钙废液主要来源于环氧丙烷、环氧氯丙烷等采用钙法皂化工艺生产过程，主要是在工艺中添加氢氧化钙来中和工艺中产生的盐酸，最后产生的一种高含盐、含有机物的废水。
氯化钙废液中钙含量较大，若采用常规蒸发结晶方式，将氯化钙以固体盐形式蒸出，可能会导致蒸发设备结垢，堵塞管道，进而无法有效进行蒸发。在实际生产过程中，堵塞管道将严重影响设备的运行，且检修过程非常繁琐。同时，氯化钙作为副产品，用途较少，对副产品质量要求较高，也带来后端产品出路问题。
并且氯化钙废液中含有一定量的有机物，有机物的存在增加了氯化钙废液的处置难度以及处置成本，同时不利于后续副产物的资源化利用。
发明内容
本发明的目的是提供一种含有机物的氯化钙废液的处理方法，其能够有效去除废液中的有机物，实现产物的资源化利用，降低处理难度，可靠性好。
本发明所述的含有机物的氯化钙废液的处理方法，包括如下步骤：
S1，向含有机物的氯化钙废液中加入硫酸钠进行沉淀反应生成硫酸钙和氯化钠，废液中的氯化钙与硫酸钠的物质的量比为1.05～1.1：1；
S2，沉淀反应后向废液中加入过量碳酸钠，静止澄清，固液分离，得到沉降固体和不含固体的水溶液；
S3，沉降固体经洗涤，压滤，得到硫酸钙产品；
向不含固体的水溶液中加入盐酸，调节pH至6.8～7.2，然后蒸发结晶得到含有机物的固体盐，采用自蔓延热解焚烧工艺去除固体盐中的有机物，得到氯化钠产品。
进一步，所述S1中加入硫酸钠的同时加入硫酸钙粉末，所述硫酸钙粉末和硫酸钠的物质的量比为1：1000。
进一步，所述硫酸钙粉末由S3得到的硫酸钙产品破碎制得。
进一步，硫酸钙粉末的粒度不大于200目。
进一步，所述S3中的压滤为板框压滤、厢式压滤或隔膜压滤。
进一步，所述S3中采用多级逆流水洗方式洗涤沉降固体。
本发明与现有技术相比具有如下有益效果。
1、本发明通过在含有机物的氯化钙废液中加入硫酸钠，使得废液中的氯化钙与硫酸钠反应生成硫酸钙沉淀和氯化钠溶液。反应生成的硫酸钙沉淀经洗涤、压滤后得到硫酸钙产品，反应生成的氯化钠溶液经蒸发结晶得到含有机物的固体盐，采用自蔓延热解焚烧工艺去除固体盐中的有机物，得到氯化钠产品。通过自蔓延热解焚烧工艺有效去除了废液中的有机物，得到的硫酸钙产品和氯化钠产品能够直接作为其他工业原料使用，实现了副产物的资源化利用。处理条件温和，降低了处理难度，可靠性好。
2、本发明在加入硫酸钠的同时加入硫酸钙粉末，促进了沉淀反应速度，提高了处理效率。并且该硫酸钙粉末由得到的硫酸钙产品破碎制得，实现了副产物的循环使用，节约了生产制造成本。
3、本发明采用自蔓延热解焚烧工艺去除固体盐中的有机物，处理过程中不会引入其他金属离子和难降解有机物，进而确保氯化钠产品的纯度。
附图说明
图1是本发明的处理流程示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作详细说明。
实施例一，参见图1，所示的含有机物的氯化钙废液的处理方法，包括如下步骤：
S1，将含有机物的氯化钙废液置于沉淀反应池中，所述废液中氯化钙的物质的量浓度为2.29mol/L，再配制与氯化钙废液等体积的物质的量浓度为2.18mol/L的硫酸钠溶液，将配制的硫酸钠溶液加入到上述含有机物的氯化钙废液中，添加硫酸钠溶液的同时加入硫酸钠质量的1‰g的硫酸钙粉末，沉淀反应生成硫酸钙和氯化钠。
S2，沉淀反应后将混合物转入澄清池，加入过量碳酸钠，以除去混合物中多余的钙离子，生成少量的碳酸钙沉淀。静止澄清一段时间，然后通过泵体抽出澄清池底部沉淀，实现固液分离，得到沉降固体和不含固体的水溶液。
S3，沉降固体首先进行多级逆流清洗，将沉降固体中残留的有机物和氯化钠充分洗净，然后采用板框压滤进行脱水，得到硫酸钙产品。
将不含固体的水溶液转入二级反应池中，加入盐酸，调节pH至6.9，将过量碳酸钠中和生成氯化钠。然后蒸发结晶得到含有机物的固体盐，采用自蔓延热解焚烧工艺去除固体盐中的有机物，得到氯化钠产品。
分别对含有机物的氯化钙废液以及得到的产品进行检测，具体检测数据参见表1。
表1TOC和产品纯度检测
由表1可知，经上述处理方法的得到的硫酸钙产品的TOC值为15ppm，氯化钠产品的TOC值为8ppm，远远低于废液的TOC值，表明了该处理方法有效去除了废液中的有机物。并且得到的硫酸钙产品纯度为98.2％，氯化钠产品纯度为99.1％，得到的高纯度硫酸钙产品和氯化钠产品能够直接作为其他工业原料使用，实现了副产物的资源化利用。
实施例二，一种含有机物的氯化钙废液的处理方法，包括如下步骤：
S1，将含有机物的氯化钙废液置于沉淀反应池中，所述废液中氯化钙的物质的量浓度为2.29mol/L，再配制与氯化钙废液等体积的物质的量浓度为2.12mol/L的硫酸钠溶液，将配制的硫酸钠溶液加入到上述含有机物的氯化钙废液中，添加硫酸钠溶液的同时加入硫酸钠质量的1‰g的硫酸钙粉末，沉淀反应生成硫酸钙和氯化钠。
S2，沉淀反应后将混合物转入澄清池，加入过量碳酸钠，以除去混合物中多余的钙离子，生成少量的碳酸钙沉淀。静止澄清一段时间，然后通过泵体抽出澄清池底部沉淀，实现固液分离，得到沉降固体和不含固体的水溶液。
S3，沉降固体首先进行多级逆流清洗，将沉降固体中残留的有机物和氯化钠充分洗净，然后采用板框压滤进行脱水，得到硫酸钙产品。
将不含固体的水溶液转入二级反应池中，加入盐酸，调节pH至7.0，将过量碳酸钠中和生成氯化钠。然后蒸发结晶得到含有机物的固体盐，采用自蔓延热解焚烧工艺去除固体盐中的有机物，得到氯化钠产品。
分别对含有机物的氯化钙废液以及得到的产品进行检测，具体检测数据参见表2。
表2TOC和产品纯度检测
由表2可知，得到的硫酸钙产品和氯化钠产品的TOC值都很低，且纯度较高。
实施例三，一种含有机物的氯化钙废液的处理方法，包括如下步骤：
S1，将含有机物的氯化钙废液置于沉淀反应池中，所述废液中氯化钙的物质的量浓度为2.29mol/L，再配制与氯化钙废液等体积的物质的量浓度为2.08mol/L的硫酸钠溶液，将配制的硫酸钠溶液加入到上述含有机物的氯化钙废液中，添加硫酸钠溶液的同时加入硫酸钠质量的1‰g的硫酸钙粉末，沉淀反应生成硫酸钙和氯化钠。
S2，沉淀反应后将混合物转入澄清池，加入过量碳酸钠，以除去混合物中多余的钙离子，生成少量的碳酸钙沉淀。静止澄清一段时间，然后通过泵体抽出澄清池底部沉淀，实现固液分离，得到沉降固体和不含固体的水溶液。
S3，沉降固体首先进行多级逆流清洗，将沉降固体中残留的有机物和氯化钠充分洗净，然后采用板框压滤进行脱水，得到硫酸钙产品。
将不含固体的水溶液转入二级反应池中，加入盐酸，调节pH至7.2，将过量碳酸钠中和生成氯化钠。然后蒸发结晶得到含有机物的固体盐，采用自蔓延热解焚烧工艺去除固体盐中的有机物，得到氯化钠产品。
分别对含有机物的氯化钙废液以及得到的产品进行检测，具体检测数据参见表2。
表3TOC和产品纯度检测
由表3可知，得到的硫酸钙产品和氯化钠产品的TOC值都很低，且纯度较高。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种含有机物的氯化钙废液的处理方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1，向含有机物的氯化钙废液中加入硫酸钠进行沉淀反应生成硫酸钙和氯化钠，废液中的氯化钙与硫酸钠的物质的量比为1.05～1：1；
S2，沉淀反应后向废液中加入过量碳酸钠，静止澄清，固液分离，得到沉降固体和不含固体的水溶液；
S3，沉降固体经洗涤，压滤，得到硫酸钙产品；
向不含固体的水溶液中加入盐酸，调节pH至6.8～7.2，然后蒸发结晶得到含有机物的固体盐，采用自蔓延热解焚烧工艺去除固体盐中的有机物，得到氯化钠产品。
2.根据权利要求1所述的含有机物的氯化钙废液的处理方法，其特征在于：所述S1中加入硫酸钠的同时加入硫酸钙粉末，所述硫酸钙粉末和硫酸钠的物质的量比为1：1000。
3.根据权利要求2所述的含有机物的氯化钙废液的处理方法，其特征在于：所述硫酸钙粉末由S3得到的硫酸钙产品破碎制得。
4.根据权利要求2所述的含有机物的氯化钙废液的处理方法，其特征在于：所述硫酸钙粉末的粒度不大于200目。
5.根据权利要求1或2所述的含有机物的氯化钙废液的处理方法，其特征在于：所述S3中的压滤为板框压滤、厢式压滤或隔膜压滤。
6.根据权利要求1或2所述的含有机物的氯化钙废液的处理方法，其特征在于：所述S3中采用多级逆流水洗方式洗涤沉降固体。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20200818 |
|
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